特許 6223906 処理液交換方法および液処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6223906

(24)【登録日】2017年10月13日

(45)【発行日】2017年11月1日

(54)【発明の名称】処理液交換方法および液処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20171023BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20171023BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/304 648F

   H01L21/304 648Z

   H01L21/304 648K

   H01L21/304 648G

   H01L21/306 J

【請求項の数】4

【全頁数】16

(21)【出願番号】特願2014-103706(P2014-103706)

(22)【出願日】2014年5月19日

(65)【公開番号】特開2015-220374(P2015-220374A)

(43)【公開日】2015年12月7日

【審査請求日】2016年9月12日

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100089118

【弁理士】

【氏名又は名称】酒井 宏明

(72)【発明者】

【氏名】滝本 雄二

(72)【発明者】

【氏名】森 禎道

(72)【発明者】

【氏名】笠原 政俊

【審査官】 加藤 芳健

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１３−１７５５５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２０１３３０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６

Ｂ０８Ｂ ３／０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理液を貯留するタンクと、前記タンクから送られる処理液を前記タンクへ戻す循環ラインと、分岐ラインを介して前記循環ラインに接続され、前記循環ラインから前記分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板を処理する処理部と、前記循環ラインに設けられ、前記循環ラインを流れる処理液から異物を除去するフィルタとを備える液処理装置における処理液交換方法であって、
前記タンクに貯留された処理液を前記タンクから排出する排出工程と、
前記排出工程後、前記タンクに処理液を貯留する貯留工程と、
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、前記循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給して前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄工程と、
前記フィルタ洗浄工程後、前記遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換工程と
を含み、
前記貯留工程は、
前記フィルタ洗浄工程と並行して行われるとともに、前記フィルタ洗浄工程後、前記置換工程と並行して行われ、
前記フィルタ洗浄工程は、
前記貯留工程において、前記タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、
前記置換工程は、
前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、前記遮断された区間における前記フィルタの上流側を開放することによって、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換すること
を特徴とする処理液交換方法。

【請求項2】

前記置換工程は、
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側の一方に設けられるとともに、中途部に洗浄液の供給ラインが接続される第１ドレンラインを開放し、前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側の他方に設けられる第２ドレンラインを遮断した状態で、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給する第１置換工程と、
前記第１ドレンラインを遮断し、前記第２ドレンラインを開放した状態で、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給する第２置換工程と
を含むことを特徴とする請求項１に記載の処理液交換方法。

【請求項3】

前記置換工程後、前記タンク内の処理液を前記循環ラインに循環させる循環工程
を含み、
前記置換工程後、前記貯留工程と前記循環工程とを並行して行うこと
を特徴とする請求項１または２に記載の処理液交換方法。

【請求項4】

処理液を貯留するタンクと、前記タンクから送られる処理液を前記タンクへ戻す循環ラインと、分岐ラインを介して前記循環ラインに接続され、前記循環ラインから前記分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板を処理する処理部と、前記循環ラインに設けられ、前記循環ラインを流れる処理液から異物を除去するフィルタとを備える液処理装置であって、
前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側に設けられる第１バルブと、
前記循環ラインにおける前記フィルタの下流側に設けられる第２バルブと、
前記タンクに貯留された処理液を前記タンクから排出する排出処理と、前記排出処理後、前記タンクに処理液を貯留する貯留処理と、前記第１バルブおよび前記第２バルブを閉じることによって前記循環ラインにおける前記フィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、前記循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給して前記フィルタを洗浄するフィルタ洗浄処理と、前記フィルタ洗浄処理後、前記遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換処理とを実行する制御部と
を備え、
前記貯留処理は、
前記フィルタ洗浄処理と並行して行われるとともに、前記フィルタ洗浄処理後、前記置換処理と並行して行われ、
前記フィルタ洗浄処理は、
前記貯留処理において、前記タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、
前記置換処理は、
前記遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、前記遮断された区間における前記フィルタの上流側を開放することによって、前記タンクに貯留された処理液を前記循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換すること
を特徴とする液処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

