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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6269065
(24)【登録日】2018年1月12日
(45)【発行日】2018年1月31日
(54)【発明の名称】有機エレクトロルミネッセンス光源装置
(51)【国際特許分類】
H05B 33/02 20060101AFI20180122BHJP
H01L 51/50 20060101ALI20180122BHJP
H05B 33/26 20060101ALI20180122BHJP
H05B 33/04 20060101ALI20180122BHJP
【ＦＩ】
H05B33/02
H05B33/14 A
H05B33/26 Z
H05B33/04
【請求項の数】4
【全頁数】18
(21)【出願番号】特願2013-557502(P2013-557502)
(86)(22)【出願日】2013年2月4日
(86)【国際出願番号】JP2013052450
(87)【国際公開番号】WO2013118671
(87)【国際公開日】20130815
【審査請求日】2015年9月25日
(31)【優先権主張番号】特願2012-27480(P2012-27480)
(32)【優先日】2012年2月10日
(33)【優先権主張国】JP
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】000229117
【氏名又は名称】日本ゼオン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】特許業務法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】井上 弘康
【審査官】
越河 勉
(56)【参考文献】
【文献】
特開２００６−１０７８３６（ＪＰ，Ａ）
【文献】
国際公開第２０１０／０２４４３９（ＷＯ，Ａ１）
【文献】
国際公開第２０１０／０１３６８１（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｈ０５Ｂ ３３／０２
Ｈ０１Ｌ ２７／３２
Ｈ０１Ｌ ５１／５０
Ｈ０５Ｂ ３３／０４
Ｈ０５Ｂ ３３／２６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
出光面側から、透明電極層、発光層、反射電極層、及び反射層をこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、
前記反射電極層は、貫通孔を有し、
前記反射層の反射率が、前記反射電極層の、前記発光層側の面の反射率より大きく、
前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置は、前記反射層又は追加の層として、光を拡散させる拡散要素を有し、
前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置は、前記拡散要素として、白色の散乱反射層である前記反射層を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
前記反射電極層は、貫通孔を有し、
前記反射層の反射率が、前記反射電極層の、前記発光層側の面の反射率より大きく、
前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置は、前記反射層又は追加の層として、光を拡散させる拡散要素を有し、
前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置は、前記拡散要素として、白色の散乱反射層である前記反射層を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
【請求項2】
請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記拡散要素として、前記透明電極層の出光面側に設けられた、光拡散層または凹凸構造層を有する、有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
【請求項3】
請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記反射層と前記反射電極層との間に、気体層をさらに有する有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
【請求項4】
請求項１〜３のいずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、
前記透明電極層の、前記発光層と反対側の面に接して設けられ、且つ装置の出光面を規定する出光面構造層をさらに有し、
前記反射電極層が周期性を有する条列状または格子状の形状を有し、
前記周期性のピッチが前記出光面構造層の厚み以下である有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
前記透明電極層の、前記発光層と反対側の面に接して設けられ、且つ装置の出光面を規定する出光面構造層をさらに有し、
前記反射電極層が周期性を有する条列状または格子状の形状を有し、
前記周期性のピッチが前記出光面構造層の厚み以下である有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下「有機ＥＬ」と略す場合がある。）光源装置に関する。【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ光源装置は、複数層の電極と、その間に設けられた有機発光層とを有し、電極に通電することにより電気的に発光を得る装置である。有機ＥＬ光源装置は、液晶セルに代わる表示素子としての利用の他に、その高発光効率、低電圧駆動、軽量、低コスト等の特徴を生かした、平面型照明、液晶表示装置用バックライト等の面光源としての利用も検討されている。【0003】
有機ＥＬ光源装置を面光源として利用する場合、有用な態様の光を有機ＥＬ光源装置から高効率で取り出すことが課題となる。例えば、有機ＥＬ光源装置の発光層自体は発光効率が高いものの、それが装置を構成する積層構造を透過して出光するまでの間に、層中における干渉等により光量が低減してしまうので、そのような光の損失を可能な限り低減することが求められる。【0004】
光取り出し効率を高めるための方法として、例えば特許文献１には、素子の正面方向（０°）の輝度を抑制し、角度５０〜７０°の輝度を増加させることで、全体的な輝度を高めることが開示されている。【0005】
また、反射電極を設ける代わりに、透明電極と反射層との組み合わせを用いる技術も知られている（特許文献２）。【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２００４−２９６４２３号公報（対応米国公報 米国特許出願公開第２００４／１９５９６２号明細書）
