特許第6387109号(P6387109)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6387109重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機ＥＬ素子
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6387109
(24)【登録日】2018年8月17日
(45)【発行日】2018年9月5日
(54)【発明の名称】重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機ＥＬ素子
(51)【国際特許分類】
   C07D 277/82 20060101AFI20180827BHJP
   C07C 251/86 20060101ALI20180827BHJP
   C07C 251/88 20060101ALI20180827BHJP
   C07D 209/40 20060101ALI20180827BHJP
   C07D 263/58 20060101ALI20180827BHJP
   C07D 277/50 20060101ALI20180827BHJP
   C07D 277/84 20060101ALI20180827BHJP
   C07D 333/60 20060101ALI20180827BHJP
   C08F 20/36 20060101ALI20180827BHJP
   C08F 20/38 20060101ALI20180827BHJP
   C09K 19/54 20060101ALI20180827BHJP
   G02F 1/13363 20060101ALI20180827BHJP
   H05B 33/02 20060101ALI20180827BHJP
   H01L 51/50 20060101ALI20180827BHJP
【ＦＩ】
   C07D277/82CSP
   C07C251/86
   C07C251/88
   C07D209/40
   C07D263/58
   C07D277/50
   C07D277/84
   C07D333/60
   C08F20/36
   C08F20/38
   C09K19/54 Z
   G02F1/13363
   H05B33/02
   H05B33/14 A
【請求項の数】6
【全頁数】125
(21)【出願番号】特願2016-562632(P2016-562632)
(86)(22)【出願日】2015年12月1日
(86)【国際出願番号】JP2015083728
(87)【国際公開番号】WO2016088749
(87)【国際公開日】20160609
【審査請求日】2016年11月24日
【審判番号】不服2017-11182(P2017-11182/J1)
【審判請求日】2017年7月27日
(31)【優先権主張番号】特願2014-245866(P2014-245866)
(32)【優先日】2014年12月4日
(33)【優先権主張国】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000002886
【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100177471
【弁理士】
【氏名又は名称】小川 眞治
(74)【代理人】
【識別番号】100163290
【弁理士】
【氏名又は名称】岩本 明洋
(74)【代理人】
【識別番号】100149445
【弁理士】
【氏名又は名称】大野 孝幸
(74)【代理人】
【識別番号】100159293
【弁理士】
【氏名又は名称】根岸 真
(72)【発明者】
【氏名】野瀬 清香
(72)【発明者】
【氏名】大橋 裕二
(72)【発明者】
【氏名】間宮 純一
(72)【発明者】
【氏名】小磯 彰宏
(72)【発明者】
【氏名】山崎 竜史
【合議体】
【審判長】 佐藤 健史
【審判官】 関 美祝
【審判官】 冨永 保
(56)【参考文献】
【文献】 国際公開第２０１４／０１０３２５（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 国際公開第２０１４／１２６１１３（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 国際公開第２０１４／１３２９７８（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 米国特許第５４４５８５４（ＵＳ，Ａ）
【文献】 国際公開第２０１４／０６５１７６（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 国際公開第２０１３／１８０２１７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】 国際公開第２０１５／０２５７９３（ＷＯ，Ａ１）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
C07C
H01L
C08F
ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式（１）
【化1】
（式中、Ｐ１及びＰ２は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２）
【化2】
から選ばれる重合性官能基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立的に炭素原子数２〜１０のアルキレン基、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−、又は−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−を表し、
Ａ１及びＡ２は、Ｕに隣接するＺ１又はＺ２に結合するものが１，４−シクロヘキシレン基であり、その他のものが１，４−フェニレン基であり、
Ｕは下記の式（Ｕ−１）、式（Ｕ−２）、式（Ｕ−５）又は式（Ｕ−６）
【化3】
（これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基又は炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基により置換されていてもよい。ここで、各式における右手水平方向に位置する結合位を１位とした場合に、1位がＺ２に結合し、かつ、４位がＺ１に結合している。）
