特許第6258720号(P6258720)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ 住友化学株式会社の特許一覧

特許6258720ハイドライド気相成長装置、およびこれを用いた基板処理方法
<>
  • 特許6258720-ハイドライド気相成長装置、およびこれを用いた基板処理方法 図000002
  • 特許6258720-ハイドライド気相成長装置、およびこれを用いた基板処理方法 図000003
  • 特許6258720-ハイドライド気相成長装置、およびこれを用いた基板処理方法 図000004
  • 特許6258720-ハイドライド気相成長装置、およびこれを用いた基板処理方法 図000005
< >