【特許文献2】国際公開第２００９／１３１０１９号（対応米国公報 米国特許出願公開第２０１１／０５００８２号明細書）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、光源装置においては、光取り出し効率をさらに向上させることが求められている。【0008】
また、特許文献２においては、発光層において発生した光のうち、光出射面と反対側に出射した光を反射するための構成として、従来慣用される反射電極の代わりに透明電極と反射層との組み合わせを用いている。反射層は、反射電極よりも反射率が高く且つ安価なものを容易に製造することができるため、特許文献２に開示される構成は、光取り出し効率を高める上では有利である。しかしながら、一般的に、透明電極は反射電極に比べて抵抗が高いため、面内の電圧の均一性が損なわれやすい。そのため、光源装置の面積が大きく且つ均一に出光する光源装置を得難い。【0009】
したがって本発明の課題は、光取り出し効率が高く、且つ、容易に面積を大きくしうる有機ＥＬ光源装置を提供することにある。【課題を解決するための手段】
【0010】
上記課題を解決するために、本願発明者は検討を行った結果、従来技術で慣用される反射電極の代わりに、特許文献２に記載されるように反射電極の代わりに反射層と透明電極との組み合わせを用いるのではなく、反射電極と反射層とを組み合わせて用いることを想到した。即ち、本願発明者は、発光層から、光出射面とは反対の方向に出射した光のうち、一部のみを反射電極で反射させ、残りを、反射率の高い反射層で反射させる態様を採用することを想到した。このような態様を採用することにより、透明電極よりも抵抗を容易に低減しうる反射電極を用い、且つ、多くの割合の光を反射層で反射することとなる。その結果、大面積における均一な出光が可能となり、且つ光取出し効率の向上も可能となる。本願発明は、かかる知見に基づき完成されたものである。
したがって、本発明によれば、下記〔１〕〜〔６〕が提供される。
【0011】
〔１〕 出光面側から、透明電極層、発光層、反射電極層、及び反射層をこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記反射電極層は、貫通孔を有し、
前記反射層の反射率が、前記反射電極層の、前記発光層側の面の反射率より大きいことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔２〕 〔１〕記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記反射層又は追加の層として、光を拡散させる拡散要素を有する、有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔３〕 〔２〕記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記拡散要素として、前記透明電極層の出光面側に設けられた、光拡散層または凹凸構造層を有する、有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔４〕 〔２〕又は〔３〕記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記拡散要素として、白色の散乱反射層である前記反射層を有する、有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔５〕 〔１〕〜〔４〕のいずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記反射層と前記反射電極層との間に、気体層をさらに有する有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔６〕 〔１〕〜〔５〕のいずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、
前記透明電極層の、前記発光層と反対側の面に接して設けられ、且つ装置の出光面を規定する出光面構造層をさらに有し、
前記反射電極層が周期性を有する条列状または格子状の形状を有し、
前記周期性のピッチが前記出光面構造層の厚み以下である有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
【発明の効果】
【0012】
本発明の光源装置は、光取り出し効率が高く、大面積で且つ均一に出光する装置としうるので、液晶表示装置のバックライト、照明装置などの光源として有用である。【図面の簡単な説明】
【0013】
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
以下、本発明の好ましい実施形態を、図面を参照して説明する。本発明は以下に説明する実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。【0015】
〔概要〕本発明の有機ＥＬ光源装置は、出光面側から、透明電極層、発光層、反射電極層、及び反射層をこの順に有する。透明電極層、発光層、及び反射電極層、並びに必要に応じて設けられる透明電極と反射電極との間の任意の層は発光素子を構成し、透明電極層及び反射電極層に通電することにより発光層が発光する。
本願において「反射層」と「反射電極層」とは、別の構成要素であり、従って、反射層は、反射電極層以外の層である。
本願において、光源装置の出光面を単に「装置出光面」と呼ぶことがある。装置出光面は、光源装置から装置外部に光が出光する際の、装置内部と装置外部との界面である。
装置出光面は、前記発光層の表面と平行な面であり、面光源装置の主面と平行である。但し、微小な凹凸構造を有する面により装置出光面が規定される場合、実際の出光面の面積は凹凸構造に比べて十分大きいので、凹凸構造を無視して巨視的に見ると、装置出光面は平坦な面として認識しうる。本願においては、別に断らない限り、かかる微視的な凹凸構造を無視して見た装置出光面と平行（又は垂直）であることを、単に「装置出光面と平行（又は垂直）」であるという。また、本願では、別に断らない限り、面光源装置は、かかる装置出光面が水平方向と平行で且つ上向きになるよう載置した状態で説明する。したがって、以下の説明において、例えば面光源装置を構成するある層の「上側」の面は、かかる層の、装置出光面に近い側の面であり、「下側」の面は、かかる層の、装置出光面から遠い側の面である。
本願において、各構成要素が「平行」又は「垂直」であるとは、本発明の効果を損ねない範囲の誤差を含んでいてもよく、例えば、平行又は垂直な角度から±５°の誤差を含んでいてもよい。
【0016】
（第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ光源装置の層構成を概略的に示す立面断面図である。