で表される三価の芳香族基を表し、
Ｕに直接連結するＺ１が−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＦ２Ｏ−、Ｕに直接連結するＺ２が−ＯＣＨ２−又は−ＯＣＦ２−であり、
その他のＺ１が−ＯＣＯ−又は−Ｓ−ＣＯ−、
その他のＺ２が−ＣＯＯ−又は−ＣＯ−Ｓ−であり、
Ｚ３及びＺ４が、共に−Ｏ−であり、
Ｔは下記の式（Ｔ−１）又は式（Ｔ−２）
【化4】
（式中、Ｑ１は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表し、
Ｗ１は、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１０−１）から式（Ｗ−１０−８）
【化1】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。また、置換基ＬＷはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。）を表し、
Ｙ１は−Ｓｐ３−Ｐ３を表し、ここでＳｐ３は、炭素原子数２〜１０のアルキレン基、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−、又は−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−を表し
Ｐ３は前記式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）で表される重合性基である。）であり、
ｍ及びｎはそれぞれ２〜４の整数であり、
上記「その他の」Ｚ１、Ｚ２が複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていてもよい。）で表される重合性化合物。
【請求項2】
請求項１に記載の重合性化合物を含有する組成物。
【請求項3】
請求項２に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
【請求項4】
請求項３記載の重合体を用いた光学異方体。
【請求項5】
請求項４記載の光学異方体を用いた液晶表示素子。
【請求項6】
請求項４記載の光学異方体を用いた有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、重合性化合物、組成物、重合体、光学異方体、液晶表示素子及び有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶ディスプレイに使用される位相差フィルム、偏光板等の光学異方体は、ラビング処理を施した基材や光配向させた光配向膜を成膜した基材に、重合性液晶化合物を含む溶液を塗布し、溶剤を乾燥させた後、紫外線又は熱により重合させることによって製造することができる。位相差フィルムの光学特性としては、液晶ディスプレイの視野角を向上させるために、複屈折率（△ｎ）の波長分散を小さく、もしくは逆にすることが求められている。この特性を実現するために、逆分散型の重合性化合物の開発が行われている（例えば特許文献１）。なお、位相差フィルムに対する入射光の波長λを横軸に取り、その複屈折率（△ｎ＝異常光に対する屈折率ｎｅ−常光に対する屈折率ｎ０）を縦軸にプロットして得たグラフの傾きが正（右肩上がり）である場合、その複屈折率の波長分散は逆である、又はその位相差フィルムを構成する材料の重合性化合物は逆分散型である、と一般的に言われている。
【0003】
位相差フィルムを構成する重合性化合物を逆分散型にするためには、分子長軸に対して垂直方向に大きな複屈折率を有する部位（垂直ユニット）を分子内に導入する方法がある。しかし、この垂直ユニットを導入することによって、液晶性が悪化する傾向や、配向性が悪くなる傾向があるため、配向性を乱さない重合性化合物を得るためには少なくない試行錯誤が必要となる。
【0004】
また、基材上に重合性化合物を塗布する際、基材を犯すことのない溶剤に重合性化合物が適量溶解させる必要がある。しかし、垂直ユニットの導入によって、溶剤への溶解性がしばしば低下し、十分な濃度の溶液を得ることができない、保管中に結晶が析出するなどの問題が起こる。
【0005】
さらに、垂直ユニットの導入によって、重合性化合物の吸収スペクトルが変化し、多くの場合吸収が長波長化する。このことは、しばしば光学安定性の低下を招き、位相差フィルムの黄変や割れ等を引き起こすことがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特表２０１３−５０９４５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、液晶性が良好であり、配向性が良好であり、十分な溶剤溶解性を持ち、溶液状態での保存安定性が高く、光学安定性の高い重合性化合物、前記重合性化合物を含む組成物、前記重合性化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、前記重合性化合物を重合させて得られた重合体、前記重合体によって構成される光学異方体、及び前記光学異方体を備えた液晶表示素子、有機ＥＬ素子の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の開発に至った。すなわち、本願発明は一般式（１）
【0009】
【化1】
【0010】
（式中、Ｐ１及びＰ２は重合性官能基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２は二価のスペーサー基又は単結合を表し、
Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い二価の炭素原子数３から２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４はそれぞれ独立して、二価の連結基又は単結合を表し、
Ｕは無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い三価の芳香族基を表し、
Ｔは下記の式（Ｔ−１）又は式（Ｔ−２）
【0011】
【化2】
【0012】
（式中、
Ｑ１は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表すが、該アルキル基は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良く、
