特許 6384088 フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6384088

(24)【登録日】2018年8月17日

(45)【発行日】2018年9月5日

(54)【発明の名称】フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C07D 417/04 20060101AFI20180827BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20180827BHJP

【ＦＩ】

   C07D417/04

   !C07B61/00 300

【請求項の数】4

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2014-71721(P2014-71721)

(22)【出願日】2014年3月31日

(65)【公開番号】特開2015-193554(P2015-193554A)

(43)【公開日】2015年11月5日

【審査請求日】2017年1月18日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002093

【氏名又は名称】住友化学株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100113000

【弁理士】

【氏名又は名称】中山 亨

(74)【代理人】

【識別番号】100151909

【弁理士】

【氏名又は名称】坂元 徹

(72)【発明者】

【氏名】吉岡 真之介

(72)【発明者】

【氏名】大川 春樹

【審査官】 早川 裕之

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０７−２７８１３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０３１２２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 Org. Biomol. Chem.，２００８年，６，２９６−３０７

【文献】 Synthetic Communications，１９９４年，２４，１７９９−１８０８

【文献】 J. Org. Chem.，１９８０年，４５，４２７５−４２７７

【文献】 Chem. Lett.，１９７９年，９７−９８

【文献】 薬学雑誌，１９８６年，１０６，１−１６

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｄ ４１７／０４

Ｃ０７Ｂ ６１／００

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

ＣＡＳＲＥＡＣＴ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

以下の式（Ｂ）で示されるエーテル構造を有する芳香族複素環化合物とルイス酸化合物とを反応させて以下の式（Ａ）で示されるフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を製造する方法であって、
工程（１）〜（３）を行う前記フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法。
工程（１）：ルイス酸化合物とチオール化合物とを混合し、混合物（Ｑ）を得る工程
工程（２）：式（Ｂ）で示されるエーテル構造を有する芳香族複素環化合物と溶媒とを混合し、混合物（Ｒ）を得る工程
工程（３）：工程（１）で得た混合液（Ｑ）に、工程（２）で得た混合液（Ｒ）を加え、混合する工程

［式中、Ｑ^１は、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｙ^１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］

【請求項2】

ルイス酸化合物が塩化アルミニウムである請求項１に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。

【請求項3】

チオール化合物が式（Ｃ）で表される化合物である請求項１または請求項２に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。

[式中、Ｒ^０は炭素数１〜３１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。]

【請求項4】

式（Ｂ）および式（Ａ）におけるＱ^１が−Ｓ−である請求項１〜３のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法としては、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と、ルイス酸化合物とを反応する方法が知られている。例えば特許文献１には、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物を含む溶液に、ルイス酸化合物を含む溶液を添加し、反応する方法が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特表２００９−５３９８４８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

従来のフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法は、副生成物の生成量が多く、生成物の収率が十分ではなかった。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明は、以下の発明を含む。
[１] 工程（１）〜（３）を行うフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の製造方法。
工程（１）：ルイス酸化合物とチオール化合物とを混合し、混合物（Ｑ）を得る工程
工程（２）：エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と溶媒とを混合し、混合物（Ｒ）を得る工程
工程（３）：混合液（Ｑ）に、混合液（Ｒ）を加え、混合する工程
[２] 工程（３）における混合する温度が、−１５〜１２０℃である[１]に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[３] ルイス酸化合物が塩化アルミニウムである[１]又は[２]に記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[４] チオール化合物が式（Ｃ）で表される化合物である[１]〜[３]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。

[式中、Ｒ^０は炭素数１〜３１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。]
[５] エーテル基を有する芳香族複素環化合物が、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−１級炭素原子又は芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−２級炭素原子で表される構造を有する化合物である[１]〜[４]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。
[６] エーテル基を有する芳香族複素環化合物が式（Ｂ）で表される化合物であり、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が式（Ａ）で表される化合物である[１]〜[４]のいずれかに記載の芳香族複素環化合物の製造方法。

