特許 6333857 メソゲン基を含有する化合物、それを用いた混合物、組成物、及び、光学異方体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6333857

(24)【登録日】2018年5月11日

(45)【発行日】2018年5月30日

(54)【発明の名称】メソゲン基を含有する化合物、それを用いた混合物、組成物、及び、光学異方体

(51)【国際特許分類】

   C08F 20/30 20060101AFI20180521BHJP

   C07C 15/54 20060101ALI20180521BHJP

   C07C 69/54 20060101ALI20180521BHJP

   C07C 69/92 20060101ALI20180521BHJP

   C07C 255/54 20060101ALI20180521BHJP

   C07C 255/55 20060101ALI20180521BHJP

   G02B 5/30 20060101ALI20180521BHJP

   G02F 1/13363 20060101ALI20180521BHJP

【ＦＩ】

   C08F20/30

   C07C15/54

   C07C69/54 Z

   C07C69/92

   C07C255/54

   C07C255/55

   G02B5/30

   G02F1/13363

【請求項の数】8

【全頁数】63

(21)【出願番号】特願2015-553337(P2015-553337)

(86)(22)【出願日】2014年12月18日

(86)【国際出願番号】JP2014083584

(87)【国際公開番号】WO2015098702

(87)【国際公開日】20150702

【審査請求日】2015年10月28日

【審判番号】不服2017-6945(P2017-6945/J1)

【審判請求日】2017年5月15日

(31)【優先権主張番号】特願2013-266991(P2013-266991)

(32)【優先日】2013年12月25日

(33)【優先権主張国】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000002886

【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100177471

【弁理士】

【氏名又は名称】小川 眞治

(74)【代理人】

【識別番号】100163290

【弁理士】

【氏名又は名称】岩本 明洋

(74)【代理人】

【識別番号】100149445

【弁理士】

【氏名又は名称】大野 孝幸

(74)【代理人】

【識別番号】100159293

【弁理士】

【氏名又は名称】根岸 真

(72)【発明者】

【氏名】山本 美花

(72)【発明者】

【氏名】桑名 康弘

(72)【発明者】

【氏名】中田 秀俊

(72)【発明者】

【氏名】延藤 浩一

(72)【発明者】

【氏名】小谷 邦彦

(72)【発明者】

【氏名】長谷部 浩史

(72)【発明者】

【氏名】小野 善之

【合議体】

【審判長】 加藤 友也

【審判官】 佐久 敬

【審判官】 橋本 栄和

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−００６９９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平６−２１２１５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−１８６４３０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１３／０３９０５３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１３−１６６８７９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

C08F 2/00-2/60

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ケイ素化合物が１重量ｐｐｍ以上１０００重量ｐｐｍ以下の濃度で存在する、アクリロイル基及びメタアクリロイル基から選ばれる基、及びメソゲン基を含有する、一般式（１）

【化1】

（式中、Ｐは重合性官能基を表し、
Ｓｐは炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）、
ｍは１を表し、
ＭＧはメソゲン基である一般式（１−ｂ）

【化1】

（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、又は一般式（１−ｃ）

【化1】

（式中、Ｐ_１は反応性官能基を表し、Ａは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、又は単結合を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｎ１は０又は１を表し、ｍ１は０又は１を表す。）を有していても良く、
Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
ｎは０又は１を表す。）を表し、
Ｒ¹は一般式（１−ａ）

【化1】

（式中、Ｐ_２は反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数１〜１８のスペーサー基を表し、ｍ２は１を表す。）で表される構造を表し、
前記Ｐ、Ｐ_１、Ｐ_２は、それぞれ独立して、アクリロイル基及びメタアクリロイル基から選ばれる基を表す。）で表される化合物。

【請求項2】

２種以上の前記アクリロイル基及びメタアクリロイル基から選ばれる基、及びメソゲン基を含有する前記一般式（１）で表される化合物のみからなる混合物とした場合に、前記ケイ素化合物の含有量が、混合物全体で１重量ｐｐｍ以上１０００重量ｐｐｍ以下である請求項１に記載の化合物。

【請求項3】

請求項１、又は請求項２に記載の化合物を含有しており、かつ、ケイ素化合物が１重量ｐｐｍ以上１０００重量ｐｐｍ以下である混合物。

【請求項4】

重合性能を有する請求項３記載の混合物。

【請求項5】

請求項３又は請求項４に記載の混合物を有機溶剤に溶解した組成物。

【請求項6】

請求項４に記載の重合性能を有する混合物、又は、請求項４に記載の混合物を有機溶剤に溶解した重合性能を有する重合性組成物を重合させることにより得られる重合体組成物。

【請求項7】

請求項４に記載の重合性能を有する混合物、又は、請求項４に記載の混合物を有機溶剤に溶解した重合性能を有する重合性組成物の重合体組成物を順次積層して得られる光学異方体。

【請求項8】

請求項４に記載の重合性能を有する混合物、又は、請求項４に記載の混合物を有機溶剤に溶解した重合性能を有する重合性組成物を重合させることにより得られる位相差膜。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ケイ素化合物が低濃度で存在するメソゲン基を含有する化合物、当該メソゲン基を含有する重合性化合物、これらを用いた混合物、組成物、並びに、当該重合性化合物を有する重合性混合物、重合性組成物を用いた重合体、光学異方体、位相差膜に関する。

【背景技術】

【0002】

重合性液晶組成物は光学異方体の構成部材として有用であり、光学異方体は、例えば、偏光フィルム、位相差フィルムとして、種々の液晶ディスプレイに応用されている。偏光フィルムや位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基材に塗布して、配向膜等により重合性液晶組成物を配向させた状態で加熱、あるいは活性エネルギー線を照射して重合性液晶組成物を硬化することにより得られる。そして、得られる光学異方体は、耐傷性が良好であることが求められる。耐傷性を付与した光学異方体を得る方法としては、位相差フィルム上にハードコート層を塗装する方法が提案されている（特許文献１）。しかし、位相差フィルム上にハードコート層を塗装する方法では、厚膜化、高コスト化につながる点や位相差フィルムとハードコート層との密着性の点で問題を抱えていた。また、多官能性重合性化合物を含有する重合性液晶性組成物を用いると、耐傷性に優れる光学異方体が得られる旨が報告されているが、用いる重合性化合物の種類によっては、硬化収縮が大きくなり、基材層と光学異方体層との密着性、あるいは光学異方体層とその上層との密着性が不十分であった（特許文献２）。

【0003】

以上のことから、光学異方体とした場合に耐傷性、及び他層との密着性に優れる重合性液晶組成物の開発が求められていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１２−１６８２９５号公報

【特許文献2】特開２００２−３５０６４１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明が解決しようとする課題は、基材に塗布し、光学異方体となった場合に、耐傷性、密着性が良好なものが得られる重合性組成物を提供し、併せて、当該重合性組成物を用いた光学異方体を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、上記課題を解決するために、重合性を有する混合物、及び、重合性組成物を構成するメソゲン基を含有する化合物について着目し、鋭意検討した結果、重合性組成物中に含まれる、メソゲン基を含有する化合物からなる混合物中のケイ素化合物の含有量が、重合性組成物を基材に塗布して光学異方体とした場合の耐傷性、及び密着性に影響を及ぼすことを見出した。