Ｗ１は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い芳香族炭化水素基を有する炭素原子数２〜３０の有機基を表すが、当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、
Ｙ１は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２〜３０の有機基、又は−（Ｚ５−Ａ３）ｑ−Ｚ６−Ｓｐ３−Ｐ３を表し、当該アルキル基、アルケニル基、及びシクロアルキル基は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、Ｚ５〜Ｚ６、Ａ３、Ｓｐ３、Ｐ３は、それぞれ、前記Ｚ１〜Ｚ４、Ａ１〜Ａ２、Ｓｐ１〜Ｓｐ２、Ｐ１〜Ｐ２で定義されるものと同一のものを表し、ｑは０〜４の整数を表し、
また、前記Ｗ１とＹ１は結合して環を構成していても良い。）から選ばれる基を表し、
ｍ及びｎはそれぞれ独立して０〜４の整数を表し（ただし、ｍ＋ｎは１以上の整数である。）、
Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ５が複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていても良い。）で表される重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を含有する組成物、当該重合性化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体、液晶表示素子、有機ＥＬ素子を提供する。
【発明の効果】
【0013】
本発明の重合性化合物を使用することにより、光学特性に優れた光学異方体を製造することができる。また、視野角を改良した液晶表示素子及び有機ＥＬ素子を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、好適な実施の形態に基づいて本発明を説明するが、本発明はかかる実施形態に限定されない。
《重合性化合物》
本発明の重合性化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
【0015】
一般式（１）で表される化合物は、単独で液晶性を示しても、単独で液晶性を示さなくても良い。一般式（１）で表される化合物が単独で液晶性を示さない場合、他の液晶性を示す成分と混合することにより液晶性を示すことが好ましい。一般式（１）で表される化合物は、重合前において液晶性を有することがより好ましい。すなわち、一般式（１）で表される化合物は重合性液晶化合物であることが好ましい。
＜Ｐ１及びＰ２＞
一般式（１）中のＰ１及びＰ２で表される重合性官能基は、従来の重合性液晶化合物に使用される基が制限なく適用可能である。
【0016】
重合性官能基Ｐ１及びＰ２は各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
【0017】
【化3】
【0018】
から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。
＜Ｓｐ１及びＳｐ２＞
一般式（１）中のＳｐ１及びＳｐ２は二価のスペーサー基又は単結合である。該スペーサー基は、重合性官能基Ｐ１とＺ３とを、又はＰ２とＺ４とを連結可能な２価の連結基であり、一般式（１）で表される重合性化合物の液晶性を損なわない連結基が好ましい。
【0019】
好適なＳｐ１及びＳｐ２を表す二価のスペーサー基としては、例えば炭素原子数１〜２０の直鎖状アルキレン基が挙げられる。このアルキレン基中に存在する１つのＣＨ２基又は隣接していない２つ以上のＣＨ２基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子同士、硫黄原子同士、及び酸素原子と硫黄原子とが相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていてもよいが、Ｐ１−Ｓｐ１、Ｓｐ１−Ｚ３、Ｚ４−Ｓｐ２、Ｓｐ２−Ｐ２の結合において、−Ｏ−Ｏ−結合することはない。前記アルキレン基の炭素原子数は、液晶性を向上させる観点から、２〜１０が好ましく、３〜８がより好ましく、３〜６が更に好ましい。
【0020】
また、好適なＳｐ１及びＳｐ２としては、Ｓｐ１及び／又はＳｐ２が単結合を挙げることもできる。Ｓｐ１及び／又はＳｐ２が単結合である本発明の一般式（１）で表される化合物を用いた組成物を重合して得られる重合体は、光学安定性を高めることができるため、光学安定性を高める必要がある場合、少なくともＳｐ１及びＳｐ２のいずれか一方が単結合であることが好ましく、Ｓｐ１及びＳｐ２のいずれも単結合であることがより好ましい。
＜Ａ１及びＡ２＞
一般式（１）中のＡ１及びＡ２は、それぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い二価の炭素原子数３から２０の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表すが、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良く、より具体的には、当該脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基の任意の炭素原子は酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていても良い。また、上記芳香族炭化水素基は芳香族複素環式基であっても良く、縮合環構造を有していても良く、脂環式炭化水素基と芳香族炭化水素基とが縮合した構造であっても良い。なお、Ａ１及び／又はＡ２が複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【0021】
前記脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基としては、例えば、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン２，７−ジイル基又はフルオレン２，７−ジイル基などが挙げられ、前記脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されていても良い。