図１において、光源装置１００は、基板１０１と、基板１０１の下側に設けられた透明電極層１１１と、透明電極層１１１の下側に設けられた発光層１２１と、発光層１２１の下側に設けられた反射電極層１１２と、発光層１２１及び反射電極層１１２の下側に設けられた反射層１３１とを有している。透明電極１１１、発光層１２１及び反射電極層１１２は、発光素子１２０を構成する。
【0017】
光源装置１００はまた、基板１０１の上側に、凹凸構造層１４１をさらに有し、凹凸構造層の上側の面１４１Ｕが、光源装置１００の装置出光面を規定している。以下において、装置出光面から、透明電極層の上側の面までの構造を、出光面構造層と呼ぶことがある。第１実施形態の例では、基板１０１及び凹凸構造層１４１を合わせた構造が、出光面構造層１９０を構成する。本願において、出光面構造層は、装置出光面から透明電極層の上側の面までの構造であるので、出光面構造層は、その下側の面が透明電極層に接し、一方その上側の面が装置出光面を規定する。【0018】
光源装置１００は、反射層１３１のさらに下側及び側面部に、必要に応じて封止部材（不図示）を有することができ、これと基板１０１とにより、発光素子１２０を、装置外部からの素子を劣化させる要素（水分、酸素等）から保護することができる。【0019】
本発明の有機ＥＬ光源装置では、反射電極層は、貫通孔を有する。貫通孔を有する反射電極層と反射層とを組み合わせて有することにより、光源装置全体における、発光層から下向きに出射する光を上向きに反射させる面のうち、一部の領域を反射電極層の面が占め、他の一部の領域を反射層の面が占める。第１実施形態の装置１００を参照して説明すると、反射電極層１１２は、貫通孔１１３を有している。貫通孔１１３は、その上面側から下面側へ貫通している。貫通孔１１３内においては、発光層１２１と反射層１３１とが接している。従って、反射層１３１の、発光層１２１側の面１３１Ｕのうち、貫通孔１１３内の領域の面１３１Ｅは発光層１２１に対面し、その他の領域の面１３１Ｃは、反射電極層１１２により覆われている。反射層１３１は、入射した光を高い反射率で鏡面反射する材料で構成されている。
【0020】
図２は、第１実施形態に係る光源装置１００の、反射電極層１１２及び反射層１３１のみを概略的に示す斜視図である。図１〜図８において、直交座標軸（Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸）はそれぞれ対応している。例えば図２に示す直交座標軸のうちＸ軸及びＺ軸は、図１に示す座標軸Ｘ軸及びＺ軸に対応している。図２に示す通り、反射電極層１１２の貫通孔１１３は、正方形の構造を有し、正方形の辺のそれぞれは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に平行に延長している。多数の貫通孔１１３は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に、等間隔で整列して配列されている。これにより、反射電極層１１２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に延長する線状の構造からなる格子状の構造を有している。このような構造を有することにより、装置反射面のうち、一部を反射電極層１１２の上面１１２Ｕが占め、他の一部を反射層１３１の面１３１Ｅが占めることとなる。【0021】
第１実施形態において、基板１０１、透明電極層１１１及び発光層１２１は、反射電極層１１２とは異なり、装置出光面の全領域に渡って広がる平坦な層である。但し、発光層１２１は、貫通孔を有する反射電極層１１２に接しているため、その下側の表面において、反射電極層１１２の形状に追従した微細な凹凸構造を有しうる。【0022】
図３は、第１実施形態に係る光源装置１００の、凹凸構造層１４１のみを概略的に示す斜視図である。図３に示す通り、凹凸構造層１４１の上面１４１Ｕは、多数の凹部１４２を有している。凹部１４２は、四角錐状の形状を有し、凹凸構造層１４１の上面１４１Ｕ上に、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に整列して、間隔をおいて配列されている。【0023】
図２及び図３は概略的な図であるため、僅かな数の貫通孔１１３及び凹部１４２のみを図示しているが、実際の装置では、貫通孔及び凹部の大きさは装置出光面の面積に比べてはるかに小さいものとしうるので、図２及び図３に図示されるものよりはるかに多数の貫通孔及び凹部を有しうる。【0024】
本発明の有機ＥＬ光源装置では、反射層の反射率が、反射電極層の、発光層側の面の反射率より大きい。ここで、反射層の反射率とは、反射層の、発光層側の面の反射率である。反射層と反射電極層が接している場合は、反射層と反射電極層との界面には光は通常到達しないので、反射層の、発光層側の面のうち、貫通孔を介して発光層に対面する領域のみを、反射層の反射率の検討の対象としうる。これを、第１実施形態の装置１００の例を参照して説明すると、反射層１３１の面１３１Ｕのうち貫通孔１１３内の領域の面１３１Ｅの反射率は、反射電極層１１２の上面１１２Ｕの反射率より大きい。発光層１２１から下向きに出射する光（発光層１２１内で下向きに発生した光、並びに発光層１２１内で上向きに発生して発光層１２１の上側に出射し、発光層１２１より上側のいずれかの界面において反射され、発光層１２１内を透過して発光層の下側に出射した光を含む。）は、その一部が、反射電極１１２の面１１２Ｕにおいて反射され、他の一部は、反射層１３１の上面１３１Ｕのうちの一部の面１３１Ｅにおいて、より高い反射率で反射される。面１３１Ｅ及び１１２Ｕにおいて反射した光は上向きに進み、少なくともその一部は、発光層１２１、透明電極１１１、基板１０１及び凹凸構造層１４１を通過し、装置出光面（この例では凹凸構造層の上側の面１４１Ｕ）から出光する。
【0025】
本発明の有機ＥＬ光源装置では、発光層の、装置出光面と反対側の電極として、透明電極ではなく反射電極を用いることにより、面内の電圧の均一性を容易に高めることができる。そのため、出光面積が大きく且つ均一に出光する光源装置を容易に得ることができる。さらに、反射電極層が貫通孔を有し、且つ所定の反射率を有する反射層と組み合わされることにより、光取出し効率を高めることができる。この特徴について具体的に説明すると、一般的に、反射電極層には、光取り出し効率の向上のために、高い反射率及び電極に適した仕事関数の両方の特性、さらにはデバイス作製プロセスへの適正が求められるが、これらを同時に満足させることは難しい。そのため一般的にはアルミニウムが用いられる。このアルミニウムの反射電極層の反射率は８５％程度であり、１回の反射の度に１５％の光が失われる。そこで、本願では、装置反射面の全領域に反射電極層を設けるのではなく、一部の領域のみに反射電極層を設け、他の領域には反射層を設ける。反射層は、反射電極とは異なり、高い仕事関数は必要ではなく、高い反射率のみが求められる。従って、安価で且つ８５％といった反射電極層の反射率より高い反射率を示す材料を容易に選択し得る。そのため、本発明においては、反射電極層の材料として仕事関数の高い材料を採用し、且つ装置全体としての反射率を高めることが可能となり、しかもそのような態様を安価な材料から構成することができる。