【0007】

具体的には、メソゲン基を含有する化合物は多くの合成工程を経ることにより得られるが、各工程の合成反応が終了する毎に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、アルミナカラムクロマトグラフィー又は活性炭処理により精製を行っている。そのため、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを精製方法として用いた場合、精製後の濾過工程では、シリカゲル由来のケイ素化合物を除去しきれず、原料化合物にケイ素化合物が残留する場合があった。しかし、当該ケイ素化合物が残留する原料化合物を用いた重合性組成物により製造した光学異方体は、シリカゲル等のケイ素化合物以外を吸着剤として使用し、ケイ素化合物が残留しない原料化合物を用いた重合性組成物により製造した光学異方体よりも、耐傷性、密着性が良好となること、ケイ素化合物の残留量が特定の割合を超えた重合性組成物により製造した光学異方体は配向性能が低下することを見出した。

【0008】

即ち、本発明は、ケイ素化合物が低濃度で存在するメソゲン基を含有する化合物、該化合物を用いた混合物、組成物、及び、重合性組成物を提供し、併せて、当該重合性組成物を用いた耐傷性、密着性が良好な光学異方体、及び位相差膜を提供する。

【発明の効果】

【0009】

本発明のケイ素化合物が低濃度で存在するメソゲン基を含有する化合物からなる重合性組成物を用いることで、耐傷性、密着性が良好な光学異方体、及び位相差膜を得ることができる。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下に本発明の最良の形態について説明するが、本発明において、『ケイ素化合物が低濃度で存在するメソゲン基を含有する化合物』とは、従来、メソゲン基を含有する化合物中には、濾過工程を経て製造されていることから、ケイ素化合物等のいわゆる不純物を含有しないものと解されるが、実際には、不純物を含有している場合においても（単体）化合物と規定されていることから、精製工程で混入するケイ素化合物を含有する場合においても、ケイ素化合物を含有する混合物とするのではなく、単にメソゲン基を含有する化合物と称する。また、以下において、重合性組成物を重合性液晶組成物と称することがあるが、該「液晶」とは、重合性液晶組成物を基材に塗布し、乾燥した後に、紫外線等の光照射、あるいは加熱によって重合処理を行った場合に、液晶性を示すことを意図する。

【0011】

本発明のメソゲン基を含有する化合物にはケイ素化合物が低濃度存在することを特徴とする。メソゲン基を含有する化合物に混入しているケイ素化合物の含有量は、蛍光Ｘ線分析装置、ＩＣＰ発光分析装置で測定することができる。当該混入するケイ素化合物の含有量は、２種以上の前記メソゲン基を含有する化合物のみからなる混合物とした場合に、前記ケイ素の含有量が、混合物全体で０．７ｐｐｍ重量％以上１０００ｐｐｍ重量％以下に管理するのが好ましく、次に、０．８ｐｐｍ重量%以上５００ｐｐｍ重量％以下が好ましく、１ｐｐｍ重量％以上２００ｐｐｍ重量％以下が更に好ましく、１ｐｐｍ重量％以上５０ｐｐｍ重量%以下が特に好ましい。

【0012】

また、当該混入するケイ素化合物の含有量は、２種以上の前記メソゲン基を含有する化合物を含有する組成物とした場合に、前記ケイ素の含有量が、組成物全体で０．７ｐｐｍ重量％以上１０００ｐｐｍ重量％以下に管理するのが好ましく、次に、０．８ｐｐｍ重量%以上５００ｐｐｍ重量％以下が好ましく、１ｐｐｍ重量％以上２００ｐｐｍ重量％以下が更に好ましく、１ｐｐｍ重量％以上５０ｐｐｍ重量%以下が特に好ましい。

【0013】

また、メソゲン基を含有する各化合物単体でみても、前記ケイ素の含有量が、それぞれ、０．７ｐｐｍ重量%以上１０００ｐｐｍ重量%以下に管理するのが好ましく、１ｐｐｍ重量%以上８００ｐｐｍ重量%以下が更に好ましく、１ｐｐｍ重量%以上５００ｐｐｍ重量%以下が更に好ましく、１ｐｐｍ重量％以上２００ｐｐｍ重量％以下が更に好ましい。

【0014】

メソゲン基を含有する化合物としては、本技術分野で、複数の化合物を混合して混合物とした場合に液晶性を示す化合物として認識されるものであれば、分子内に重合性官能基を１つ又は２つ以上有する化合物であっても、分子内に重合性官能基を有さない化合物であっても、特に制限なく使用することができる。ここで、メソゲン基とは、環構造と該環構造を連結する連結基とからなり、環構造と環構造とを連結する部分が、原子数２以下の連結基又は単結合から構成された、２個以上の環構造から構成される部分を意味する。

【0015】

メソゲン基を含有する化合物の中でも、分子内に重合性官能基を１つ有する化合物は、混合物とした場合に液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。このような化合物としては、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ（Ｄ．Ｄｅｍｕｓ，Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｂｙ，Ｇ．Ｗ．Ｇｒａｙ，Ｈ．Ｗ．Ｓｐｉｅｓｓ，Ｖ．Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社発行，１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編，１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１１６５３８号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、等に記載されているような、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲン基である剛直な部位と、ビニル基、アクリロイル基、（メタ）アクリロイル基といった重合性官能基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。

【0016】

重合性官能基を１つ又は２つ以上有する化合物は、具体的には以下の一般式（１）で表される化合物が好ましい。

【0017】

【化1】

【0018】

（式中、Ｐは重合性官能基を表し、
Ｓｐは炭素原子数０〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）、
ｍは０又は１を表し、
ＭＧはメソゲン基を表し、
Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、あるいはＲ¹は一般式（１−ａ）

【0019】

【化2】

【0020】

（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｍは０又は１を表す。）で表される構造を表す。）で表される化合物が挙げられる。

【0021】

ここで、重合性官能基としては、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基、オキセタニル基、マレイミド基、チオール基が好ましく、生産性の観点から、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基、グリシジル基がより好ましく、ビニル基、ビニルエーテル基、アクリル基、（メタ）アクリル基がさらに好ましく、アクリル基、（メタ）アクリル基が特に好ましい。

【0022】

また、ＭＧで表されるメソゲン基は、一般式（１−ｂ）

【0023】

【化3】

【0024】

（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、又は一般式（１−ｃ）

【0025】

【化4】

【0026】

（式中、Ｐは反応性官能基を表し、Ａは、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、又は単結合を表し、Ｓｐは炭素原子数０〜１８のスペーサー基を表し、ｎは０又は１を表し、ｍは０又は１を表す。）を有していても良く、
Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
ｎは０、１又は２を表す。）で表される。

【0027】

前記一般式（１）で表される化合物のうち、分子内に１個の重合性官能基を有する単官能性化合物として、下記一般式（１−１）、及び一般式（１−２）で表される化合物が挙げられる。

【0028】

【化5】

【0029】

（式中、Ｚ^４は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基を表し、
Ｚ^５は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、
Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ₂基が酸素又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、これらの基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、
Ｙ³及びＹ⁴はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂-を表し、Ｙ⁵は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）。

【0030】

【化6】

【0031】

（式中、Ｚ^６は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８の炭化水素基を表し、
Ｚ^７は水素原子又はメチル基を表し、
Ｗ³は単結合、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−Ｏ−を表し、
vは１〜１８の整数を表し、
ｕは０又は１を表し、
Ｅ、Ｆ及びＧはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、隣接しないＣＨ基が窒素原子で置換された１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのＣＨ₂基が酸素原子又は硫黄原子で置換された１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基を表すが、これらの基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、
Ｙ⁶及びＹ⁷はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂-を表し、Ｙ^８は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−を表す。）。