［式中、Ｑ^１は、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｙ^１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］

【発明の効果】

【0006】

本発明によれば、副生成物の生成量が少なく、高い収率でフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を製造することができる。

【発明を実施するための形態】

【0007】

[工程（１）]
ルイス酸化合物の使用量は、芳香族複素環化合物が有するフェノール性ヒドロキシ基１モルに対して１〜１０モルが好ましく、１〜８モルがより好ましく、１〜５モルがさらに好ましい。

【0008】

チオール化合物の使用量は、芳香族複素環化合物が有するフェノール性ヒドロキシ基１モルに対して１〜１０モルが好ましく、１〜８モルがより好ましく、1〜５モルがさらに好ましい。また、ルイス酸化合物１モルに対して１〜１０モルが好ましく、１〜６モルがより好ましく、１〜４モルがさらに好ましい。

【0009】

ルイス酸化合物と、チオール化合物とは好ましくは溶媒中で混合される。
溶媒としては、ルイス酸化合物に対して不活性なものであれば、特に制限されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、フェノール、クロロベンゼン及び、ニトロベンゼン等の芳香族溶媒、並びに、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素及び、トリクロロエタン等の含ハロゲン溶媒が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び、これらの混合溶媒であり、より好ましくは、クロロベンゼンである。溶媒には、これらの溶媒を単独で用いてもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。これらの溶媒は、ルイス酸化合物の溶解性が高く、取り扱いが容易なため好ましい。

【0010】

溶媒量は、ルイス酸化合物１質量部に対して、好ましくは１〜１０質量部であり、より好ましくは２〜８質量部である。また、ルイス酸化合物が完溶する量であると好ましい。

【0011】

混合する温度は、−２０〜１２０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜８０℃がさらに好ましい。
混合は、ルイス酸化合物が溶解するまで行うのが好ましい。

【0012】

ルイス酸化合物としては、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三塩化ホウ素、四塩化チタン及び、四塩化スズ等が挙げられ、好ましくは塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、四塩化チタン及び、四塩化スズであり、より好ましくは塩化アルミニウムである。

【0013】

チオール化合物としては、ベンゼンチオール、ベンゼンジチオール及び、フェニルエタンチオール等の芳香族チオール類、エタンチオール、プロパンチオール、ｔ−ブタンチオール、ペンタンチオール、ヘキサンチオール、ヘプタンチオール、オクタンチオール、ノナンチオール、デカンチオール、ウンデカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、エイコサンチオール、ヘントリアコンタンチオール等のアルキルチオール類、並びに、エタンジチオール、プロパンジチオール及び、エタントリチオール等の多官能アルキルチオール類等が挙げられる。好ましくはアルキルチオール類であり、より好ましくは式（Ｃ）で表される化合物（以下「化合物（Ｃ）」という場合がある）である。

[式中、Ｒ^０は炭素数１〜３１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。]

【0014】

Ｒ^０は好ましくは炭素数６〜３１のアルキル基であり、より好ましくは炭素数８〜２２のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１０〜１６のアルキル基である。また、好ましくは酸素原子及び、硫黄原子を含まないアルキル基である。炭素数が１０以上のアルキル基であると、臭気がなく取扱いが容易であるため好ましい。
Ｒ^０としては、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、エイコシル基、ヘントリアコンチル基等が挙げられる。

【0015】

[工程（２）]
工程（２）で用いられる溶媒は、ルイス酸化合物に不活性なものであれば、特に制限されないが、好ましくは、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物の溶解性が高い溶媒である。工程（１）において、溶媒を用いた場合には、該溶媒と同一であると好ましい。
具体的には、前記した溶媒と同じものが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、複数組合わせて用いてもよい。

【0016】

溶媒量は、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物１質量部に対して、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは２〜１０質量部である。