【0026】
装置上方から、装置出光面に垂直な方向に装置出光面内の領域を観察した場合における、当該領域内の、反射電極層の反射面が占める領域と、反射層の反射面が占める領域の比は、それぞれの層の反射率、所望の光取出し効率、所望の出光量などの要因に応じて適宜調整し得る。通常、反射電極層の反射面が占める領域及び反射層の反射面が占める領域の合計に対する、反射電極層の反射面が占める領域の割合が１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、一方５０％以下であることが好ましく、４０％以下であることがより好ましい。反射電極層の反射面が占める領域の割合を前記下限以上とすることにより、高い装置出光量を得ることができ、一方、反射電極層の反射面が占める領域の割合を前記上限以下とすることにより、高い光取出し効率を得ることができる。【0027】
本発明の有機ＥＬ光源装置は、光を拡散させる拡散要素を有することが好ましい。具体的には、反射層が拡散要素としての機能を兼ねたものであってもよく、又は、光源装置が、反射層以外の追加の層として、拡散要素を有していてもよい。後者の場合、拡散要素は、例えば透明電極層の出光面側に設けられた、光拡散層または凹凸構造層とすることができる。凹凸構造層は、おもて面及び裏面の一方又は両方に、凹凸構造を有する層であり、例えば、第１実施形態における凹凸構造層１４１のように、その装置出光面側の面上に、多数の凹部、凸部又はこれらの両方を有する層としうる。【0028】
本発明の有機ＥＬ光源装置は、かかる拡散要素を有することにより、光取出し効率をさらに高めることができる。このことを図１における第１実施形態の装置１００を参照して説明すると、発光層１２１から上向きに出射する光（発光層１２１内で上向きに発生した光、並びに反射電極１１２及び反射層１３１により反射され上向きに進む光を含む。垂直方向に進む光のみならず、様々な斜め方向の角度で進む光をも含む。）のうち、少なくともその一部は、基板１０１及び凹凸構造層１４１を透過して装置出光面１４１Ｕから出射するが、他の一部は、出射せず装置出光面１４１Ｕで反射され装置内に戻される。特に、凹凸構造層１４１と装置外との界面において、界面と光の進行方向とがなす角が臨界角未満の光は、全反射され装置内に戻される。かかる反射において、凹凸構造層１４１が凹凸構造を有することにより、反射方向が拡散され、様々な方向に光が反射する。反射光は、反射層１３１及び反射電極１１２により反射されて再び凹凸構造層１４１と装置外との界面に達する。この際、前記の拡散された反射により光の進行方向が拡散されているために、臨界角以上の角度で界面に入射し装置外に出射する光の割合が高まる。ここで、本発明の有機ＥＬ光源装置では、高い反射効率を有する反射層と反射電極とを組み合わせて有することにより、拡散要素（この例では凹凸構造層）により装置外に出射する光の割合が高まる効果がさらに増強され、相乗的な効果をもたらし、光取出し効率を大きく向上させることができる。【0029】
（各構成要素）本発明の有機ＥＬ光源装置の各構成要素の材料及び性質等について以下においてより具体的に説明する。
【0030】
（発光素子）本発明の有機ＥＬ光源装置において、発光素子を構成する発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択することができるが、光源としての用途に適合すべく、一種の層単独又は複数種類の層の組み合わせにより、後述する所定のピーク波長を含む光を発光するものとすることができる。
透明電極層及び反射電極層を構成する材料は、特に限定されず有機ＥＬ発光素子の電極として用いられる既知の材料を適宜選択することができ、どちらか一方を陽極とし、他方を陰極とすることができる。また、電極間には、発光層に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層及びガスバリア層等の任意の層をさらに有することもでき、これらも発光素子の構成要素となりうる。
【0031】
透明電極層の材料としては、金属薄膜、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２などを挙げることができる。反射電極層の材料としては、アルミニウム、ＭｇＡｇ等を挙げることができる。【0032】
発光素子の具体的な層構成としては、陽極／正孔輸送層／発光層／陰極の構成、陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極の構成、陽極／正孔注入層／発光層／陰極の構成、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極の構成、陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／等電位面形成層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極の構成，陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／電荷発生層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極の構成などが挙げられる。本発明の有機ＥＬ光源装置における発光素子は、一層以上の発光層を陽極と陰極との間に有するものとすることができるが、発光層として、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。各層の材料は特に限定されるものではない。例えば発光層を構成する材料には、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリフルオレン系、およびポリビニルカルバゾール系などの材料を挙げることができる。また正孔注入層や正孔輸送層にはフタロシアニン系、アリールアミン系、およびポリチオフェン系などの材料を挙げることができる。電子注入層や電子輸送層には、アルミ錯体およびフッ化リチウムなどが挙げられる。また、等電位面形成層、あるいは電荷発生層としては、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｎＯ２などの透明電極、あるいはＡｇ、Ａｌなどの金属薄膜が挙げられる。【0033】
透明電極層、発光層、反射電極層、及びそれ以外の発光素子を構成する任意の層は、基板上にこれらを順次積層することにより設けることができる。これら各層の厚さは、１０〜１０００ｎｍとすることができる。【0034】
貫通孔を有する反射電極層を成形する方法は、特に限定されず、既知の薄膜の成形方法を採用することができる、例えばフォトリソグラフィ、マスクスパッタ等の方法を用いることができる。【0035】