【0032】

一般式（１−１）及び、一般式（１−２）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

【0033】

【化7】

【0034】

【化8】

【0035】

【化9】

【0036】

【化10】

【0037】

これらの化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

【0038】

分子内に１個の重合性官能基を有する単官能性化合物の合計含有量は、重合性組成物全体の含有量の内、０〜９５質量％含有することが好ましく、０〜９０質量％含有することがより好ましく、０〜８５質量％含有することが特に好ましい。

【0039】

前記一般式（１）で表される化合物のうち、Ｒ¹が一般式（１−ａ）で表される分子内に２個の重合性官能基を有する２官能性化合物として、下記一般式（２−１）で表される化合物が挙げられる。

【0040】

【化11】

【0041】

（式中、ｍは０又は１を表し、ｎは０、１又は２を表し、
Ｗ¹及びＷ²はそれぞれ独立的に単結合、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−Ｏ−を表し、
Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立的に単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−又は−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂-を表し、Ｙ^２が複数存在する場合は、同一であっても、異なってもよく、
Ａは、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２,６−ジイル基を表し、Ａが複数存在する場合は、同一であっても、異なってもよく、
Ｚ^８、Ｚ^９は水素原子又はメチル基を表し、
ｒ及びｓはそれぞれ独立的に１〜１８の整数を表し、
Ｒ^３〜Ｒ^１０は、それぞれ、水素原子、炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子から選択される。）。

【0042】

一般式（２−１）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

【0043】

【化12】

【0044】

【化13】

【0045】

【化14】

【0046】

一般式（２−１）で表される化合物の合計含有量は、重合性組成物全体の含有量の内、５〜１００質量％含有することが好ましく、８〜１００質量％含有することがより好ましく、１０〜１００質量％含有することが特に好ましい。

【0047】

また、近年、位相差膜（フィルム）に対しては、液晶ディスプレイの視野角を向上させるためや有機ＥＬディスプレイの反射防止特性を向上させるために、複屈折率（△ｎ）の波長分散特性を小さく、もしくは逆にすることが求められている。この特性を有する、いわゆる、逆分散型の重合性液晶化合物を本発明の重合性組成物に含有することもできる。具体例としては、下記一般式（３−１）で表される化合物が挙げられる。

【0048】

【化15】

【0049】

（式中、Ｐは重合性官能基を表し、Ｓｐはスペーサー基又は単結合を表し、
Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴はそれぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴はそれぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表し、
Ｒ¹は炭素原子数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基又は「*−Ｓｐ−Ｐ」を表し（*はＡ⁴又はＡ³に結合することを表す。）、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０〜４の整数を表し（ただし、ｍ＋ｎは２以上の整数である。）、
Ｂは下記の式（ｉ）又は式（ｉｉ）で表される基である。）

【0050】

【化16】

【0051】

式（ｉ）中、Ｔ¹は−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＣＳ−を表し、Ｔ^２は「＝ＣＲ^２−」又は「＝Ｎ−」を表し、Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表し、Ｒ^３は炭素原子数１〜６のアルキル基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。式（ｉｉ）中、Ｔ^３、Ｔ^４はそれぞれ独立に、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ^６−、−ＣＨ_２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＣＳ−を表し、ここで、Ｒ^６は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表し、Ｒ^４、Ｒ^５は、それぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、Ｒ^４とＲ^５を連結するＹを介して環を形成する。

【0052】

一般式（３−１）で表される化合物は、重合前において液晶性を有することが好ましい。すなわち、一般式（３−１）で表される化合物は重合性液晶化合物であることが好ましい。

【0053】

一般式（１）中のＰで表される重合性官能基は、従来の重合性液晶化合物に使用される基が制限なく適用可能であり、例えば、ビニル基、ｐ−スチルベン基、アクリル基（アクリロイル基）、メタクリル基（メタクロイル基）、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが挙げられる。
好適な重合性官能基Ｐとして、下記一般式（II-c）、一般式（II-d）及び一般式（II-e）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基が挙げられる。

【0054】

【化17】

【0055】

一般式（II-c）、一般式（II-d）及び一般式（II-e）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^４１、Ｒ^４２及びＲ^４３は、それぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。また、一般式（II-d）のＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数１〜５のハロゲン化アルキル基を表す。
上記一般式で表される重合性官能基は、その左端が一般式（３−１）のＳｐに結合する。
前記アルキル基は直鎖又は分岐鎖アルキル基であることが好ましく、直鎖アルキル基であることがより好ましい。前記アルキル基に結合する水素原子の一部又は全部がハロゲン原子によって置換されていてもよい。

【0056】

上記一般式で表される重合性官能基のうち、重合性および保存安定性を高める観点から、一般式（II-c）及び一般式（II-d）で表される基からなる群より選ばれる基が好ましく、一般式（II-d）で表される基からなる群より選ばれる基がより好ましい。
一般式（II-c）、一般式（II-d）又は一般式（II-e）で表される重合性官能基としては、例えば以下の反応性官能基（Ｐ−１）〜（Ｐ−８）が挙げられる。これらの反応性官能基のうち、重合性および保存安定性を高める観点から、下記（Ｐ−１）又は（Ｐ−２）が好ましく、下記（Ｐ−１）がより好ましい。下記（Ｐ−１）〜（Ｐ−８）で表される重合性官能基は、その右端が一般式（３−１）のＳｐに結合する。

【0057】

【化18】

【0058】

一般式（３−１）中のＳｐはスペーサー基又は単結合である。該スペーサー基は、重合性官能基ＰとＡ^１又はＡ^２とを連結可能な２価の連結基であり、一般式（３−１）で表される化合物の液晶性を損なわない連結基が好ましい。
好適なＳｐとしては、例えば、炭素原子数１〜２０の直鎖状アルキレン基が挙げられる。このアルキレン基中に存在する１つのＣＨ_２基又は隣接していない２つ以上のＣＨ_２基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子同士、硫黄原子同士、及び酸素原子と硫黄原子とが相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていてもよい。前記アルキレン基の炭素原子数は、液晶性を向上させる観点から、２〜１０が好ましく、３〜８がより好ましく、３〜６が更に好ましい。

【0059】

一般式（３−１）中の環式基Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４は、それぞれ独立に二価の脂環式炭化水素基、又は芳香族炭化水素基を表す。また、上記環式基は芳香族複素環式基であっても構わない。
前記環式基としては、例えば、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２,５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２,５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２,５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２,６−ジイル基、ピリジン−２,５−ジイル基、ピリミジン−２,５−ジイル基、ピラジン−２,５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２,６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２,７-ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２,７-ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ-オクタヒドロフェナントレン２，７-ジイル基又はフルオレン２，７-ジイル基などが挙げられる。
上記の１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２,６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２,７-ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２,７-ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン２，７-ジイル基及びフルオレン２，７-ジイル基に結合する１つ以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ_３、ＯＣＦ_３、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基又は炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基により置換されていてもよい。

【0060】

一般式（３−１）中の環式基Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４は、それぞれ独立に上記の1,4-フェニレン基又は1,4-シクロヘキシレン基であることが好ましい。これらの環式基であると、本実施形態の重合性化合物の液晶性を向上させ、その重合体の配向性を向上させることが容易になる。