【0022】
置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰＬ−（ＳｐＬ−ＸＬ）ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰＬは重合性基を表し、ＳｐＬはスペーサー基又は単結合を表すが、該スペーサー基としては、上述の二価のスペーサー基として例示されたものが挙げられ、ＳｐＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ＸＬは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、ＸＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、ＰＬ−（ＳｐＬ−ＸＬ）ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。
【0023】
一般式（１）中のＡ１及びＡ２は、それぞれ独立に、無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されていても良い１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，４−シクロヘキシレン基であることが好ましく、１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であることがより好ましい。これらの基であると、本実施形態の重合性化合物の液晶性を向上させ、その重合体の配向性を向上させることが容易になる。
【0024】
また、一般式（１）中の存在するＡ１のすべて、及び／又は存在するＡ２のすべては、置換基を有していてもよい二価の脂環式炭化水素基であることも好ましく（例えばＡ１が複数現れる場合は、複数現れるすべてのＡ１が二価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。）、具体的には、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される基であることが好ましく、Ａ１及びＡ２のいずれもが１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基から選択される基であることがより好ましい。これらの基であると、本実施形態の重合性化合物の溶解性を向上させ、その重合体の逆分散性を向上させることが容易になり、特に、１，４−シクロヘキシレン基を用いると本実施形態の重合性化合物の溶解性を向上させ、その重合体の逆分散性を向上させることが容易になり好ましい。なお、この観点から、Ａ１及びＡ２が複数現れる場合、例えば後述のｍ及びｎがそれぞれ２を表す場合、２つ存在するＡ１がいずれも１，４−シクロヘキシレン基を表すか、及び／又は２つ存在するＡ２がいずれも１，４−シクロヘキシレン基を表すことがより好ましい。
＜Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４＞
一般式（１）中のＺ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は、それぞれ独立して、二価の連結基又は単結合を表す。なお、Ｚ１、及び／又はＺ２が複数現れる場合は、各々同一であっても異なっていても良い。
【0025】
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は、それぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い炭素原子数１〜２０の非環式脂肪族基（当該非環式脂肪族基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、各々独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＮＲ３−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ３−、−ＮＲ３−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ３−、又は−ＯＣＯ−ＣＯＯ−によって置換されても良く、ここでＲ３は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝Ｃ−、−ＯＣＯ−ＣＯＯ−又は単結合であることが好ましい。なお、炭素原子数１〜２０の非環式脂肪族基としては、炭素原子数１〜２０のアルキレン基、炭素原子数２〜２０のアルケニレン基などが該当する。ここで、上記炭素原子数１〜２０の非環式脂肪族基が炭素原子数１のアルキレン基である場合、無置換である場合−ＣＨ２−を表し、例えば−Ｏ−で置換される場合、−Ｏ−を表す。Ｚ１及びＺ２としてより具体的には、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。
【0026】
Ｚ３及びＺ４としてより具体的には、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。
＜＜Ｕに直接連結するＺ１及びＺ２＞＞
一般式（１）中のＺ１、Ｚ２、Ｚ３及びＺ４は、上記二価の連結基又は単結合から選択される基を表すが、Ｕに直接連結する、存在するＺ１及び存在するＺ２の一方又は両方が、それぞれ独立して、−ＣＨ２−、無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い炭素原子数２〜２０の非環式脂肪族基（当該非環式脂肪族基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は、各々独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＮＲ３−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ３−、−ＮＲ３−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ３−、又は−ＯＣＯ−ＣＯＯ−によって置換されても良いが、少なくとも１個の−ＣＨ２−を有する。ここでＲ３は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝Ｃ−又は−ＯＣＯ−ＣＯＯ−から選ばれる何れか一つの連結基であることが好ましい。より具体的には、Ｕに直接連結する、存在するＺ１及び存在するＺ２の一方又は両方が、それぞれ独立して、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−を表すことがより好ましい。