反射電極層の発光層側の面の反射率は、具体的には、下限が７５％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。一方上限は１００％未満とすることができる。反射電極層の反射率は、高いほうが好ましいが、本発明においては、反射電極層よりさらに反射率が高い反射層を組み合わせることで、効率的な反射を達成しうる。【0036】
（反射層）反射層を構成する材料は、特に限定されず、所定の高い反射率を得られる材料を適宜選択することができる。第１実施形態の反射層１３１のような鏡面反射をする反射層の例としては、例えば、誘電多層膜、金、銀を挙げることができる。
【0037】
また、反射層は、鏡面反射する層である以外に、光を拡散して反射する拡散反射層であってもよい（第２実施形態を参照）。拡散反射層としては、入射した光がランバート散乱して反射する白色の層を好ましく用いることができる。かかる白色の層を構成する材料としては、具体的には例えば、ポリエステルフィルムを延伸することにより、フィルム内部に微小な気泡を発生させて、その反射散乱により白色を呈するフィルム（例として、東レ株式会社製、商品名「ルミラー」など）が挙げられる。【0038】
反射層の反射率は、反射電極層より高い反射率であり、具体的には、下限が９０％以上であることが好ましく、９４％以上であることがより好ましい。一方上限は１００％以下とすることができる。【0039】
（出光面構造層：基板）基板を構成する材料としては、ガラス基板、石英ガラス、およびプラスチック基板などの、有機ＥＬ発光素子の基板として通常用いうる基板を採用することができる。基板の厚さは、０．０１〜５ｍｍとすることができる。
【0040】
（出光面構造層：凹凸構造層）凹凸構造層は、通常、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する樹脂組成物により形成することができる。樹脂組成物を構成する樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などを挙げることができる。なかでも熱可塑性樹脂は熱による変形が容易であるため、また紫外線硬化性樹脂は硬化性が高く効率が良いため、凹凸構造層の効率的な形成が可能となり、それぞれ好ましい。
【0041】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系、ポリアクリレート系、シクロオレフィンポリマー系等の樹脂を挙げることができる。また、紫外線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、エン／チオール系、イソシアネート系等の樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂としては、複数個の重合性官能基を有するものを好ましく用いることができる。なお、前記の樹脂は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。【0042】
なかでも、凹凸構造層の材料としては、凹凸構造を形成しやすく且つ凹凸構造の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬化時の硬度が高い材料が好ましい。具体的には、７μｍの膜厚の樹脂層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度でＨＢ以上になるような材料が好ましく、Ｈ以上になる材料がさらに好ましく、２Ｈ以上になる材料がより好ましい。【0043】
凹凸構造層及び基材等の出光面構造の層構成要素となる層の材料として、光拡散性のある材料を用いてもよい。これにより、拡散による光取り出し効率をさらに高め、且つ観察角度による色味の変化を更に低減することもできる。【0044】
光拡散性のある材料としては、例えば、粒子を含んだ材料、２種類以上の樹脂を混ぜ合わせて光を拡散させるアロイ樹脂、等を挙げることができる。なかでも、光拡散性を容易に調節できるという観点から、粒子を含んだ材料が好ましく、特に粒子を含んだ樹脂組成物が特に好ましい。【0045】
粒子は、透明であってもよく、不透明であってもよい。粒子の材料としては、例えば、金属及び金属化合物、並びに樹脂等が挙げられる。金属化合物としては、例えば、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物の具体例を挙げると、銀、アルミのような反射率が高い金属；酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタン等の金属化合物；などを挙げることができる。一方、樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、粒子の材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。【0046】
粒子の形状は、例えば、球状、円柱状、針状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状とすることができる。粒子の粒径は、好ましくは０．１μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下である。ここで粒径とは、体積基準の粒子量を、粒子径を横軸にして積算した積算分布における５０％粒子径のことである。粒径が大きいほど、所望の効果を得るために必要な粒子の含有割合は多くなり、粒径が小さいほど、含有量は少なくてすむ。したがって、粒径が小さいほど、観察角度による色味の変化の低減、及び光取り出し効率の向上等の所望の効果を、少ない粒子で得ることができる。なお、粒径は、粒子の形状が球状以外である場合には、その同等体積の球の直径を粒径とする。
【0047】
粒子が透明な粒子であり、且つ粒子が透明樹脂中に含まれる場合において、粒子の屈折率と透明樹脂の屈折率との差が、０．０５〜０．５であることが好ましく、０．０７〜０．５であることがより好ましい。ここで、粒子及び透明樹脂の屈折率は、どちらがより大きくてもよい。粒子と透明樹脂の屈折率が近すぎると拡散効果が得られず色味ムラは抑制され難くなる可能性があり、逆に差が大きすぎると拡散が大きくなり色味ムラは抑制されるが光取出効果が低減する可能性がある。【0048】
粒子の含有割合は、粒子を含む層の全量中における体積割合で、１％以上が好ましく、５％以上がより好ましく、また、８０％以下が好ましく、５０％以下がより好ましい。粒子の含有割合をかかる下限以上とすることにより、観察角度による色味の変化の低減等の所望の効果を得ることができる。また、かかる上限以下とすることにより、粒子の凝集を防止し、粒子を安定して分散させることができる。【0049】
さらに、樹脂組成物は、必要に応じて任意の成分を含んでいてもよい。当該任意の成分としては、例えば、フェノール系、アミン系等の劣化防止剤；界面活性剤系、シロキサン系等の帯電防止剤；トリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系等の耐光剤；などの添加剤を挙げることができる。【0050】