開示の実施形態は、処理液交換方法および液処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体装置の製造においては、半導体ウェハ等の基板に対し、たとえばフッ酸などの処理液を用いた液処理が行われる。このような液処理を行う液処理装置には、液処理装置に組み込まれた各処理ユニットに処理液を供給する処理液循環システムが設けられる。

【0003】

処理液循環システムは、処理液を貯留するタンクと、タンクに接続された循環ラインを備える。循環ラインにはポンプが設けられ、ポンプによりタンクから処理液が送り出され、再びタンクに戻される。循環ラインの途中には、複数台の処理ユニットが各々の分岐ラインを介して並列に接続される。各処理ユニットは、タンクから循環ラインおよび分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板に所定の液処理を施す。

【0004】

また、液処理装置は、各処理ユニットにおいて使用された処理液を回収して再利用する場合がある。回収した処理液には、異物が混在しているおそれがある。このため、処理液循環システムの循環ラインには、処理液に含まれる異物を除去するフィルタが設けられる。

【0005】

かかる液処理装置では、タンクに貯留された処理液を新しい処理液に交換する処理が、たとえば定期的に実施される。また、この処理の実施に際し、フィルタに付着した異物を取り除くためにフィルタを洗浄する処理も併せて実施される。

【0006】

たとえば、特許文献１には、上記処理液循環システムにおける処理液交換方法が開示されている。具体的には、タンクから古い処理液を全て排出した後、処理液と異なる洗浄液をタンクに貯留し、タンク内の洗浄液をポンプを用いて循環させることにより、フィルタを含む処理液循環システム全体を洗浄液で洗浄する。その後、タンク内の洗浄液を全て排出し、タンクに処理液を貯留した後、処理液を循環させて処理液循環システム全体を処理液でとも洗いする。そして、とも洗いに用いた処理液を全て排出した後、新しい処理液をタンクに貯留する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２０１３−１７５５５２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかしながら、上述した従来技術には、処理液の交換に要する時間を短縮するという点でさらなる改善の余地がある。

【0009】

実施形態の一態様は、処理液の交換に要する時間を短縮することのできる処理液交換方法および液処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

実施形態の一態様に係る処理液交換方法は、処理液を貯留するタンクと、タンクから送られる処理液をタンクへ戻す循環ラインと、分岐ラインを介して循環ラインに接続され、循環ラインから分岐ラインを介して供給される処理液を用いて基板を処理する処理部と、循環ラインに設けられ、循環ラインを流れる処理液から異物を除去するフィルタとを備える液処理装置における処理液交換方法であって、排出工程と、貯留工程と、フィルタ洗浄工程と、置換工程とを含む。排出工程は、タンクに貯留された処理液をタンクから排出する。貯留工程は、排出工程後、タンクに処理液を貯留する。フィルタ洗浄工程は、循環ラインにおけるフィルタの上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、循環ラインの遮断された区間に洗浄液を供給してフィルタを洗浄する。置換工程は、フィルタ洗浄工程後、遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。また、貯留工程は、フィルタ洗浄工程と並行して行われるとともに、フィルタ洗浄工程後、置換工程と並行して行われる。フィルタ洗浄工程は、貯留工程において、タンクに対して処理液を予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留した場合に、遮断された区間への洗浄液の供給を停止する。置換工程は、遮断された区間への洗浄液の供給を停止した後、遮断された区間におけるフィルタの上流側を開放することによって、タンクに貯留された処理液を循環ラインに供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。

【発明の効果】

【0011】

実施形態の一態様によれば、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】図１は、本実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す図である。

【図2】図２は、処理流体供給源の構成を示す図である。

【図3】図３は、処理流体供給源の具体的な構成の一例を示す図である。

【図4】図４は、本実施形態に係る液処理装置が実行する処理液交換処理の概要を示す図である。

【図5】図５は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図6】図６は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図7】図７は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図8】図８は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図9】図９は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図10】図１０は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図11】図１１は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【図12】図１２は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、添付図面を参照して、本願の開示する処理液交換方法および液処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。