【0017】

工程（１）及び工程（２）で使用する溶媒の含水率は、０．０３重量％以下であると好ましい。含水率が０．０３重量％以下であると、ルイス酸化合物の活性が低下しないため好ましい。溶媒の含水率が０．０３重量％よりも高い場合は、脱水還流等の手段を用いて脱水することが好ましい。

【0018】

エーテル構造を有する芳香族複素環化合物としては、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−１級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−２級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−３級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−４級炭素原子、又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−芳香族炭素原子で表される構造を有する化合物が挙げられる。好ましくは芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−１級炭素原子、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−２級炭素原子又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−３級炭素原子で表される構造を有する化合物であり、より好ましくは芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−１級炭素原子又は、芳香族複素環が有する炭素原子−酸素原子−２級炭素原子で表される構造を有する化合物である。

【0019】

１級炭素を構成する基としては、メチル基が挙げられる。
２級炭素を構成する基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及び、オクチル基等が挙げられる。
３級炭素を構成する基としては、イソプロピル基、sec−ブチル基等が挙げられる。
４級炭素を構成する基としては、tert-ブチル基等が挙げられる。
芳香族炭素を構成する基としては、フェニル基、ナフチル基及び、ピリジル基等が挙げられる。

【0020】

芳香族複素環は、好ましくは、少なくとも一つの−ＮＨ−、−Ｎ＜、−Ｎ＝、−Ｐ＜、−Ｏ−又は、−Ｓ−で表される構造を有する化合物であり、より好ましくは、少なくとも一つの−ＮＨ−、−Ｎ＜又は、−Ｎ＝で表される構造を有する化合物であり、さらに好ましくは、少なくとも一つの−Ｎ＝で表される構造を有する化合物である。

【0021】

エーテル基を有する芳香族複素環化合物は、特に好ましくは式（Ｂ）で表される化合物（以下「化合物（Ｂ）」という場合がある）である。

［式中、Ｑ^１は、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｓ−、−ＮＲ^１−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｙ^１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］

【0022】

Ｑ^１は、好ましくは−Ｏ−又は、−Ｓ−である。
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立に、好ましくはエーテル結合に隣接する炭素原子が１級炭素であるアルキル基、及び、エーテル結合に隣接する炭素原子が２級炭素であるアルキル基である。より好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及び、ヘキシル基であり、さらに好ましくはメチル基及び、エチル基であり、特に好ましくはメチル基である。

【0023】

Ｙ^１で表される、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基及び、置換基を有していてもよい芳香族複素環基が有する置換基としては、ハロゲン原子、−Ｒ^３、シアノ基、ニトロ基、−ＳＯ_２Ｒ^４、−ＳＯＲ^４、−ＳＲ^４、−ＯＲ^４、カルボキシ基及び−ＮＲ^１Ｒ^５が挙げられる。Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表す。

【0024】

Ｙ^１は好ましくは、式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）表される基である。

［式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）中、Ｚ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、−Ｒ^３、シアノ基、ニトロ基、−ＳＯ_２Ｒ^４、−ＳＯＲ^４、−ＳＲ^４、−ＯＲ^４、カルボキシ基又は−ＮＲ^４Ｒ^５を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に−ＣＯ−、−ＮＲ^１−、−ＳＯ_２−、又は１６族元素を表す。
Ｗ^１〜Ｗ^６は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。
Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ａは、０〜５の整数を表す。
ｂは、０〜３の整数を表す。
ｃは、０〜２の整数を表す。
ａ又はｂが２以上の整数である場合、複数のＺ^３は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
＊は結合手を表す。］

【0025】

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。好ましくは、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基であり、より好ましくは、それぞれ独立に、炭素数１〜２のアルキル基であり、さらに好ましくは、それぞれ独立に、メチル基である。

【0026】

Ｙ^１は、化合物の安定性に優れ、合成が容易である点で式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−７）で表される基のいずれかであることがより好ましい。

【0027】

［式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−７）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、ｃ及び＊は、上記と同じ意味を表す。
Ｊ^１及びＪ^２は、それぞれ独立に−ＣＯ−、−ＮＲ^１−、又は１６族元素を表す。
Ｌ^１は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。］