凹凸構造層の厚さは、特に限定されないが、１μｍ〜７０μｍであることが好ましい。また、出光面構造層全体の厚さは、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上とすることができ、一方好ましくは９５０μｍ以下、より好ましくは８００μｍ以下とすることができる。【0051】
凹凸構造層及び基材の複層体の製造は、例えば、所望の形状を有する金型等の型を用意し、この型を、凹凸構造層を形成する材料の層に転写することにより行なうことができる。より具体的な方法としては、例えば、（方法１）基材を構成する樹脂組成物Ａの層及び凹凸構造層を構成する樹脂組成物Ｂの層（凹凸構造はまだ形成されていない）を有する未加工複層体を用意し、かかる未加工複層体の樹脂組成物Ｂ側の面上に、凹凸構造を形成する方法；及び
（方法２）基材の上に、液体状態の樹脂組成物Ｂを塗布し、塗布された樹脂組成物Ｂの層に型を当て、その状態で樹脂組成物Ｂを硬化させ、凹凸構造層を形成する方法
などを挙げることができる。
【0052】
方法１において、未加工複層体は、例えば樹脂組成物Ａ及び樹脂組成物Ｂを共押出する押出成形により得るようにしてもよい。未加工複層体の樹脂組成物Ｂ側の面上に、所望の表面形状を有する型を押し当てることにより、凹凸構造を形成することができる。【0053】
方法２において、凹凸構造層を構成する樹脂組成物Ｂとしては、紫外線等のエネルギー線により硬化しうる組成物を用いることが好ましい。かかる樹脂組成物Ｂを、基材上に塗布し、型を当てた状態で、塗布面の裏側（基材の、樹脂組成物Ｂを塗布した面とは反対側）に位置する光源から、紫外線等のエネルギー線を照射し、樹脂組成物Ｂを硬化させ、その後型を剥離することにより、樹脂組成物Ｂの塗膜を凹凸構造層とし、複層体を得ることができる。【0054】
（出光面構造層と反射電極層の構造の関係）本発明の好ましい態様においては、反射電極層が周期性を有する構造（例えば周期性を有する格子状の形状、または周期性を有する条列状の構造）を有し、周期性のピッチが、出光面構造層の厚み以下である。当該構成を有することにより、装置出光面における輝度のムラが低減され、均一に出光する光源装置とすることができる。つまり、本発明の有機ＥＬ光源装置は、反射電極層に貫通孔を有することにより、全面に反射電極層が設けられた装置に比べて輝度ムラが発生し得るが、周期性のピッチを当該所定の範囲内の小さいものとし、さらに好ましくは上に述べた拡散要素を備えることにより、装置内における拡散が、貫通孔の存在による輝度ムラを十分に補償する程度に達成され、その結果装置出光面から出光する光の輝度ムラが低減される。
これを第１実施形態の反射電極層１１２（図１及び図２）を参照して説明すると、反射電極層１１２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に延長する線状の反射電極層により構成される格子状の構造を形状を有しているので、これを例えばＸ軸方向の一端から他端へ走査的に観察すると、Ｙ軸方向に延長する線状の反射電極層と貫通孔１１３とが周期的に観察される。従って、一の貫通孔の辺と、それに隣接する貫通孔の対応する辺との距離Ａ１が、周期性のピッチとなる。このピッチＡ１が出光面構造層１９０の厚み以下であることにより、光源装置１００を、均一に出光する装置とすることができる。
【0055】
周期性のピッチは、反射電極層の反射面に平行ないずれかの方向において観察されうる。反射電極層の線状の構造が格子状または条列状に配列されている場合、かかる線状の構造の延長方向に直交する方向において、周期性のピッチを観察しうる。線状の構造が格子状に配列されている場合は、複数の周期性のピッチが観察されうるが、その場合、どれか一つのピッチが前記好ましい態様の要件を満たすことが好ましく、全てのピッチが前記好ましい態様の要件を満たすことがより好ましい。【0056】
周期性のピッチの具体的な数値範囲は、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上とすることができ、一方好ましくは９５０μｍ以下、より好ましくは８００μｍ以下とすることができる。【0057】
（第２実施形態）上に述べた第１実施形態は、反射層として鏡面反射する反射面を有し、また拡散要素として凹凸構造層を有していたが、本発明はこれに限られず、例えば以下に示す第２実施形態のように、反射層及び拡散要素を兼ねるものとして散乱的な反射をする層を有していてもよい。
【0058】
図４は、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ光源装置の層構成を概略的に示す立面断面図である。図４において、光源装置２００は、凹凸構造層１４１を有さず、基板１０１の上側の面１０１Ｕが装置出光面を規定する点、及び反射層１３１に代えて散乱反射層２３１を有する点において第１実施形態と異なり、その他の点は共通している。
散乱反射層２３１の面２３１Ｕの反射率は、反射層１３１の面１３１Ｕと同様に、反射電極層１１２の上面１１２Ｕより高い。但し、散乱反射層２３１の上側の面２３１Ｕは、目視で観察した際に白色を呈する面であり、光を散乱する態様で反射する点で、反射層１３１の面１３１Ｕと異なっている。
【0059】
第２実施形態の装置２００では、反射電極層１１２の貫通孔１１３内において、発光層１２１と散乱反射層２３１とが接している。従って、散乱反射層２３１の、発光層１２１側の面２３１Ｕのうち、貫通孔１１３内の領域の面２３１Ｅは発光層１２１に対面し、その他の領域の面２３１Ｃは、反射電極層１１２により覆われている。発光層１２１内で発生した光のうち下向きに進む光は、その一部が、反射電極１１２の面１１２Ｕにおいて反射され、他の一部は、反射層２３１の上面２３１Ｕのうちの一部の面２３１Ｅにおいて、より高い反射率で反射される。面２３１Ｅ及び１１２Ｕにおいて反射した光は上向きに進み、少なくともその一部は、発光層１２１、透明電極１１１、及び基板１０１を通過し、装置出光面（この例では基板１０１の上側の面１０１Ｕ）から出光する。
【0060】
第２実施形態の光源装置２００において、散乱反射層２３１は、反射層であり、且つ拡散要素としての機能を兼ねたものとして機能する。拡散要素としてこのような散乱反射層を有することにより、光取出し効率をさらに高めることができる。具体的に説明すると、発光層１２１から上向きに出射する光（発光層１２１内で上向きに発生した光、並びに反射電極１１２及び反射層２３１により反射され上向きに進む光を含む。）のうち、少なくともその一部は、基板１０１を透過して装置出光面１０１Ｕから出射するが、他の一部は、出射せず装置出光面１０１Ｕで反射され装置内に戻される。特に、基板１０１と装置外との界面において、界面と光の進行方向とがなす角が臨界角未満の光は、全反射され装置内に戻される。かかる反射により装置内に戻された光のうち、散乱反射層２３１に達した光は、散乱反射層２３１が光を散乱する態様で反射する性質により、様々な方向に反射して再び上側に進む。この光が再び基板１０１と装置外との界面に達すると、前記の拡散された反射により光の進行方向が拡散されているために、臨界角以上の角度で界面に入射し装置外に出射する光の割合が高まる。ここで、本発明の有機ＥＬ光源装置では、高い反射効率を有する反射層と反射電極とを組み合わせて有することにより、散乱反射層により装置外に出射する光の割合が高まる効果がさらに増強され、相乗的な効果をもたらす。このように、第１の実施形態が拡散要素として有する凹凸構造層と同様の効果を、散乱反射層によっても得ることができる。【0061】
