特許6226142溶剤現像リソグラフィープロセス用有機下層膜形成組成物を用いた半導体装置の製造方法

発明の名称　溶剤現像リソグラフィープロセス用有機下層膜形成組成物を用いた半導体装置の製造方法

出願人　日産化学工業株式会社　（識別番号 3986）

　　　　特許公開件数ランキング 535 位（20件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 197 位（49件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6226142

公報発行日　2017年11月8

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6226142

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