特許第6246830号(P6246830)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6246830５０ｎｍ以下のライン間寸法を有するパターン化材料を処理する際におけるアンチパターン崩壊を回避するための、界面活性剤及び疎水剤を含む組成物の使用
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  • 特許6246830-５０ｎｍ以下のライン間寸法を有するパターン化材料を処理する際におけるアンチパターン崩壊を回避するための、界面活性剤及び疎水剤を含む組成物の使用 図000028
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  • 特許6246830-５０ｎｍ以下のライン間寸法を有するパターン化材料を処理する際におけるアンチパターン崩壊を回避するための、界面活性剤及び疎水剤を含む組成物の使用 図000034
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