【0014】

図１は、本実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。

【0015】

図１に示すように、液処理装置１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。

【0016】

搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。

【0017】

搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。

【0018】

処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。

【0019】

搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。

【0020】

処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して処理液を用いた液処理を行う。

【0021】

また、液処理装置１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、液処理装置１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって液処理装置１の動作を制御する。

【0022】

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

【0023】

上記のように構成された液処理装置１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。

【0024】

処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、処理ユニット１６によって処理液による液処理が施された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。

【0025】

液処理装置１は、処理ユニット１６に対して処理液を供給する処理流体供給源をさらに備える。かかる処理流体供給源の構成について図２を参照して説明する。図２は、処理流体供給源の構成を示す図である。

【0026】

図２に示すように、液処理装置は、基板に対して液処理を行う複数の処理ユニット（液処理ユニット）１６と、処理ユニット１６に処理液を供給する処理流体供給源７０を有している。

【0027】

処理流体供給源７０は、処理液を貯留するタンク１０２と、タンク１０２から出てタンク１０２に戻る循環ライン１０４とを有している。循環ライン１０４にはポンプ１０６が設けられている。ポンプ１０６は、タンク１０２から出て循環ライン１０４を通りタンク１０２に戻る循環流を形成する。ポンプ１０６の下流側において循環ライン１０４には、処理液に含まれるパーティクル等の汚染物質を除去するフィルタ１０８が設けられている。必要に応じて、循環ライン１０４に補機類（例えばヒータ等）をさらに設けてもよい。

【0028】

循環ライン１０４に設定された接続領域１１０に、１つまたは複数の分岐ライン１１２が接続されている。各分岐ライン１１２は、循環ライン１０４を流れる処理液を対応する処理ユニット１６に供給する。各分岐ライン１１２には、必要に応じて、流量制御弁等の流量調整機構、フィルタ等を設けることができる。

【0029】

液処理装置は、タンク１０２に、処理液または処理液構成成分を補充するタンク液補充部１１６を有している。タンク１０２には、タンク１０２内の処理液を廃棄するためのドレン部１１８が設けられている。

【0030】

つづいて、処理流体供給源７０の具体的な構成について図３を参照して説明する。図３は、処理流体供給源７０の具体的な構成の一例を示す図である。

【0031】

なお、本実施形態では、処理液として有機系の薬液が用いられるものとするが、処理液は、たとえばＳＣ１（アンモニア、過酸化水素および水の混合液）、ＳＣ２（塩酸、過酸化水素および水の混合液）、フッ酸等であってもよい。

【0032】

図３に示すように、循環ライン１０４には、フィルタ１０８の下流側にヒータ１０９が設けられる。ヒータ１０９は、循環ライン１０４を流れる処理液を加熱する。

【0033】

また、循環ライン１０４には、フィルタ１０８の上流側かつポンプ１０６の下流側に第１バルブ３０１が配置され、フィルタ１０８の下流側かつヒータ１０９の上流側に第２バルブ３０２が配置される。

【0034】

本実施形態に係る液処理装置１では、これら第１バルブ３０１および第２バルブ３０２を閉じることにより、フィルタ１０８を含む第１バルブ３０１から第２バルブ３０２までの区間を遮断することができる。

【0035】

また、第１バルブ３０１から第２バルブ３０２までの区間のうち、フィルタ１０８の上流側には第１ドレンライン２０１が設けられ、下流側には第２ドレンライン２０２が設けられる。第１ドレンライン２０１には第３バルブ３０３が設けられ、第２ドレンライン２０２には第４バルブ３０４が設けられる。

【0036】

また、第１ドレンライン２０１の第３バルブ３０３よりも上流側の中途部には、洗浄液としてのＤＩＷを循環ライン１０４へ供給するための第１供給ライン２０３が設けられる。第１供給ライン２０３には、第５バルブ３０５が設けられる。

【0037】

洗浄液としてのＤＩＷは、たとえば常温（２０℃程度）の純水である。なお、洗浄力を高めるために、所定の温度に加熱したＤＩＷを用いてもよい。また、ＤＩＷに限らず、たとえばＳＣ１などの他の液体を洗浄液として用いてもよい。