【0061】

一般式（３−１）中のＸ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４は、それぞれ独立に二価の連結基又は単結合を表す。
Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３及びＸ^４の好ましい例としては、それぞれ独立に、−（ＣＨ_２）_ｕ−Ｏ−ＣＯＯ−、−（ＣＨ_２） _ｕ ―ＯＣＯ−、−（ＣＨ_２）_ｕ −ＣＯＯ−、−（ＣＨ_２）_ｕ−Ｏ ―、−Ｏ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｕ−、―ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｕ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｕ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｕ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ‐及び−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ‐、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、単結合が挙げられる。ここで、uは０〜２の何れかの整数を表し、vは１または２を表す。ｕが０である場合、−（ＣＨ_２）_ｕ−Ｏ−ＣＯＯ−及び−Ｏ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）ｕ−は−Ｏ−ＣＯＯ−を表し、−（ＣＨ_２）_ｕ−Ｏ ―及び−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｕ−は−Ｏ−を表し、−（ＣＨ_２）_ｕ −ＣＯＯ−及び−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｕ−は−ＣＯＯ−を表し、−（ＣＨ_２） _ｕ ―ＯＣＯ−及び―ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｕ−は―ＯＣＯ−を表す。
一般式（３−１）中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０〜４の整数を表し、且つ、ｍ＋ｎは２以上の整数である。
本実施形態の重合性化合物の液晶性を向上させる観点から、ｍ、ｎはそれぞれ独立に、０〜３が好ましく、０〜２がより好ましく、１又は２が更に好ましい。また、ｍとｎは同じ整数であることが好ましい。

【0062】

一般式（３−１）中の末端基Ｒ^１は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２アルコキシ基又は「*−Ｓｐ−Ｐ」を表す。ここで、「*」は、ｎが１以上の整数の場合はＡ^４に結合することを表し、ｎが０の場合はＡ^３に結合することを表す。
「*−Ｓｐ−Ｐ」のＳｐ及び重合性官能基Ｐは、前述と同じである。分子内にＳｐが２個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。また、分子内にＰが２個存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。
前記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状の何れのアルキル基であってもよく、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であることが好ましく、直鎖状アルキル基であることがより好ましい。前記アルキル基の炭素原子数は、２〜１０がより好ましく、３〜８がより好ましく、３〜６が更に好ましい。
前記アルコキシ基を構成するアルキル基も、前記アルキル基と同じ基が例示できる。前記アルコキシ基を構成するアルキル基の炭素原子数は１〜８が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３が更に好ましい。

【0063】

本実施形態の重合性化合物の液晶性及び配向性、並びにその重合性化合物を用いた位相差膜等の光学異方体における光学特性を向上させる観点から、末端基R¹は「*−Ｓｐ−Ｐ」であることが好ましい。この好ましい場合において、分子内に２個存在するＳｐは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましく、分子内に２個存在するＰは同一であっても異なっていてもよく、同一であることが好ましい。

【0064】

一般式（３−１）中の中心骨格Ｂは、下記の式（ｉ）、又は式（ｉｉ）で表される基である。

【0065】

【化19】

【0066】

一般式（ｉ）中、Ｔ^１は−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＣＳ−を表し、−ＮＨ−又は−Ｓ−であることが好ましく、−Ｓ−であることがより好ましい。
一般式（ｉ）中、Ｔ²は「＝ＣＲ^２−」又は「＝Ｎ−」を表し、Ｒ^２は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表す。なお、「＝ＣＲ^２−」は「＝Ｃ（―Ｒ^２）―」を表し、R²が結合する炭素原子Ｃに水素原子は結合していない。
一般式（ｉ）中、Ｔ²は＝ＣＨ−、＝Ｃ（−ＣＨ_３）―、＝Ｃ（―ＯＣＨ_３）―又は＝Ｎ−であることが好ましく、＝Ｎ−であることがより好ましい。
Ｒ²がアルキル基又はアルコキシ基である場合、Ｒ²のアルキル基及びアルコキシ基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
Ｒ²がハロゲン原子である場合、フッ素原子又は塩素原子であることが好ましい。
Ｔ^１及びＴ^２の好ましい組み合わせを、下記の一般式（ｉ−１）〜（ｉ−５）で表す。

【0067】

【化20】

【0068】

（式中、「＊」はそれぞれ一般式（ｉ）のX²及びX³に結合することを表し、R³は一般式（i）のR³と同じである。）

【0069】

一般式（ｉ）中、R^３は炭素原子数１〜６のアルキル基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。これらのうち、液晶性及び光学特性を向上させる観点から、Ｒ^３は脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基であることが好ましく、芳香族炭化水素基であることがより好ましい。
前記脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ_３基、又は水酸基で置換されていてもよい。ここで例示した置換基のうち、重合性化合物の液晶性及び配向性を向上させる観点から、ニトロ基、シアノ基、及び−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ_３基が好ましい。
前記アルキル基及び前記アルコキシ基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
前記脂環式炭化水素基の炭素原子数は、４〜１０が好ましく、５〜８がより好ましい。前記脂環式炭化水素基としては、例えば、下記式（ｉ−６−１）〜（ｉ−６−４）で表される基が挙げられる。また、これらの脂環式炭化水素基を構成する炭素原子の一部が、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子に置換されていてもよい。このような脂環式基としては、例えば、下記式（ｉ−６−５）〜（ｉ−６−１０）で表される基が挙げられる。式中、「＊」は一般式（ｉ）のＲ^３が結合する炭素原子に結合することを表す。

【0070】

【化21】

【0071】

上記の基（ｉ−６−１）〜（ｉ−６−１０）のうち、基（ｉ−６−１）又は（ｉ−６−２）が好ましい。基（ｉ−６−１）及び（ｉ−６−２）は、前記置換基を有していてもよく、その置換基としては、ニトロ基、シアノ基、及び−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ_３基が好ましい。前記置換基は、基（ｉ−６−１）の４位又は基（ｉ−６−２）の３位に結合していることが好ましい。ここで、環を構成する炭素原子のうち前記「＊」に結合する炭素原子が１位である。
前記芳香族炭化水素基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１４がより好ましい。前記芳香族炭化水素基としては、例えば、下記式（ｉ−７−１）〜（ｉ−７−１３）で表される基が挙げられる。式中、「＊」は一般式（ｉ）のR³が結合する炭素原子に結合することを表す。

【0072】

【化22】

【0073】

上記の基（ｉ−７−１）〜（ｉ−７−１３）のうち、基（ｉ−７−１）〜（ｉ−７−４）、（ｉ−７−７）〜（ｉ−７−１０）が好ましい。また、当該環構造には、前記置換基を有していることが好ましく、その置換基としては、ニトロ基、シアノ基、及び−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ_３基が好ましい。
一般式（ｉｉ）中、Ｔ^３、Ｔ^４はそれぞれ独立に、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＲ^２−、−ＣＨ_２−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＣＳ−を表す。ここで、Ｒ^６は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基又は水酸基を表す。Ｔ^３とＴ^４とは同じであってもよいし、異なっていてもよい。Ｔ^３及びＴ^４がともに−ＮＲ^６−である場合には、２つのＲ^６は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。
Ｔ^３は−Ｏ−、−ＮＲ^６−又は−Ｓ−であることが好ましく、−ＮＲ^６−又は−Ｓ−であることがより好ましく、−Ｓ−であることが更に好ましい。
Ｔ^４は−Ｏ−、−ＮＲ^６−又は−Ｓ−であることが好ましく、−ＮＲ^６−又は−Ｓ−であることがより好ましく、−Ｓ−であることが更に好ましい。
Ｒ^６がアルキル基又はアルコキシ基である場合、R⁶のアルキル基及びアルコキシ基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
R⁶がハロゲン原子である場合、フッ素原子又は塩素原子であることが好ましい。
一般式（ｉｉ）中、Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立して一価の置換基を表すか、又は、Ｒ^４とＲ⁵を連結するＹを介して環を形成する。