【0027】
Ｕに直接連結する、存在するＺ１及び存在するＺ２の一方又は両方が、上記好ましい連結基であると、本実施形態の重合性化合物の液晶性を損なわずに、その重合体の配向性を向上させることが容易になる。分子長軸に対して垂直方向に嵩高い部位（垂直ユニット）の側方に、上記の連結基を導入することによって、上記配向性を向上させることに寄与していると推測される。なお、後述のｍ、ｎがいずれも２以上の整数である場合、Ｕに直接連結するＺ１及びＺ２の一方又は両方が上記特定の連結基を有していれば、複数存在するＺ１及びＺ２のその他の基は、上記二価の連結基又は単結合から選択される任意の基を選択できる。
＜＜Ｚ３及びＺ４＞＞
一般式（１）中のＺ３及びＺ４は、上記二価の連結基又は単結合から選択される基を表すが、
Ｚ３及びＺ４の一方又は両方が、それぞれ独立して、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−＊、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−＊、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−＊、−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−＊、−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−＊（当該基は＊の側でＡ１又はＡ２と結合する。）から選ばれる何れか一つの連結基である場合、溶剤溶解性が向上するため好ましい。なお、当該基は＊の側でＡ１又はＡ２と結合するが、ｍ＝０又はｎ＝０の場合、Ｕ環に結合する。
【0028】
また、上記Ｚ３及びＺ４の一方又は両方が上記特定の連結基である場合、上記Ｓｐ１及び／又はＳｐ２は単結合ではなく、任意のスペーサー基を表すことが好ましい。さらに、Ｚ３及びＺ４の一方又は両方が、それぞれ独立して、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−から選ばれる何れか一つの連結基であることがより好ましい。
＜ｍ、ｎ＞
一般式（１）中のｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜４の整数を表し、かつ、ｍ＋ｎは１以上の整数である。
【0029】
本実施形態の重合性化合物の溶剤溶解性及び保存安定性を重視する場合には、ｍ及びｎのいずれか一方が０であることが好ましい。
【0030】
液晶性及び配向性を重視する場合には、ｍ及びｎの一方又は両方が２〜４の整数であることが好ましく、ｍ及びｎの両方が２〜４の整数であることがより好ましく、ｍ及びｎの両方が２であることがさらに好ましい。なお、ｍ及びｎの一方又は両方が２〜４の整数である場合、２個以上の前述のＡ１及び／又は２個以上のＡ２が、それぞれ独立して、無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基を表し、当該２個以上のＡ１及び／又は２個以上のＡ２を連結するＺ１及び／又はＺ２は単結合ではないことが好ましい。すなわち、例えば、ｍ＝２である場合、−Ａ１２−Ｚ１２−Ａ１１−Ｚ１１−Ｕ−で表される連結部分のうち、Ａ１２、Ａ１１は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良い二価の芳香族炭化水素基を表し、Ｚ１２は単結合以外の連結基であることが好ましい。
【0031】
液晶性、高い液晶相温度及び溶媒へ溶解させた際の保存安定性を重視する場合には、ｍ及びｎの一方又は両方が１又は２であることが好ましく、ｍ＋ｎが３であることが特に好ましい。より具体的には、下記の一般式（１−ｋ）
【0032】
【化4】
【0033】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｕ、Ｑ１、Ｗ１及びＹ１は一般式（１）と同じ意味を表し、Ａ１９、Ａ２９及びＡ２１０は各々独立して１，４−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を表すが、当該１，４−フェニレン基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１１によって置換されても良く、Ｌ１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ１９、Ｚ２９及びＺ２１０は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表す。）で表される化合物が好ましい。前記式（１−ｋ）で表される化合物において、合成の容易さの観点から、Ｚ２９は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、単結合を表すことが特に好ましい。また、Ａ１９及びＡ２１０は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１１によって置換されても良い１，４−フェニレン基を表すことがより好ましい。
＜Ｕ＞
一般式（１）中、Ｕ環は置換基を有していても良い三価の芳香族基を表す。前記芳香族基としては、下記の式（Ｕ−１）から式（Ｕ−６）
【0034】
【化5】
【0035】
から選ばれる基が好ましく、式（Ｕ−１）又は式（Ｕ−２）から選ばれる基がより好ましい。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基又は炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基により置換されていてもよい。
＜Ｑ１＞
一般式（１）中、Ｑ１は水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表すが、該アルキル基は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良く、前記アルキル基に結合する１つ以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、シアノ基、炭素原子数３から２０の芳香族炭化水素基により置換されていても良く、Ｑ１は水素原子又は無置換であるか又は１つ以上Ｆで置換された炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましく、Ｑ１は水素原子がより好ましい。