（第３実施形態）本発明の有機ＥＬ装置は、拡散要素として、上に述べた第１実施形態における凹凸構造層と、第２実施形態における散乱反射層とのいずれか一方ではなく両方を有していてもよい。
また、上に述べた第１実施形態及び第２実施形態においては、反射電極層と反射層とは、直接接して設けられていたが、本発明はこれに限られず、例えば以下に示す第３実施形態のように、反射電極層と反射層とが離隔して設けられていてもよい。
【0062】
図５は、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ光源装置の層構成を概略的に示す立面断面図である。図５において、光源装置３００は、反射層１３１を有さず、その代わりに他の構成要素を有する点において第１実施形態と異なり、その他の点は共通している。光源装置３００は、発光層１２１及び反射電極層１１２の下側に接して設けられた封止層３５１を有し、さらにその下側に、気体層３６１を介して、散乱反射層３３１を有する。気体層３６１は、封止層３５１及び散乱反射層３３１とを、支持体３６２で支持することにより規定されている。気体層３６１内には、除湿剤３６３が設けられ、気体層３６１内の、水分等の発光素子を劣化させる要素を低減している。透明電極層１１１、発光層１２１及び反射電極層１１２を含む発光素子は、基板１０１、必要に応じて装置側面に設けられる封止部材（不図示）、封止層３５１、気体層３６１及び散乱反射層３３１、並びに必要に応じて設けられるその他の構成要素により、装置外部からの素子を劣化させる要素から保護することができる。
【0063】
散乱反射層３３１の面３３１Ｕの反射率は、第１実施形態の反射層１３１の面１３１Ｕと同様に、反射電極層１１２の上面１１２Ｕより高い。但し、散乱反射層３３１の上側の面３３１Ｕは、第２実施形態の散乱反射層２３１の上側の面２３１Ｕと同様に、目視で観察した際に白色を呈する面であり、光を散乱する態様で反射する。【0064】
第３実施形態の装置３００では、反射電極層１１２の貫通孔１１３内において、発光層１２１と封止層３５１とが接している。発光層１２１内で発生した光のうち下向きに進む光は、その一部が、反射電極１１２の面１１２Ｕにおいて反射され、他の一部は、貫通孔１１３を通り、封止層３５１を透過し、封止層３５１と気体層３６１との界面に到達する。ここに到達した光の大部分は、この界面で反射されるが、残りの一部は気体層３６１を透過し、散乱反射層３３１の上側の面３３１Ｕに達し、反射電極層の表面よりは高い反射率で反射される。したがって、このような形態においても、反射電極層と反射層との組み合わせによる効果を得ることができる。さらに、第３実施形態の装置３００では、凹凸構造層１４１と、散乱反射層３３１の両方による拡散の効果を得ることができ、反射電極層と反射層との組み合わせによる効果と相乗的に、さらに高い光取出し効率が実現できる。【0065】
第３実施形態においては、反射電極層１１２と反射層である散乱反射層３３１とが離隔している。したがって、散乱反射層３３１において反射した光の一部は、反射電極層１１２の、発光層と反対側の面１１２Ｌに到達する。本発明の光源装置では、反射電極層の、発光層と反対側の面の反射率は特に限定されないが、通常は、発光層側の面の反射率と同等の反射率とすることができる。【0066】
第３実施形態において、封止層３５１の材料としては、光を透過させることができ、且つ封止性能を有する物質を適宜選択しうる。具体的には例えば、基板１０１と同様の材料とすることができる。気体層３６１内の気体は、通常の空気とすることができる他、アルゴン、窒素などの不活性ガスとし、発光素子の劣化をさらに低減することもできる。【0067】
（変形例）本発明の有機ＥＬ光源装置は、上記実施形態に限られず、上記実施形態に様々な変形を施すことができる。
【0068】
（変形例：任意の層）上に述べた第３実施形態では、封止層３５１より下側の層として、気体層３６１を介して散乱反射層３３１を設けたが、本発明の有機ＥＬ光源装置においては、さらに他の層を設けてもよい。例えば、気体層３６１の下側に、ガラス等の基板を設け、そのさらに下側に散乱反射層を設けることもできる。
【0069】
（変形例：反射電極層の構造）上に述べた実施形態では、反射電極層として、図２に示す格子状の構造を有しているが、本発明の有機ＥＬ光源装置は、反射電極層として他の形態を有するものであってもよい。例えば、図６に示す反射電極層６１２の通り、Ｙ軸方向に延長する線状の構造６１４がＸ軸方向に平行に整列し、線状の構造６１４の間に帯状の形状の貫通孔６１３を有する、条列状の構造を有することもできる。この場合において、反射電極層６１２の周期性のピッチは、線状の構造６１４に直交する方向即ちＸ軸方向で観察した周期性のピッチとすることができ、具体的にはＸ軸方向における、一の貫通孔の辺とそれに隣接する貫通孔の対応する辺との距離Ａ２とすることができる。
【0070】
この他に、反射電極層は、例えば丸型等の任意の形状の貫通孔が、平面上に整列した形状であってもよい。【0071】
（変形例：透明電極の構造）上に述べた実施形態では、透明電極層１１１として、装置出光面の全領域に渡って広がる平坦な層を用いているが、本発明の有機ＥＬ光源装置において、透明電極層は、例えば反射電極層と同様に貫通孔を有するものであってもよい。
但し、本発明の有機ＥＬ光源装置において、透明電極層は、第１〜第３実施形態に示したように、平坦な層であることが好ましい。透明電極層が平坦な層であると、透明電極層の抵抗が高くても面内の電圧を均一にすることができる。例えば、装置出光面の中央付近における電圧が下がり中央付近が暗くなるという傾向を低減することができる。また、透明電極層が貫通孔または凹凸構造を有すると、それに追従して発光層も凹凸構造を有することになり、発光層の凹凸構造部分が劣化の起点となる可能性がある一方、透明電極層が平坦な層であると、そのような劣化の起点を低減することができる。
【0072】
（変形例：出光面構造層、凹凸構造層）上に述べた第１及び第３実施形態では、凹凸構造層１４１の凹凸構造として、四角錐状の凹部１４２がＸ軸方向及びＹ軸方向に整列して、間隔をおいて配列されたものを示したが、本発明における凹凸構造はこれに限られず、種々の形状の構造としうる。例えば、四角錐状の構造単位に代えて、四角錐以外の角柱、角錐、角錐の一部であり断面台形の形状、円錐、球又は楕円回転体の一部等の形状をとりうる。また、凹凸構造は、装置出光面の一の辺から、対向する他の辺へ連続する溝状の凹部及び／又は凸部が平行に多数整列した条列状の形状であってもよい。このような凹凸構造の高さは、特に限定されないが、最も高い部分と低い部分との差として、０．３〜１００μｍとすることが好ましい。