【0074】

Ｒ^４、Ｒ^５の一価の置換基としては、それぞれ独立に、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、等が挙げられる。

【0075】

Ｒ⁴とＲ⁵を連結するＹを介して環を形成する下記一般式（ｉｉ−１）の場合、

【0076】

【化23】

【0077】

Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は一価の置換基を表す。）、＝Ｎ−、＝Ｎ（＋）Ｒ−（Ｒは水素原子又は一価の置換基を表す。）、−ＣＯ−、−ＣＳ−及び＝ＣＲ−（Ｒは水素原子又は一価の置換基を表す。）からなる群から選ばれる何れかの基である。ここで、Ｒが一価の置換基である場合、当該一価の置換基は、前述したＲ^４、Ｒ^５が一価の置換基である場合の例が挙げられる。
Ｙは、炭素原子及び第１４〜１６族の非金属原子からなる群から選択される２〜４個の原子を表し、上記一般式（ｉｉ−１）に記載のＲ^４−Ｃ−Ｒ^５と共に５〜７員環（以下、環Ｙと呼ぶことがある。）を形成する。環Ｙを構成する原子が置換可能な水素原子を有する場合には、その水素原子が置換基Ｒ^Yによって置換されていてもよい。Ｒ^Yの例としては、前述したＲ^４、Ｒ^５が一価の置換基である場合の例が挙げられる。

【0078】

一般式（３−１）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない

【0079】

【化24】

【0080】

また、上記化合物以外にも一般式（３−２）で表される化合物が挙げられる。

【0081】

【化25】

【0082】

（式中、Ｐ^１１は重合性基を表し、Ｓ^１１はスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^１１−（Ｓ^１１−Ｘ^１１）_ｋ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ａ^１１及び／又はＡ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−１０）

【0083】

【化26】

【0084】

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｒ^１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｇは下記の式（Ｇ−１）又は式（Ｇ−３）

【0085】

【化27】

【0086】

（式中、Ｒ^３は水素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｗ^１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数６から３０の基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｗ^２は水素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｗ^２はＷ^１と同様の意味を表しても良く、また、Ｗ^１及びＷ^２は一緒になって環構造を形成しても良い。）から選ばれる基を表し、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、ｋは０から８の整数を表し、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から５の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は１から５の整数を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。）。

【0087】

一般式（３−２）において、Ｐ^１１は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

【0088】

【化28】

から選ばれる基を表すのが好ましい。

【0089】

また、一般式（３−２）において、ｋが１であり、Ｓ^１１が、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すのが好ましい。
Ｗ^１及びＷ^２に含まれるπ電子の総数は６から２４であるのが好ましい。
Ｗ^１に含まれる芳香族基は下記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−１９）

【0090】

【化29】

【0091】

（式中、これらの基は任意の位置に結合手を有していて良く、Ｑ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３−（式中、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−を表す。これらの芳香族基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^４−（式中、Ｒ^４は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−に置き換えられても良いが、−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。また、これらの芳香族基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、これらの基から選ばれる２つ以上の芳香族基を単結合で連結した基を形成しても良い。）で表される基であるのが好ましい。

【0092】

一般式（３−２）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

【0093】

【化30】

【0094】

【化31】

【0095】

【化32】

【0096】

【化33】

【0097】

また、同様に一般式（３−３）で表される化合物も挙げられる。

【0098】

（式中、Ｐ^２１及びＰ^２２は各々独立して重合性基を表し、
Ｓ^２１及びＳ^２２は各々独立してスペーサー基を又は単結合を表すが、Ｓ^２１及びＳ^２２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く、
Ｘ^２１及びＸ^２２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^２１及びＸ^２２が複数存在する場合それらは各々同一であっても異なっていても良く（ただし、各Ｐ−（Ｓ−Ｘ）−結合には−Ｏ−Ｏ−を含まない。）、
ＭＧ^２１はメソゲン性基を表し、
ｍ２及びｎ２は各々独立して０から５の整数を表す。）。

【0099】

前記メソゲン性基ＭＧ^２１は式（８−ａ）

【0100】

【化34】

【0101】

（式中、
Ａ^８１、Ａ^８２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いが、Ａ^８１及び／又はＡ^８２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｚ^８１及びＺ^８２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^８１及び／又はＺ^８２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−８）

【0102】

【化35】

【0103】

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、
Ｇは下記の式（Ｇ−１）、又は式（Ｇ−２）

【0104】

【化36】

【0105】

（式中、Ｒ^３は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、Ｗ^１は少なくとも１つの芳香族基を有する、炭素原子数２から３０の基を表すが、当該基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｗ^２は水素原子、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、若しくは、Ｗ^２はＷ^１と同様の意味を表しても良く、また、Ｗ^１及びＷ^２は互いに連結し同一の環構造を形成しても良い。）から選ばれる基を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｊ８１及びｊ８２は各々独立して０から５の整数を表すが、ｊ８１＋ｊ８２は１から５の整数を表す。）で表される基であるのが好ましい。

【0106】

前記重合性基Ｐ^２１及びＰ^２２は各々独立して一般式（Ｐ−１）から（Ｐ−２０）

【0107】

【化37】

から選ばれる基を表すのが好ましい。

【0108】

一般式（３−３）で表される例示化合物としては、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

【0109】

【化38】

【0110】

【化39】

【0111】

【化40】

【0112】

【化41】

【0113】

【化42】

【0114】

【化43】

【0115】

【化44】

【0116】

【化45】

【0117】

【化46】

【0118】

これらの液晶化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、前記一般式（１−１）、一般式（１−２）で表される分子内に１個の重合性官能基を有する単官能性化合物や、一般式（２−１）で表される分子内に２個の重合性官能基を有する２官能性化合物や、後述の一般式（４−１）〜一般式（４−７）で表されるような分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物を併用することもできる。

【0119】

一般式（３−１）、（３−２）及び（３−３）で表される化合物の合計含有量は、重合性組成物全体の含有量の内、１０〜１００質量％含有することが好ましく、２０〜１００質量％含有することがより好ましく、３０〜１００質量％含有することが特に好ましい。

【0120】

前記一般式（１）で表される化合物のうち、分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物としては、以下の例示化合物が挙げられる。

【0121】

【化47】

【0122】

【化48】

【0123】

分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能性化合物の合計含有量は、重合性組成物全体の含有量のうち、０〜３０質量％含有することが好ましく、０〜２５質量％含有することがより好ましく、０〜２０質量％含有することが特に好ましい。

【0124】

また、本発明の液晶組成物には、重合性基を有さないメソゲン基を含有する化合物を添加しても良く、通常の液晶デバイス、例えばＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）液晶や、ＴＮ（ツイステッド・ネマチック）液晶、ＴＦＴ（薄膜トランジスター）液晶等に使用される化合物が挙げられる。