【0038】

また、フィルタ１０８には、エア抜き用のベントライン２０４の一端が接続される。ベントライン２０４の他端は、タンク１０２に接続される。

【0039】

ベントライン２０４には、第６バルブ３０６と第３ドレンライン２０５とが設けられる。第３ドレンライン２０５は、第６バルブ３０６よりも下流側に設けられる。第３ドレンライン２０５には、第７バルブ３０７が設けられる。

【0040】

また、フィルタ１０８には、第４ドレンライン２０６と、第５ドレンライン２０７とが設けられる。第４ドレンライン２０６は、フィルタ１０８の一次側に接続され、第５ドレンライン２０７は、フィルタ１０８の二次側に接続される。第４ドレンライン２０６には、第８バルブ３０８が設けられ、第５ドレンライン２０７には、第９バルブ３０９が設けられる。

【0041】

また、循環ライン１０４には、ヒータ１０９の下流側に、排液用気体としてのＮ２を循環ライン１０４へ供給するための第２供給ライン２０８が設けられる。第２供給ライン２０８には、第１０バルブ３１０が設けられる。

【0042】

また、処理流体供給源７０は、回収ライン１１３を備える。回収ライン１１３は、各処理ユニット１６に一端が接続されるとともに、他端がタンク１０２に接続される。各処理ユニット１６において使用された処理液は、かかる回収ライン１１３を通ってタンク１０２に回収される。

【0043】

また、タンク液補充部１１６からタンク１０２への供給ラインには、第１１バルブ３１１が設けられ、ドレン部１１８には、第１２バルブ３１２が設けられる。

【0044】

また、処理流体供給源７０は、タンク１０２に貯留された処理液の液位を検知するための第１センサＬＬ、第２センサＬＪおよび第３センサＨを備える。

【0045】

第１センサＬＬは、タンク１０２内の処理液が空になったことを検知するためのセンサであり、タンク１０２の底部近傍に配置される。また、第３センサＨは、処理液がタンク１０２に対して予め決められた最大液位まで貯留されたことを検知するためのセンサであり、タンク１０２の頂部近傍に配置される。また、第２センサＬＪは、処理液がタンク１０２の最大液位よりも低い所定の液位まで貯留されたことを検知するためのセンサであり、第１センサＬＬと第３センサＨとの間に配置される。

【0046】

上記のように構成された液処理装置１では、たとえば処理液が劣化した場合、あるいは、使用する処理液の種類を変更する場合に、タンク１０２に貯留された処理液を新しい処理液に交換する処理液交換処理が行われる。ここで、本実施形態に係る液処理装置１において実行される処理液の交換処理の手順について説明する。

【0047】

まず、本実施形態に係る液処理装置１が実行する処理液交換処理の概要について図４を参照して説明する。図４は、本実施形態に係る液処理装置１が実行する処理液交換処理の概要を示す図である。

【0048】

図４に示すように、液処理装置１は、処理液交換処理として、排出処理（Ｓ０１）、貯留処理（Ｓ０２）、フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）、置換処理（Ｓ０４）および循環処理（Ｓ０５）を行う。

【0049】

排出処理（Ｓ０１）は、タンク１０２に貯留された処理液をドレン部１１８経由でタンク１０２から排出する処理である。貯留処理（Ｓ０２）は、排出処理後、タンク１０２に処理液を貯留する処理である。フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）は、循環ライン１０４に洗浄液としてのＤＩＷを供給してフィルタ１０８を洗浄する処理である。置換処理（Ｓ０４）は、フィルタ洗浄処理後、循環ライン１０４等に残存する洗浄液を処理液に置換する処理である。循環処理（Ｓ０５）は、置換処理後、タンク１０２内の処理液を循環ライン１０４に循環させる処理である。