【0028】

Ｌ^１は、好ましくは−ＣＨ＝である。

【0029】

Ｙ^１は、より好ましくは、式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−４）で表される基である。

［式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−４）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、ｃ、Ｊ^１、及び＊は、上記と同じ意味を表す。］

【0030】

Ｚ^３における−ＳＯ_２Ｒ^４としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基及び、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。

【0031】

Ｚ^３における−ＳＯＲ^４としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基及び、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられる。

【0032】

Ｚ^３における−ＳＲ^４としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基及び、ヘキシルスルファニル基等が挙げられる。

【0033】

Ｚ^３における−ＯＲ^４としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基及び、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。

【0034】

Ｚ^３における−ＮＲ^１Ｒ^５としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基及び、Ｎ−ヘキシルアミノ基等のＮ−モノアルキルアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基及び、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が挙げられる。

【0035】

Ｚ^３としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基、メチルスルホニル基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

【0036】

Ｖ^１及びＶ^２で表される１６族元素としては、Ｓ、Ｏ及び、Ｓｅが挙げられる。Ｖ^１及びＶ^２は好ましくは、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ^１−又は−Ｏ−である。

【0037】

化合物（Ｂ）としては、具体的には、以下の化合物（Ｂ−００１）〜化合物（Ｂ−０７６）が挙げられる。

【0038】

【0039】

混合する温度は、−２０〜１２０℃が好ましく、０〜１００℃がより好ましく、０〜８０℃がさらに好ましい。
混合は、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物が溶解するまで行うのが好ましい。

【0040】

[工程（３）]
混合液（Ｒ）は、滴下によって加えるのが好ましい。
混合液（Ｒ）を加える速度は、通常、混合液（Ｒ）全量の０．０８〜２質量％／分であり、好ましくは０．１５〜２質量％／分である。また、好ましい加える速度は、加えられたエーテル構造を有する芳香族複素環化合物の８０モル％以上が、加えられた後１分以内にフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物となる速度であり、より好ましくは１０秒以内にフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物となる速度である。
加える時間は、混合液（Ｒ）の量と加える速度から決定されるが、通常１〜２０時間であり、好ましくは１〜８時間である。

【0041】

混合する温度は、好ましくは−１５〜１２０℃であり、より好ましくは０〜１００℃であり、さらに好ましくは０〜８０℃である。

【0042】

混合液（Ｑ）に、混合液（Ｒ）を加えた後に、混合する時間は、好ましくは１〜７２時間であり、より好ましくは２〜４８時間である。

【0043】

混合液（Ｑ）と、混合液（Ｒ）とを混合して反応させることで、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が生成する。

【0044】

エーテル構造を有する芳香族複素環化合物と、ルイス酸化合物とを反応させると、エーテル構造を有する芳香族複素環化合物が有する、エーテル構造と、芳香族複素環構造との副反応によって副生成物を生じることがあり、かかる副反応によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の収率が低下することがある。
例えば、化合物（Ｂ）とルイス酸との反応によって、化合物（Ａ）と、副生成物として式（Ｄ）で表される化合物（以下「化合物（Ｄ）」という場合がある）を生成することがある。

［式中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｑ^１及びＹ^１は上記と同じ意味を表す。］

【0045】

化合物（Ｄ）は溶解性が低く精製除去することが困難である。本発明の製造方法によれば、化合物（Ｄ）等の副生成物の生成を少なくすることができ、化合物（Ａ）等のフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を高い収率で得ることができる。

【0046】

生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の溶解性が高い場合は、反応混合液と、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸とを混合して前記反応混合液中のルイス酸化合物を失活させた後、分液洗浄を行うことでルイス酸化合物を除去することができる。ルイス酸化合物を除去した後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。