【0125】

重合性官能基を有さないメソゲン基を含有する化合物は、具体的には以下の一般式（５）で表される化合物が好ましい。

【0126】

【化49】

【0127】

（ＭＧで表されるメソゲン基は、一般式（５−ｂ）

【0128】

【化50】

【0129】

（式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基を有していても良く、
Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２及びＺ３はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
ｎは０、１又は２を表し、
Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ₂基又は隣接していない２つ以上のＣＨ₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）で表される化合物が挙げられる。

【0130】

具体的には、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。

【0131】

【化51】

【0132】

（その他の成分）
（キラル化合物）
本発明の重合性液晶組成物中には、キラルネマチック相を得ることを目的としてキラル化合物を配合してもよい。キラル化合物のなかでも、分子中に重合性官能基を有する化合物が特に好ましい。

【0133】

キラル化合物中の重合性官能基としては、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。キラル化合物の配合量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、用いる重合性化合物及びキラル化合物の合計量のうち０〜８５質量％含有することが好ましく、０〜８０質量％含有することがより好ましく、０〜７５質量％含有することが特に好ましい。

【0134】

キラル化合物の具体的例としては、式（６−１）〜（６−８）の化合物を挙げることができる。

【0135】

【化52】

【0136】

（式中、ｎは２〜１２の整数を表す。）また、キラル化合物の具体的例としては、更に、式（６−９）〜（６−１２）の化合物を挙げることができる。

【0137】

【化53】

【0138】

（有機溶剤）
本発明の重合性液晶組成物中に用いる有機溶剤としては特に限定はないが、重合性化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが溶液安定性の点から好ましい。

【0139】

用いる有機溶剤の比率は、本発明に用いられる重合性液晶組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物中に含有する重合性化合物の合計量が１〜６０質量％であることが好ましく、３〜５５質量％であることが更に好ましく、５〜５０質量％であることが特に好ましい。

【0140】

有機溶剤に重合性化合物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる重合性化合物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１１０℃が好ましく、１５℃〜１０５℃がより好ましく、１５℃〜１００℃がさらに好ましく、２０℃〜９０℃とするのが特に好ましい。

【0141】

また、重合性液晶組成物を調製する際には分散攪拌機により攪拌混合することが好ましい。分散攪拌機として具体的には、ディスパー、プロペラ、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、遊星式攪拌装置、振とう機、シェーカー又はロータリーエバポレーター等が使用できる。その他には、超音波照射装置が使用できる。

【0142】

重合性溶液を調製する際の攪拌回転数は、用いる攪拌装置により適宜調整することが好ましいが、均一な重合性溶液とするために攪拌回転数を１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍとするのが好ましく、５０ｒｐｍ〜８００ｒｐｍとするのがより好ましく、１５０ｒｐｍ〜６００ｒｐｍとするのが特に好ましい。

【0143】

（重合禁止剤、酸化防止剤）
本発明の重合性液晶組成物の溶液安定性を高めるため、重合禁止剤、及び／又は酸化防止剤等を添加することが好ましい。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、ｐ−メトキシフェノール、ｔｅｒｔ-ブチルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、和光純薬工業社の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ＢＡＳＦ社の「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」等々があげられる。

【0144】

重合禁止剤、酸化防止剤の添加量は重合性液晶組成物に対して、それぞれ、０．０１〜１．０質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

【0145】

（光重合開始剤）
光重合開始剤は少なくとも１種類以上含有することが好ましい。具体的には、ＢＡＳＦ社の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」やＬＡＭＢＳＯＮ社の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬社の「カヤキュアＤＭＢＩ」、日本シイベルヘグナー社(現ＤＫＳＨ社)の「ＴＡＺ−Ａ」等が挙げられる。

【0146】

光重合開始剤の使用量は重合性溶液に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもでき、また、増感剤等を添加しても良い。

【0147】

（熱重合開始剤）
本発明の重合性液晶組成物には、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用してもよい。具体的には、和光純薬工業社製の「Ｖ−４０」、「ＶＦ−０９６」、日本油脂社製の「パーへキシルＤ」、「パーへキシルＩ」等が挙げられる。
熱重合開始剤の使用量は重合性液晶組成物に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。

【0148】

（界面活性剤）
本発明の重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の膜厚むらを低減させるために界面活性剤を少なくとも１種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。更に具体的には「メガファック Ｆ−２５１」、「メガファック Ｆ−４４４」、「メガファック Ｆ−４７７」、「メガファック Ｆ−５１０」、「メガファック Ｆ−５５２」、「メガファック Ｆ−５５３」、「メガファック Ｆ−５５４」、「メガファック Ｆ−５５５」、「メガファック Ｆ−５５８」、「メガファック Ｆ−５６０」、「メガファック Ｆ−５６１」、「メガファック Ｆ−５６３」、「メガファック Ｆ−５６９」、「メガファック Ｆ−５７０」、「メガファック Ｒ−４０」、「メガファック Ｒ−４１」、「メガファック Ｒ−４３」、「メガファック Ｒ−９４」、「メガファック ＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファック ＲＳ−７５」、「メガファック ＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファック ＲＳ−９０」、（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＢＹＫ−３４４０（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、「Ｎ２１５」、「Ｎ５３５」、「Ｎ６０５Ｋ」、「Ｎ９３５」（以上、ソルベイソレクシス社製）、ＥＦＫＡ−３２７７、ＥＦＫＡ−３５００、ＥＦＫＡ−３６００、ＥＦＫＡ−３７７７（以上、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）等の例をあげることができる。

【0149】

界面活性剤の添加量は重合性液晶組成物に対して、０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

【0150】

本発明の重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じるために下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物を少なくとも１種類以上含有することができる。

【0151】

【化54】

【0152】

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）
該一般式（７）で表される好適な化合物として、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン等を挙げることができる。
該一般式（７）で表される化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に光重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。
該一般式（７）で表される化合物の添加量は重合性溶液に対して、０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。

【0153】

本発明の重合性組成物溶液は、光学異方体とした場合の基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を添加することも好ましい。連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、モノチオール、ジチオール、トリチオール、テトラチオール化合物がより好ましく、トリチオール化合物が更により好ましい。具体的には下記一般式（７−１）〜（７−１２）で表される化合物が好ましい。

【0154】

【化55】

【0155】

【化56】

【0156】

（式中、Ｒ^６５は炭素原子数２〜１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であっても良く、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｒ^６６は炭素原子数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよい。）
連鎖移動剤は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。
連鎖移動剤の添加量は重合性液晶組成物に対して、０．５〜１０質量％であることが好ましく、１．０〜５．０質量％であることがより好ましい。

【0157】

更に物性調整のため、重合性でない液晶化合物、あるいは液晶性のない重合性化合物等も必要に応じて添加することも可能である。液晶性のない重合性化合物は、重合性化合物を有機溶剤に混合し加熱攪拌して重合性溶液を調製する工程において添加することが好ましいが、重合性でない液晶化合物等は、その後の、重合性溶液に重合開始剤を混合する工程において添加してもよいし、両方の工程において添加してもよい。これらの化合物の添加量は重合性液晶組成物に対して、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が更により好ましい。

【0158】

本発明の重合性混合物、又は重合性組成物には、目的に応じて他の添加剤、例えば、チキソ剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。