【0050】

本実施形態に係る液処理装置１は、フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）、置換処理（Ｓ０４）および循環処理（Ｓ０５）を貯留処理（Ｓ０２）と並行して実施することにより、処理液の交換に要する時間を短縮することとしている。かかる処理液交換処理の具体的な手順について図５〜図１２を参照して説明する。図５〜図１２は、処理液交換処理の手順を示す図である。

【0051】

ここで、図５〜図１２のうち、図５および図６には、排出処理（Ｓ０１）の処理手順を、図７には、貯留処理（Ｓ０２）およびフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）の処理手順を、図８および図９には、貯留処理（Ｓ０２）および置換処理（Ｓ０４）の処理手順を、図１０〜図１２には、貯留処理（Ｓ０２）および循環処理（Ｓ０５）の処理手順をそれぞれ示している。

【0052】

また、液処理装置１は、制御部１８の制御に従って図５〜図１２に示す各処理手順を実行する。制御部１８は、たとえばＣＰＵ（Central Processing Unit）であり、記憶部１９に記憶された図示しないプログラムを読み出して実行することによって液処理装置１の動作を制御する。なお、制御部１８は、プログラムを用いずにハードウェアのみで構成されてもよい。

【0053】

なお、処理液交換処理の実行前において、ポンプ１０６およびヒータ１０９は、停止した状態であるものとする。また、処理液交換処理の実行前において、第１バルブ３０１、第２バルブ３０２および第６バルブ３０６は開状態であり、その他のバルブ、具体的には、第３バルブ３０３〜第５バルブ３０５および第７バルブ３０７〜第１２バルブ３１２は閉状態であるものとする。

【0054】

図５に示すように、制御部１８は、第１２バルブ３１２を開くことにより、タンク１０２に貯留された処理液をドレン部１１８経由で外部へ排出する。

【0055】

また、制御部１８は、上記の処理と並行して、第３バルブ３０３、第４バルブ３０４および第１０バルブ３１０を開くことにより、循環ライン１０４に排出用気体としてのＮ２を供給する。循環ライン１０４に供給されたＮ２は、主に、第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２を経由して外部へ排出される。これにより、主にヒータ１０９およびフィルタ１０８間並びにその周辺に残存する処理液を外部へ排出することができる。

【0056】

つづいて、制御部１８は、第１センサＬＬからの信号に基づき、タンク１０２内の処理液がすべて排出されたと判定すると、図６に示すように、第１０バルブ３１０を閉じることにより、循環ライン１０４へのＮ２の供給を停止する。そして、制御部１８は、第２バルブ３０２を閉じた後、ポンプ１０６を作動させる。これにより、主にタンク１０２および第２バルブ３０２間に残存する処理液が、第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２を経由して外部に排出される。

【0057】

その後、制御部１８は、ポンプ１０６を停止した後、所定時間待機することにより、循環ライン１０４内に残存する処理液を自重で外部へ排出させる。

【0058】

つづいて、制御部１８は、貯留処理（Ｓ０２）およびフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）を開始する。

【0059】

まず、貯留処理（Ｓ０２）の手順について説明する。図７に示すように、制御部１８は、第１バルブ３０１を閉じる。これにより、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２間の循環ライン１０４が他の区間の循環ライン１０４から遮断される。また、制御部１８は、第３バルブ３０３、第６バルブ３０６および第１２バルブ３１２を閉じ、第７バルブ３０７を開く。

【0060】

そして、制御部１８は、第１１バルブ３１１を開くことにより、タンク１０２への処理液の貯留を開始する。

【0061】

つづいて、フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）の手順について説明する。制御部１８は、第５バルブ３０５を開くことにより、循環ライン１０４の遮断された区間、すなわち、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２間の循環ライン１０４に洗浄液としてのＤＩＷを供給する。なお、ＤＩＷは、第１供給ライン２０３および第１ドレンライン２０１を介して循環ライン１０４へ供給される。

【0062】

循環ライン１０４の遮断された区間には、フィルタ１０８が含まれる。このため、フィルタ１０８は、循環ライン１０４の遮断された区間に供給されるＤＩＷによって洗浄される。また、循環ライン１０４の遮断された区間に供給されたＤＩＷは、第２ドレンライン２０２または第３ドレンライン２０５から外部へ排出される。