【0047】

生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物の溶解性が低く、析出した場合は、析出した固形物を濾過することにより得られた固形物を塩酸水溶液若しくは硫酸水溶液等の酸で洗浄する、又は、該酸と水溶性有機溶媒との混合溶液で洗浄することによってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。また、得られた固体を、水溶性有機溶媒等の反応に用いた溶媒とは異なる溶媒に溶解させた後に、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸によって洗浄してもよい。洗浄後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。

【0048】

生成したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が、粘稠液体として混合液中で相分離した場合は、混合液中の溶媒層をデカンテーションにより除去することによって得られた粘稠液体を水溶性有機溶媒等の反応に用いた溶媒とは異なる溶媒に溶解させた後に、塩酸水溶液又は硫酸水溶液等の酸によって洗浄してもよい。洗浄後、溶媒を留去する、貧溶媒を加えて晶析する、冷却することで晶析する、又は、一部の溶媒を蒸発することで晶析する等の方法によってフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を得ることができる。

【0049】

水溶性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール及び、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、並びに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び、Ｎ−メチルピロリドン等の溶媒が挙げられ、好ましくはメタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及び、Ｎ−メチルピロリドンである。

【0050】

さらに、洗浄、再結晶又は、カラムクロマトグラフィー等で精製してもよい。

【0051】

かくして、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物が得られる。フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物としては、例えば、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）が挙げられる。

［式中、Ｑ^１および、Ｙ^１は上記と同じ意味を表す。］

【0052】

フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物は、特開２０１０−３１２２３号公報等に記載の液晶化合物等の原料として使用することができる。

【実施例】

【0053】

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」は、特記ない限り、質量％である。

【0054】

液体クロマトグラフ（ＬＣ）測定は以下に示す条件で行った。
使用カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ、２．６μｍ、Ｃ１８、１００Å、５０×４．ｍｍ
カラム温度：４０℃
移動相：（Ａ液）０．１％（ｖ／ｖ）−ＴＦＡ／水
（Ｂ液）０．１％（ｖ／ｖ）−ＴＦＡ／アセトニトリル
グラジェンと条件 ０ｍｉｎ Ａ液９８％、Ｂ液２％
３０ｍｉｎ Ａ液０％、Ｂ液１００％
３５ｍｉｎ Ａ液０％、Ｂ液１００％
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
注入量：５μＬ
検出方法：ＵＶ（２５４ｎｍ）

【0055】

（実施例１）
＜化合物（Ａ−０３６）の合成例−１＞
化合物（Ａ−０３６）を以下のスキームにしたがって合成した。

塩化アルミニウム１．６５ｇと、ドデカンチオール２．５ｇとをクロロベンゼン６ｇに溶解させた後、６０℃に加熱し混合物（Ｑ−１）を得た。一方、化合物（Ｂ−０３６）２ｇとクロロベンゼン１６ｇとを混合し混合物（Ｒ−１）を得た。得られた混合物（Ｑ−１）に、混合物（Ｒ−１）を４時間かけて滴下し、さらに３時間攪拌した。得られた混合物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−０３６）のＬＣ面積％は９８．５２％であり、化合物（Ｄ−０３６）のＬＣ面積％は０％であった。得られた混合物を室温に冷却した後、析出した固形物を濾過し、得られた固形物を１ｍｏｌ／Ｌ硫酸とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶液及び、水で洗浄し、さらに真空乾燥をすることによって、黄色粉末の固形物（１）１．７３ｇを得た。
得られた固形物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−０３６）のＬＣ面積％は９８．８１％であり、化合物（Ｄ−０３６）のＬＣ面積％は０％であった。
化合物（Ｂ−０３６）を基準とした化合物（Ａ−０３６）の収率は９３．１７％であった。なお、収率は、得量とＬＣ面積％とを積し、理論得量で除することで算出した。
得られた固形物（１）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ｐｐｍ）２．４３（ｓ、３Ｈ）、２．５２（ｓ、３Ｈ）、６．７１〜６．８０（ｍ、２Ｈ）、７．００（ｓ、１Ｈ）、７．３６（ｓ、１Ｈ）、７．７６（ｓ、１Ｈ）、９．５８（ｓ、１Ｈ）、９．９０(ｓ、１Ｈ）