【0159】

（混合物、組成物の製造・精製・濾過方法）
本願発明のケイ素化合物の含有量が低濃度で特定の範囲にある、２種以上のメソゲン基を含有する化合物の混合物、及び、有機溶剤に２種以上のメソゲン基を含有する化合物を混合してなる組成物は、メソゲン基を含有する化合物の合成工程において、シリカゲル等のケイ素化合物以外の吸着剤を用いて精製を行って得られる化合物を用い、当該混合物又は組成物に特定量ケイ素化合物を混合することにより得られるが、用いるすべてのメソゲン基を含有する化合物は、ケイ素化合物以外の吸着剤を用いて精製する必要がある。ここで、ケイ素化合物以外の吸着剤としては、アルミナ、活性炭等が挙げられ、ケイ素化合物の吸着剤としては、シリカゲル、フロリジル、珪藻土、ゼオライト等が挙げられる。

【0160】

本願発明のケイ素化合物の含有量が低濃度で特定の範囲にある、２種以上のメソゲン基を含有する化合物の混合物、及び、有機溶剤に２種以上のメソゲン基を含有する化合物を混合してなる組成物のもう１つの製造方法としては、シリカゲル等のケイ素化合物による精製工程を経て得られる、２種以上のメソゲン基を含有する原料化合物を混合した混合物、又は、有機溶剤に該２種以上のメソゲン基を含有する原料化合物を溶解した組成物をフィルターで濾過する方法が挙げられる。フィルターの孔径としては、０．１μｍ以上〜１μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上〜０．４５μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以上〜０．２２μｍ以下が更に好ましい。フィルターの膜厚としては、６０μｍ以上〜１００μｍ以下が好ましい。また、濾過工程の回数を１回から、複数回に増加させることにより、混合物、組成物中のケイ素化合物の含有量を低減することができ、例えば、０．１μｍの孔径を有するフィルターを用いて濾過した後に、更に、０．１μｍの孔径を有するフィルターを用いて濾過した混合物、又は、組成物を用いることで、耐傷性、密着性が良好な光学異方体を得ることができる。また、有機溶剤に原料化合物を溶解した組成物を濾過する場合においては、濾過を行う前に、あらかじめフィルターを用いる有機溶剤により、通液し原料化合物が孔から通過しやすいようにすることでも、効果的に組成物中のケイ素化合物の含有量を低減することができる。さらに、濾過時の加圧条件により、濾過後のケイ素化合物の含有量を調節することができる。したがって、用いるフィルターの孔径は、精製コストと精製時間を考慮した上で、濾過時の加圧条件、濾過回数等を加味し、適宜調節することが好ましい。

【0161】

フィルターの材質は、紙、布、不織布、セルロース、ニトロセルロース、セルロース混合エステル、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、親水性ＰＴＦＥ、フッ化ポリビニリデン、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ガラス繊維等が挙げられるが、ＰＴＦＥ又はフッ化ポリビニリデンが好ましい。

【0162】

（光学異方体の製造方法）
（光学異方体）
本発明の重合性液晶組成物を用いて作製した光学異方体は、基材、必要に応じて配向膜、及び、重合性液晶組成物の重合体組成物を順次積層したものである。

【0163】

本発明の光学異方体に用いられる基材は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましい。

【0164】

本発明の重合性液晶組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。

【0165】

また、上記基材には、本発明の重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。

【0166】

（塗布）
本発明の光学異方体を得るための塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を塗布後、乾燥させる。

【0167】

（重合工程）
本発明の重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物中の液晶化合物が基材に対して水平配向、垂直配向、又はハイブリッド配向、あるいはコレステリック配向（平面配向）した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。

【0168】

（重合方法）
本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り３０℃以下とすることが好ましい。尚、液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ（固相）−Ｎ（ネマチック）転移温度（以下、Ｃ−Ｎ転移温度と略す。）から、Ｎ−Ｉ転移温度範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外線照射強度は、０．０５kＷ／ｍ^２〜１０ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。特に、０．２ｋＷ／ｍ^２〜２ｋＷ／ｍ^２の範囲が好ましい。紫外線強度が０．０５ｋＷ／ｍ^２未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかる。一方、２ｋＷ／ｍ^２を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にあることや、重合熱が多く発生して重合中の温度が上昇し、重合性液晶のオーダーパラメーターが変化して、重合後のフィルムのリタデーションに狂いが生じる可能性がある。

【0169】

マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることもできる。
また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることができる。

【0170】

本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。

【0171】

（用途）
本願発明の重合性液晶組成物を水平配向、垂直配向、又はハイブリッド配向、あるいはコレステリック配向した状態で重合して得られる重合体は、配向性能を有する光学異方体として、光学補償膜、位相差膜、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、反射フィルム、偏光フィルムとして用いることができる。また、当該重合体は、放熱性を有する接着剤、封止剤、放熱シート、セキュリティー印刷用インキとして用いることができる。

【実施例】

【0172】

以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

【0173】

メソゲン基を含有する化合物の原料化合物としては、下記式（Ａ１）〜式（Ａ１１）、式（Ｂ１）〜（Ｂ１２）、式（Ｃ１）で表される化合物を用いた。各原料化合物のケイ素化合物の含有量（質量％）をＩＣＰ発光分析装置により測定（測定条件：各原料化合物０．０３ｇをキシレン１０ｇに溶解して測定）したところ、それぞれ、以下の含有量であった。式（Ａ１）：１２５０ｐｐｍ、式（Ａ２）：１１００ｐｐｍ、式（Ａ３）：１４６５ｐｐｍ、式（Ａ４）：１３６０ｐｐｍ、式（Ａ５）：１３４０、式（Ａ６）：１４４０、式（Ａ７）：１３３０ｐｐｍ、式（Ａ８）：１１５５ｐｐｍ、式（Ａ９）：１５７０ｐｐｍ、式（Ａ１０）：１４７０ｐｐｍ、式（Ａ１１）：１４００ｐｐｍ。式（Ｂ１）：１５００ｐｐｍ、式（Ｂ２）：１４００ｐｐｍ、式（Ｂ３）：１３４０ｐｐｍ、式（Ｂ４）：１２２０ｐｐｍ、式（Ｂ５）：１１６０ｐｐｍ、式（Ｂ６）：１４５０ｐｐｍ、式（Ｂ７）：１５６０ｐｐｍ、式（Ｂ８）：１５６０ｐｐｍ、式（Ｂ９）：１３５０ｐｐｍ、式（Ｂ１０）：１３４０ｐｐｍ、式（Ｂ１１）：１２６０ｐｐｍ、（Ｂ１２）：１４３０ｐｐｍ、式（Ｂ１３）：１２３０ｐｐｍ、（Ｂ１４）：１４００ｐｐｍ、式（Ｂ１５）：１２２２ｐｐｍであった。

【0174】

【化57】

【0175】

【化58】

【0176】

【化59】

【0177】

【化60】

【0178】

イルガキュア９０７（Ｄ１）
ルシリンＴＰＯ（Ｄ２）
イルガキュア８１９（Ｄ３）
ＴＡＺ−Ａ（Ｄ４）
ｐ−メトキシフェノール（Ｅ１）
ポリプロピレン（重量平均分子量（ＭＷ）：１２７５）（Ｆ１）
流動パラフィン（Ｆ２）
メガファックＦ−５５４（Ｆ３）
ＢＹＫ３６１Ｎ（Ｆ４）
メガファックＦＣ−１７１（Ｆ５）

