特許6277977酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜

発明の名称　酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜

出願人　住友金属鉱山株式会社　（識別番号 183303）

　　　　特許公開件数ランキング 241 位（131件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 116 位（226件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6277977

公報発行日　2018年2月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6277977

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