また、凹凸構造が、凹凸構造層１４１の凹凸構造のように凹部と平坦部とを有する場合、装置上方から観察した際に凹部が占める領域と平坦部が占める領域との比は、１９：１〜４：６とすることが好ましく、９：１〜５：５とすることがより好ましい。
【0073】
また、凹凸構造１４１の凹凸構造は、装置出光面全面において同じ形状の凹部および同じ高さの平坦部を有するが、本発明における凹凸構造はこれに限られず、装置出光面内に、異なる形状の凹部及び／又は凸部が混在していてもよく、高さが異なる複数の水準の平坦部が混在していてもよい。そのようなランダムな形状にすることにより、装置出光面の虹ムラの防止することができる。加えて、装置内部の光の干渉を低減し、それと反射層等による反射量の増加との組み合わせにより、さらなる光取出し効率の向上等の効果を得ることができる。【0074】
上に述べた第１及び第３実施形態では、出光面構造層１９０内において、凹凸構造層１４１は、基板１０１とは別の構成要素としたが、本発明において出光面構造層の態様はこれに限られず、例えばこれらが共通の部材で一体に成形された出光面構造層であってもよい。逆に、出光面構造層は、基板及び凹凸構造層に加えて、さらに任意の層を有するものであってもよい。【0075】
さらに、本発明の有機ＥＬ光源装置において、拡散要素は、凹凸構造層、散乱反射層に限られず、これらに代えてまたはこれらに加えて、装置内の光を拡散する任意の構成をとることができる。例えば、拡散剤を有する平板状の拡散要素を、装置出光面と反射層との間のいずれかの位置に設けることができる。【0076】
（その他の構成要素）本発明の有機ＥＬ光源装置は、上に述べた構成要素のほかに、光源装置を構成するための任意の構成要素を含みうる。例えば、発光素子に通電するための配線、発光素子の封止のための封止部材、層間の接着のための接着層、装置出光面の周縁部の、物理的強度を確保したり筐体として機能したりする部材などの任意の構成要素を含むことができる。
【0077】
（用途）本発明の有機ＥＬ光源装置の用途は、特に限定されないが、高い光取り出し効率等の利点を生かし、例えば、液晶表示装置のバックライト、照明装置などの光源とすることができる。
【実施例】
【0078】
以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。【0079】
＜実施例１＞図１に示す、本発明の第１実施形態の構成を有する有機ＥＬ光源装置１００の光取出し効率を、以下に示す設定条件に基づきシミュレーションした。
【0080】
図１に示す有機ＥＬ光源装置１００において、凹凸構造層１４１の上面の凹凸構造は、正四角錐状の凹部の斜面と装置出光面とがなす角６０°、四角錐の底辺長さ３２μｍ、隣接する四角錐状の凹部間の距離８μｍで、その結果周期性のピッチ４０μｍとした。反射電極層１１２の反射率は、アルミニウムを想定し、８５％とした。反射の態様は、鏡面反射とした。
反射層１３１の反射率は、９８％とし、反射の態様は、鏡面反射とした。
反射電極層１１２の反射面１１２Ｕと、反射層１３１の反射面１３１Ｅとの面積比は、３６：６４とした。
凹凸構造層１４１、基板１０１、透明電極層１１１、及び発光層１２１の屈折率は、それぞれ、１．５３、１．５３、１．９、及び１．８とした。
凹凸構造層１４１、基板１０１、透明電極層１１１、及び発光層１２１の厚さは、それぞれ、１５μｍ、５００μｍ、０．２μｍ、及び１００ｎｍとした。発光層からの光源の配光特性はランバーシアンとした。
【0081】
また、対比のため、図７に示す有機ＥＬ光源装置を想定した。図７に示す光源装置７００は、反射層１３１を有さず、且つ反射電極１１２に代えて、装置反射面の全領域に設けられた反射電極層７１２が設けられた他は、光源装置１００と同様の構成を有するものとして設定した。【0082】
以上の設定条件を元に、プログラム（プログラム名：Ｌｉｇｈｔ Ｔｏｏｌｓ、Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ社製）により、光取り出し効率をシミュレーションし、光源装置１００と光源装置７００の光取出し効率を対比した。その結果、光源装置１００の光取出し効率は、光源装置７００の１．０６倍であった。【0083】
＜実施例２＞図４に示す、本発明の第２実施形態の構成を有する有機ＥＬ光源装置２００の光取出し効率を、以下に示す設定条件に基づきシミュレーションした。
【0084】
図４に示す有機ＥＬ光源装置２００において、反射電極層１１２の反射率は、アルミニウムを想定し、８５％とした。反射の態様は、鏡面反射とした。反射層２３１の反射率は、９８％とし、反射の態様は、白色散乱とした。
反射電極層１１２の反射面１１２Ｕと、反射層２３１の反射面１３１Ｅとの面積比は、３６：６４とした。
基板１０１、透明電極層１１１、及び発光層１２１についての設定は、実施例１と同一とした。
【0085】
また、対比のため、図８に示す有機ＥＬ光源装置を想定した。図８に示す光源装置８００は、反射層２３１を有さず、且つ反射電極１１２に代えて、装置反射面の全領域に設けられた反射電極層７１２が設けられた他は、光源装置２００と同様の構成を有するものとして設定した。【0086】
以上の設定条件を元に、実施例１と同一のプログラムにより、光取り出し効率をシミュレーションし、光源装置２００と光源装置８００の光取出し効率を対比した。その結果、光源装置２００の光取出し効率は、光源装置８００の１．８５倍であった。【0087】
＜実施例３＞反射層１３１の反射率を９８％とし、反射の態様を白色散乱とした他は、実施例１と同様の設定条件で、光取り出し効率をシミュレーションし、光源装置１００と光源装置７００の光取出し効率を対比した。その結果、光源装置１００の光取出し効率は、光源装置７００の１．１１倍であった。
【0088】
＜実施例４＞図５に示す、本発明の第３実施形態の構成を有する有機ＥＬ光源装置３００の光取出し効率を、以下に示す設定条件に基づきシミュレーションした。
【0089】
封止層３５１、及び気体層３６１の屈折率は、それぞれ、1.５３及び１．０とした。封止層３５１、及び気体層３６１の厚さは、いずれも１μｍとした。
反射層３３１の反射率は、９８％とし、反射の態様は、白色散乱とした。
反射電極層１１２の反射面１１２Ｕと、反射層２３１の貫通孔１１３との面積比は、３６：６４とした。
凹凸構造層１４１、基板１０１、透明電極層１１１、及び発光層１２１についての設定は、実施例１と同一とした。
【0090】
以上の設定条件を元に、実施例１と同一のプログラムにより、光取り出し効率をシミュレーションし、光源装置３００と、実施例１でシミュレーションした光源装置７００の光取出し効率を対比した。その結果、光源装置１００の光取出し効率は、光源装置７００の１．２９倍であった。