＜Ｗ１＞
Ｗ１は芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素原子数２〜３０の有機基を表す。前記芳香環としては、下記の式（Ｗ−１）から式（Ｗ−２０）
【0036】
【化6】
【0037】
から選ばれる基が好ましい。これらの基は任意の位置に結合手を有している。Ｑ２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ４−（式中、Ｒ４は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）又は−ＣＯ−を表すが、これらの基中の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良く、−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ５−（式中、Ｒ５は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）−ＳＯ−、又は−ＳＯ２−又は−ＣＯ−に置き換えられても良い（但し、酸素原子どうしが直接結合する場合を除く。）。これらの環に結合する１つ以上の水素原子は、ＬＷによって置換されていても良く、置換基ＬＷはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から２０のアルキル基を表すが、当該アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い。前記アルキル基及び前記アルコキシ基を構成するアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。前記アルキル基の炭素原子数は、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましく、１が更に好ましい。
【0038】
式（Ｗ−１）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１−１）から式（Ｗ−１−８）
【0039】
【化7】
【0040】
から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【0041】
式（Ｗ−７）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−７−１）から式（Ｗ−７−７）
【0042】
【化8】
【0043】
から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの基は任意の位置に結合手を有している。
【0044】
式（Ｗ−１０）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１０−１）から式（Ｗ−１０−８）
【0045】
【化9】
【0046】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0047】
式（Ｗ−１１）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１１−１）から式（Ｗ−１１−１２）
【0048】
【化10】
【0049】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0050】
式（Ｗ−１３）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１３−１）から式（Ｗ−１３−１９）
【0051】
【化11】
【0052】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0053】
式（Ｗ−１４）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１４−１）から式（Ｗ−１４−１０）
【0054】
【化12】
【0055】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0056】
式（Ｗ−１５）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１５−１）から式（Ｗ−１５−４）
【0057】
【化13】
【0058】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0059】
式（Ｗ−１６）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１６−１）から式（Ｗ−１６−１６）
【0060】
【化14】
【0061】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0062】
式（Ｗ−１７）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１７−１）から式（Ｗ−１７−４）
【0063】
【化15】
【0064】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0065】
式（Ｗ−１８）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１８−１）から式（Ｗ−１８−６）
【0066】
【化16】
【0067】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0068】
式（Ｗ−１９）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−１９−１）から式（Ｗ−１９−６）
【0069】
【化17】
【0070】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
【0071】
式（Ｗ−２０）で表される基としては、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い下記の式（Ｗ−２０−１）から式（Ｗ−２０−９）
【0072】
【化18】
【0073】