【0056】

（参考例１）
＜化合物（Ａ−０３６）の合成例−２＞
塩化アルミニウム２．５ｇと、ドデカンチオール３．８ｇとをクロロベンゼン６ｇに溶解させ、混合物（Ｑ−３）を得た。一方、化合物（Ｂ−０３６）３ｇとクロロベンゼン１８ｇとを混合し、６０℃に加熱して混合物（Ｒ−３）を得た。得られた混合液（Ｒ−３）に、混合物（Ｑ−３）を加えて反応させた。反応後、得られた混合物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−０３６）のＬＣ面積％は７８．２％であり、化合物（Ｄ−０３６）のＬＣ面積％は１３．１％であった。得られた混合物を、実施例１と同様の方法で精製することによって固形分（２）２．０５ｇを得た。
得られた固形物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−０３６）のＬＣ面積％は８５．３％であり、化合物（Ｄ−０３６）のＬＣ面積％は１２．８％であった。
化合物（Ｂ−０３６）を基準とした化合物（Ａ−０３６）の収率は６３．５３％であった。なお、収率は、得量とＬＣ面積％とを積し、理論得量で除することで算出した。

【0057】

（実施例２）
＜化合物（Ａ−００１）の合成例−１＞
化合物（Ａ−００１）を以下のスキームにしたがって合成した。

【0058】

塩化アルミニウム３０．３ｇと、ドデカンチオール４６ｇとをクロロベンゼン６０ｇに溶解させた後、６０℃に加熱し混合物（Ｑ−２）を得た。一方、化合物（Ｂ−００１）３０ｇとクロロベンゼン１８０ｇとを混合し混合物（Ｒ−２）を得た。得られた混合物（Ｑ−２）に、混合物（Ｒ−２）を４時間かけて滴下し、さらに３時間攪拌した。得られた混合物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−００１）のＬＣ面積％は９８．０７％であり、化合物（Ｄ−００１）のＬＣ面積％は０％であった。得られた混合物を室温に冷却した後、析出した固形物を濾過し、得られた固形物を１ｍｏｌ／Ｌ硫酸とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶液及び、水で洗浄し、さらに真空乾燥することによって、黄色粉末の固形物（３）２６．３ｇ得た。
得られた固形物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−００１）のＬＣ面積％は９７．５２％であり、化合物（Ｄ−００１）のＬＣ面積％は０％であった。
化合物（Ｂ−００１）を基準とした化合物（Ａ−００１）の収率は９５．１２％であった。なお、収率は、得量とＬＣ面積％とを積し、理論得量で除することで算出した。
得られた固形物（２）の^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ（ｐｐｍ）６．６５〜６．７４（ｍ、２Ｈ）、７．２１〜７．２４（ｍ、１Ｈ）、７．７７〜７．７９（ｄｄ、１Ｈ）、７．８１〜７．８３（ｄｄ、１Ｈ）。

【0059】

（参考例２）
＜化合物（Ａ−００１）の合成例−２＞
塩化アルミニウム５ｇと、ドデカンチオール７．７ｇとを、クロロベンゼン１０ｇに溶解させ、混合物（Ｑ−４）を得た。一方、化合物（Ｂ−００１）５ｇとクロロベンゼン３０ｇとを混合し、６０℃に加熱して混合物（Ｒ−４）を得た。得られた混合液（Ｒ−４）に、混合物（Ｑ−４）を加えて反応させた。反応後、得られた混合物についてＬＣ測定を行ったところ、化合物（Ａ−００１）のＬＣ面積％は７７．３％であり、化合物（Ｄ−００１）のＬＣ面積％は１６．７％であった。

【産業上の利用可能性】

【0060】

本発明の製造方法は、副生成物の生成量が少なく、高い収率でフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族複素環化合物を製造することができるため有用である。