【0063】

このように、循環ライン１０４のフィルタ１０８を含む一部の区間を遮断することにより、貯留処理（Ｓ０２）とフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）とを並行して行うことが可能となる。そして、貯留処理とフィルタ洗浄処理とを並行して行うことで、本実施形態に係る液処理装置１によれば、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。

【0064】

なお、ここでは、貯留処理（Ｓ０２）とフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）とを同時に開始する場合の例について説明したが、貯留処理（Ｓ０２）とフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）とは必ずしも同時に開始されることを要しない。たとえば、制御部１８は、排出処理が終了する前にフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）を開始し、排出処理が終了した後に貯留処理（Ｓ０２）を開始してもよい。

【0065】

つづいて、制御部１８は、第２センサＬＪからの信号に基づき、タンク１０２内に処理液が所定の液位まで貯留されたと判定すると、図８に示すように、第５バルブ３０５を閉じて、循環ライン１０４へのＤＩＷの供給を停止する。

【0066】

つづいて、制御部１８は、置換処理（Ｓ０４）を開始する。具体的には、制御部１８は、第１バルブ３０１を開くことにより、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２によって遮断された区間のうちフィルタ１０８の上流側を開放する。また、制御部１８は、第４バルブ３０４を閉じ、第３バルブ３０３を開く。

【0067】

そして、制御部１８は、ポンプ１０６を作動させる。これにより、タンク１０２に貯留された処理液が、循環ライン１０４における第１バルブ３０１および第２バルブ３０２によって遮断されていた区間に供給されて、かかる区間に残存するＤＩＷが処理液に置換される。処理液およびＤＩＷは、第１ドレンライン２０１から外部へ排出される。この際、第１ドレンライン２０１に残存するＤＩＷも一緒に外部へ排出することができる。

【0068】

また、制御部１８は、図９に示すように、第３バルブ３０３を閉じ、第４バルブ３０４を開く。これにより、処理液およびＤＩＷは、第２ドレンライン２０２から外部へ排出される。この際、第２ドレンライン２０２に残存するＤＩＷも一緒に外部へ排出することができる。

【0069】

このように、本実施形態に係る液処理装置１は、フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）だけでなく、置換処理（Ｓ０４）も貯留処理（Ｓ０２）と並行して行う。すなわち、液処理装置１は、タンク１０２に対して処理液が予め決められた最大液位よりも低い所定の液位まで貯留された場合に、遮断された区間への洗浄液の供給を停止し、遮断された区間におけるフィルタ１０８の上流側を開放することによって、タンク１０２に貯留された処理液を循環ライン１０４に供給して残存する洗浄液を処理液に置換する。したがって、本実施形態に係る液処理装置１によれば、処理液の交換に要する時間をさらに短縮することができる。

【0070】

また、液処理装置１によれば、循環ライン１０４全体でなく、フィルタ１０８を含む一部の区間に限定して洗浄液としてのＤＩＷを供給することで、後述する置換処理に要する時間を短縮することができる。

【0071】

また、液処理装置１は、第１ドレンライン２０１を開放し、第２ドレンライン２０２を遮断した状態で、タンク１０２に貯留された処理液を循環ライン１０４に供給する処理（第１置換処理）と、第１ドレンライン２０１を遮断し、第２ドレンライン２０２を開放した状態で、タンク１０２に貯留された処理液を循環ライン１０４に供給する処理（第２置換処理）とを行う。このため、第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２に残存するＤＩＷを外部へ排出することができる。

【0072】

なお、上記の置換処理を行う場合、第３バルブ３０３および第４バルブ３０４の両方を開放して第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２に対する置換処理を同時に行うことも考えられる。しかしながら、このようにした場合、フィルタ１０８が圧損となることで、フィルタ１０８の上流側に位置する第１ドレンライン２０１と比べて、フィルタ１０８の下流側に位置する第２ドレンライン２０２に処理液が流れにくくなる。この結果、第２ドレンライン２０２に残存するＤＩＷを処理液に置換するのに時間がかかってしまう。これに対し、液処理装置１では、第１ドレンライン２０１に対する置換処理である第１置換処理と、第２ドレンライン２０２に対する置換処理である第２置換処理とを順番に行うこととしているため、各ドレンライン２０１，２０２に残存するＤＩＷの処理液への置換を短時間で行うことができる。