（式中、ＲＴは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。これらの基は任意の位置に結合手を有している。）から選ばれる基を表すことが好ましい。
Ｗ１に含まれる芳香族基は、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い上記式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−８）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）、式（Ｗ−１０−８）、式（Ｗ−１１−８）、式（Ｗ−１１−９）、式（Ｗ−１１−１０）、式（Ｗ−１１−１１）又は式（Ｗ−１１−１２）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換又は１つ以上のＬＷによって置換されても良い式（Ｗ−１−１）、式（Ｗ−７−１）、式（Ｗ−７−２）、式（Ｗ−７−７）、式（Ｗ−１０−６）、式（Ｗ−１０−７）又は式（Ｗ−１０−８）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。さらに、Ｗ１は下記の式（Ｗ−ａ−１）から式（Ｗ−ａ−６）
【0074】
【化19】
【0075】
（式中、ｒは０から５の整数を表し、ｓは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表す。）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
＜Ｙ１＞
Ｙ１は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていても良い）を有する炭素原子数２〜３０の有機基、又は−（Ｚ５−Ａ３）ｑ−Ｚ６−Ｓｐ３−Ｐ３を表し、当該アルキル基、アルケニル基、及びシクロアルキル基は無置換であるか又は１つ以上の置換基によって置換されていても良く、当該アルキル基中の１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い。ここで、Ｚ５〜Ｚ６、Ａ３、Ｓｐ３、Ｐ３は、それぞれ、前記Ｚ１〜Ｚ４、Ａ１〜Ａ２、Ｓｐ１〜Ｓｐ２、Ｐ１〜Ｐ２で定義されるものと同一のものを表し、ｑは０〜４の整数を表す。また、前記Ｗ１とＹ１は結合していてもよい。
【0076】
逆分散性及び液晶性を重視する場合には、Ｙ１は水素原子であることが好ましい。
【0077】
有機溶媒に溶解させ長期間保存した場合の変質の起こりにくさ、組成物に添加し長期間保存した場合の変質の起こりにくさ又はフィルムにした場合の位相差の安定性を重視する場合には、Ｙ１は基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、−（Ｚ５−Ａ３）ｑ−Ｚ６−Ｓｐ３−Ｐ３で表される基を表すことが好ましい。前記の基のうち、Ｙ１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基、若しくは、−（Ｚ５−Ａ３）ｑ−Ｚ６−Ｓｐ３−Ｐ３で表される基を表すことがさらにより好ましい。Ｚ５〜Ｚ６、Ａ３及びＰ３の好ましい構造は、各々前記Ｚ１〜Ｚ４、Ａ１〜Ａ２、Ｐ１〜Ｐ２と同一であり、フィルムを作製した場合の硬化収縮の少なさの観点からＳｐ３はスペーサー基であることが好ましく、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことがより好ましく、合成の容易さの観点から１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことがさらにより好ましく、ｑは０〜４の整数を表すことが好ましく、０〜２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、０を表すことが特に好ましい。より具体的には合成の容易さの観点から、Ｙ１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、−Ｚ６１−Ｓｐ３１−Ｐ３１で表される基（式中、Ｐ３１は前記式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）から選ばれる基を表し、Ｓｐ３１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状アルキレン基を表し、Ｚ６１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は単結合を表す。）を表すことがより好ましく、Ｙ１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基、若しくは、−Ｓｐ３１１−Ｐ３１１で表される基（式中、Ｐ３１１は前記式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）から選ばれる基を表し、Ｓｐ３１１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキレン基を表す。）を表すことがさらに好ましい。
【0078】
逆分散性、低い屈折率異方性及び液晶性のバランスを重視する場合には、下記の一般式（１−ｆ−ｉ）及び一般式（１−ｆ−ｉｉ）
【0079】
【化20】
【0080】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｕ、Ｑ１、Ｗ１及びＹ１は一般式（１）と同じ意味を表し、Ａ１１、Ａ１２、Ａ２１、Ａ２２、Ａ１３及びＡ２３は１，４−シクロへキシレン基を表し、Ｚ１１及びＺ２２は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ１２、Ｚ２１、Ｚ１３及びＺ２３は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表す。）であることが好ましい。
【0081】
逆分散性、高い屈折率異方性、組成物に添加した場合の高い液晶性のバランスを重視する場合には、下記の一般式（１−ｃ−ｉ）及び一般式（１−ｃ−ｉｉ）
【0082】
【化21】