【0179】

【化61】

【0180】

プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｈ１）
シクロペンタノン（Ｈ２）
トルエン（Ｈ３）

【0181】

（重合性液晶組成物（１）の調製）
原料化合物（Ａ１〜Ａ１１、Ｂ１〜Ｂ１５、Ｃ１）である、式（Ａ１）で表される化合物５０部、式（Ａ２）で表される化合物１０部、式（Ａ３）で表される化合物２０部、式（Ｂ１）で表される化合物１０部、式（Ｂ２）で表される化合物１０部を、有機溶媒であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（Ｈ１）４００部、式（Ｅ１）で表される化合物０．１部、式（Ｆ１）で表される化合物０．１部、式（Ｄ１）で表される化合物３部を、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、攪拌速度が５００ｒｐｍ、溶液温度が６０℃の条件下で１時間攪拌した。０．１μｍ（ＰＴＦＥ、膜厚：６０μｍ）のメンブランフィルターを用い濾過圧力を０．２０ＭＰａになるよう調節して濾過後、再度、０．１μｍのメンブランフィルターを用い濾過圧力を０．２０ＭＰａになるよう調節して濾過し、重合性液晶組成物（１）を得た。
（重合性液晶組成物（２）〜（３４）、比較用重合性液晶組成物（３５）〜（６８）の調製）

【0182】

本発明の重合性液晶組成物（１）の調製と同様に、表１、表３、表５、表７、又は、表９に示す式（Ａ１〜Ａ１１、Ｂ１〜Ｂ１５、Ｃ１）で表される化合物、及び、表２、表４、表６、表８、又は、表１０に示す式（Ｄ１〜Ｄ４、Ｅ１、Ｆ１〜Ｆ５、Ｇ１〜Ｇ４を、ＰＧＭＥＡ（Ｈ１）、シクロペンタノン（Ｈ２）、トルエン（Ｈ３）から選択される有機溶剤（表１、表３、表５、表７、又は、表９に示す割合）に、攪拌プロペラを有する攪拌装置を用いて、重合性液晶組成物（１）を得た場合と同一攪拌速度、同一溶液温度に設定して、１時間攪拌後、表１、表３、表５、表７、又は、表９に示す孔径のメンブランフィルター（ＰＴＦＥ、孔径：０．１〜１μｍ、膜厚：６０〜１００μｍ）で、各濾過圧力で、各回数濾過し、重合性液晶組成物（２）〜（３４）、比較用重合性液晶組成物（３５）〜（６８）をそれぞれ得た。

【0183】

なお、表１、表３、表５、表７、又は、表９において、[孔径１]、[孔径２]、[孔径３]の部分に表す数値は、用いたメンブランフィルターの孔径（μｍ）を表し、濾過工程を１回のみ行った場合は、[孔径１]の部分に用いたメンブランフィルターの孔径（μｍ）を示し、[孔径２]及び、[孔径３]の部分は、[−]と示す。濾過工程を２回行った場合は、[孔径１]、[孔径２]の部分に用いたメンブランフィルターの孔径（μｍ）をそれぞれ示す。同様に、濾過工程を３回行った場合は、[孔径１]、[孔径２]、[孔径３]の部分に用いたメンブランフィルターの孔径（μｍ）をそれぞれ示す。また、表１、表３、表５、表７、又は、表９における「濾過圧力(ＭＰａ)」の記載は濾過時の圧力を表し、濾過工程を複数回行う場合は何れの工程も同一圧力にて濾過を行った。さらに、表１、表３、表５、表７、又は、表９における「通液有無」とは、濾過を行う前に、あらかじめフィルターを、重合性液晶組成物を製造する際に用いる有機溶剤により、通液する工程を行った場合「有」とし、通液する工程を行わなかった場合「無」と記載した。なお通液工程が「有」で、複数回濾過を行う場合はそのすべての濾過工程の前に通液作業を行った。

【0184】

【表1】

【0185】

【表2】

【0186】

【表3】

【0187】

【表4】

【0188】

【表5】

【0189】

【表6】

【0190】

【表7】

【0191】

【表8】

【0192】

【表9】

【0193】

【表10】

【0194】

（実施例１〜３４、比較例１〜２６）
（ケイ素化合物含有量）
上記の方法により得られた各重合性液晶組成物中に含まれるケイ素化合物の含有量を測定し、２種以上のメソゲン基を含有する化合物のみからなる混合物（すなわち、上記式（Ａ１）〜式（Ａ１１）、式（Ｂ１）〜（Ｂ１５）、式（Ｃ１）で表される化合物のみからなる混合物）とした場合の、濾過後の当該混合物中に含まれるケイ素化合物の含有量（質量％）を算出した。

【0195】

（耐傷性）
配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物を室温で、該基材に、スピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で２分放置した後に、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した。ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に則り、塗膜の鉛筆硬度を測定した。

【0196】

（密着性）
配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物を室温で、該基材に、スピンコーターで塗布した（膜厚：２μｍ）後、８０℃で２分乾燥した。室温で２分放置した後に、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した。重合性液晶組成物を重合して得られた面にＵＶコート剤（ユニディックＶ−４０２５を塗布した。ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に則り、カッターを用いたクロスカット法を用いて、カッターで碁盤目状に切り目を入れ、２ｍｍ角の碁盤目にし、複層塗膜の密着性を測定した。
分類０：いずれの基盤目にもはがれがない
分類１：カットの交差点における塗膜の小さなはがれが確認される（５％未満）。
分類２：塗膜がカットの線に沿って、交差点においてはがれている（５％以上１５％未満）。
分類３：塗膜がカットの線に沿って部分的、全面的にはがれている（１５％以上３５％未満）。
分類４：塗膜がカットの線に沿って部分的、全面的に大きくはがれを生じている（３５％以上６５％未満）。
分類５：分類４以上

【0197】

（配向性１、配向性２）
調製した重合性液晶組成物を室温で、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム上にバーコーター♯４で塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で１５分放置した後に、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性１）。

【0198】

配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、得られた塗膜をラビング処理して基材を得た。調製した重合性液晶組成物を、該基材にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で２分放置した後に、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射した（配向性２）。

【0199】

なお、重合性液晶組成物（１２）及び（１６）の配向性２試験は、配向膜用ポリイミド溶液を、室温で、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得て、該重合性液晶組成物（１２）又は（１６）を、該基材にスピンコーターで塗布した後、８０℃で２分乾燥した。その後、室温で２分放置した後に、照度が５００ｍＪ/ｃｍ^２となるようにセットしてＵＶ光を照射して行った（塗膜のラビング処理なし。）。
○：目視で欠陥が全くなく、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
×：目視で一部欠陥が生じており、偏光顕微鏡観察でも全体的に無配向部分が存在している
得られた結果を以下の表に示す。

【0200】

【表11】

【0201】

【表12】

【0202】

以上の結果から、ケイ素化合物の含有量が低濃度であるメソゲン基を含有する化合物を用いた、本発明の重合性液晶組成物は、耐傷性、密着性、配向性に優れる光学異方体を得られることが分かる。特に、２種以上のメソゲン基を含有する化合物のみからなる混合物とした場合の、当該混合物中に含まれるケイ素化合物の含有量が５０ｐｐｍ以下である場合は、配向性に優れ、耐傷性、及び、密着性のバランスに優れた光学異方体を得ることができる。しかし、２種以上のメソゲン基を含有する化合物のみからなる混合物とした場合の、当該混合物中に含まれるケイ素化合物の含有量が１ｐｐｍ以下である場合、耐傷性及び密着性が劣る光学異方体しか得られなかった。