【0073】

つづいて、制御部１８は、図１０に示すように、ポンプ１０６を停止する。これにより、タンク１０２から循環ライン１０４への処理液の供給が停止され、タンク１０２に処理液が貯留される。また、制御部１８は、第２バルブ３０２を開く。これにより、循環ライン１０４が遮断された状態が解除される。

【0074】

なお、制御部１８は、置換処理（Ｓ０４）においてタンク１０２へ供給される処理液の流量を、たとえば貯留処理（Ｓ０２）においてタンク１０２へ供給される処理液の流量と比べて増加させることが望ましい。具体的には、置換処理（Ｓ０４）では、タンク１０２から排出される処理液の量よりも多い量の処理液をタンク１０２へ供給することが望ましい。タンク１０２内の処理液を所定の液位付近まで貯留させることができるため、次に行われる循環処理（Ｓ０５）の開始を早めることができる。

【0075】

つづいて、制御部１８は、循環処理（Ｓ０５）を開始する。具体的には、第２センサＬＪからの信号に基づき、タンク１０２内に処理液が所定の液位まで貯留されたと判定すると、図１１に示すように、ポンプ１０６およびヒータ１０９を作動させる。これにより、タンク１０２への処理液の貯留と並行して、タンク１０２から循環ライン１０４への処理液の供給が開始される。そして、循環ライン１０４へ供給された処理液は、ヒータ１０９によって加熱されて、再びタンク１０２へ戻される。

【0076】

そして、制御部１８は、第３センサＨからの信号に基づき、タンク１０２内に処理液が予め決められた最大液位まで貯留されたと判定すると、図１２に示すように、第１１バルブ３１１を閉じて、タンク液補充部１１６からタンク１０２への処理液の供給を停止する。これにより、一連の処理液交換処理が終了する。

【0077】

このように、本実施形態に係る液処理装置１は、フィルタ洗浄処理や置換処理だけでなく、循環処理も貯留処理と並行して行う。すなわち、液処理装置１は、貯留処理が終了する前から循環処理を開始することで、処理液の交換に要する時間をさらに短縮することができる。

【0078】

上述してきたように、本実施形態に係る液処理装置１は、タンク１０２と、循環ライン１０４と、処理ユニット１６（「処理部」の一例に相当）と、フィルタ１０８と、第１バルブ３０１と、第２バルブ３０２と、制御部１８を備える。タンク１０２は、処理液を貯留する。循環ライン１０４は、タンク１０２から送られる処理液をタンク１０２へ戻す。処理ユニット１６は、分岐ライン１１２を介して循環ライン１０４に接続され、循環ライン１０４から分岐ライン１１２を介して供給される処理液を用いて基板を処理する。フィルタ１０８は、循環ライン１０４に設けられ、循環ライン１０４を流れる処理液から異物を除去する。第１バルブ３０１は、循環ライン１０４におけるフィルタ１０８の上流側に設けられる。第２バルブ３０２は、循環ライン１０４におけるフィルタの下流側に設けられる。制御部１８は、タンク１０２に貯留された処理液をタンク１０２から排出する排出処理と、排出処理後、タンク１０２に処理液を貯留する貯留処理と、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２を閉じることによって循環ライン１０４におけるフィルタ１０８の上流側および下流側をそれぞれ遮断した後、循環ライン１０４の遮断された区間に洗浄液を供給してフィルタ１０８を洗浄するフィルタ洗浄処理と、フィルタ洗浄処理後、遮断された区間に処理液を供給して残存する洗浄液を処理液に置換する置換処理とを実行する。

【0079】

かかる液処理装置１によれば、循環ライン１０４全体でなく、フィルタ１０８を含む一部の区間に限定して洗浄液としてのＤＩＷを供給するため、置換処理に要する時間を短縮することができる。したがって、処理液の交換に要する時間を短縮することができる。

【0080】

（その他の実施形態）
上述してきた実施形態では、ＤＩＷの供給ラインである第１供給ライン２０３が接続される第１ドレンライン２０１が、フィルタ１０８の上流側に設けられ、第２ドレンライン２０２がフィルタ１０８の下流側に設けられる場合の例について説明した。しかし、第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２の配置は、上記の例に限定されない。すなわち、第１ドレンライン２０１がフィルタ１０８の下流側に設けられ、第２ドレンライン２０２がフィルタ１０８の上流側に設けられてもよい。

【0081】

第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２をこのように配置することにより、フィルタ洗浄処理において、フィルタ１０８に対し、処理液の流通方向とは逆方向からＤＩＷを供給することができる。すなわち、フィルタ１０８を逆流洗浄することができるため、フィルタ１０８の洗浄効率を高めることができる。

【0082】

また、上述した実施形態では、タンク１０２内に貯留された処理液を用いて置換処理を行う場合の例について説明した。しかし、置換処理は、上記の例に限定されない。たとえば、制御部１８は、第１供給ライン２０３から処理液を供給することにより、循環ライン１０４の遮断された区間に残存するＤＩＷを処理液に置換することとしてもよい。かかる場合、置換処理は、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２を閉じた状態で行えばよい。このようにすることで、貯留処理の所要時間を短縮することができる。

【0083】

また、制御部１８は、第８バルブ３０８および第９バルブ３０９を開いた状態で、置換処理を行ってもよい。これにより、仮に、第４ドレンライン２０６および第５ドレンライン２０７にＤＩＷが残存していたとしても、かかるＤＩＷを外部へ排出することができる。

【0084】

また、上述した実施形態では、ＤＩＷの供給ラインである第１供給ライン２０３が第１ドレンライン２０１に接続される場合の例について説明したが、第１供給ライン２０３は、第４ドレンライン２０６または第５ドレンライン２０７に接続されてもよい。このようにすることで、第１バルブ３０１および第２バルブ３０２によって遮断する循環ライン１０４の区間を短くすることができ、置換処理に要する時間をさらに短縮することができる。なお、かかる場合、第１ドレンライン２０１および第２ドレンライン２０２は、必ずしも設けることを要しない。

【0085】

また、上述した実施形態では、貯留処理（Ｓ０２）とフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）とを並行して行うこととしたが、貯留処理（Ｓ０２）とフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）とは、必ずしも並行して行われることを要しない。たとえば、制御部１８は、フィルタ洗浄処理（Ｓ０３）が終了した後に、貯留処理（Ｓ０２）を開始してもよい。また、置換処理（Ｓ０４）についても、必ずしもフィルタ洗浄処理（Ｓ０３）と並行して行われることを要しない。たとえば、制御部１８は、置換処理（Ｓ０４）が終了した後に、貯留処理（Ｓ０２）を開始してもよい。かかる場合、制御部１８は、たとえば第１供給ライン２０３から処理液を供給することにより、循環ライン１０４の遮断された区間に残存するＤＩＷを処理液に置換すればよい。

【0086】

さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。

【符号の説明】

【0087】

１ 液処理装置
４ 制御装置
１６ 処理ユニット
１８ 制御部
７０ 処理流体供給源
１０２ タンク
１０４ 循環ライン
１０６ ポンプ
１０８ フィルタ
１０９ ヒータ
１１２ 分岐ライン
１１８ ドレン部
２０１ 第１ドレンライン
２０２ 第２ドレンライン
２０３ 第１供給ライン
２０４ ベントライン
２０５ 第３ドレンライン
２０６ 第４ドレンライン
２０７ 第５ドレンライン
２０８ 第２供給ライン
３０１〜３１２ 第１バルブ〜第１２バルブ
ＬＬ 第１センサ
ＬＪ 第２センサ
Ｈ 第３センサ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】