【0083】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｕ、Ｑ１、Ｗ１及びＹ１は一般式（１）と同じ意味を表し、Ａ１４、Ａ２５、Ａ１６及びＡ２６は各々独立して１，４−フェニレン基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１１によって置換されても良く、Ｌ１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ１５及びＡ２４は１，４−シクロへキシレン基を表し、Ｚ１４及びＺ２５は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ１５、Ｚ２４、Ｚ１６及びＺ２６は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すが、Ｚ１５及びＺ２４のうち少なくとも一方並びにＺ１６及びＺ２６のうち少なくとも一方は−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−から選ばれる基を表す。）であることが好ましく、下記の一般式（１−ｃｍ）
【0084】
【化22】
【0085】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｕ、Ｑ１、Ｗ１及びＹ１は一般式（１）と同じ意味を表し、Ａ１７及びＡ２８は各々独立して１，４−フェニレン基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ１１によって置換されても良く、Ｌ１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ１８及びＡ２７は１，４−シクロへキシレン基を表し、Ｚ１７及びＺ２８は各々独立して−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ１８及びＺ２７は各々独立して−ＯＣＨ２−又は−ＣＨ２Ｏ−を表す。）であることがより好ましい。
【0086】
逆分散性、高い屈折率異方性、組成物に添加した場合の高い液晶性のバランス、有機溶媒に溶解させ長期間保存した場合の変質の起こりにくさ、組成物に添加し長期間保存した場合の変質の起こりにくさ又はフィルムにした場合の位相差の安定性を重視する場合には、下記の一般式（１−ｃｍｎ）
【0087】
【化23】
【0088】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｕ、Ｑ１及びＷ１は一般式（１）と同じ意味を表し、Ａ１７、Ａ２８、Ａ１８、Ａ２７、Ｚ１７、Ｚ２８、Ｚ１８及びＺ２７は一般式（１−ｃｍ）と同じ意味を表し、Ｙ１１は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは、−Ｓｐ３１２−Ｐ３１２で表される基（式中、Ｐ３１２は前記式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）から選ばれる基を表し、Ｓｐ３１２は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状アルキレン基を表す。）から選ばれる基を表す。）で表される化合物が好ましい。
【0089】
一般式（１）で表される化合物として具体的には、下記の式（１−１）から式（１−１７２）で表される化合物が好ましい。
【0090】
【化24】
【0091】
【化25】
【0092】
【化26】
【0093】
【化27】
【0094】
【化28】
【0095】
【化29】
【0096】
【化30】
【0097】
【化31】
【0098】
【化32】
【0099】
【化33】
【0100】
【化34】
【0101】
【化35】
【0102】
【化36】
【0103】
【化37】
【0104】
【化38】
【0105】
【化39】
【0106】
【化40】
【0107】
【化41】
【0108】
【化42】
【0109】
【化43】
【0110】
【化44】
【0111】
【化45】
【0112】
【化46】
【0113】
【化47】
【0114】
【化48】
【0115】
【化49】
【0116】
【化50】
【0117】
【化51】
【0118】
【化52】
【0119】
【化53】
【0120】
【化54】
【0121】
【化55】
【0122】
【化56】
【0123】
【化57】
【0124】
【化58】
【0125】
【化59】
【0126】
【化60】
【0127】
【化61】
【0128】
【化62】
【0129】
本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−９）で表される化合物の製造
【0130】
【化63】
【0131】
（式中、Ｗ１、Ｙ１は各々独立して一般式（１）で定義されたものと同一のものを表し、Ｐは一般式（１）においてＰ１又はＰ２で定義されたものと同一のものを表し、Ｌは上記置換基Ｌで定義されたものと同一のものを表し、Ｌが複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、Ｓｐ−ＣＯＯ又はＳｐ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２は一般式（１）においてＳｐ１−Ｚ３又はＳｐ２―Ｚ４で定義されたものにあたり、ｓは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１）で表される化合物をホルミル化することによって、式（Ｓ−２）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば塩化マグネシウム及び塩基存在下パラホルムアルデヒドと反応させる方法が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン等が使用可能である。
【0132】
式（Ｓ−２）で表される化合物を式（Ｓ−３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−４）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては例えば縮合剤を用いる方法若しくは式（Ｓ−３）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−２）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。
【0133】
式（Ｓ−５）で表される化合物を例えばヒドラジン一水和物と反応させることによって、式（Ｓ−６）で表される化合物を得ることができる。
【0134】
式（Ｓ−６）で表される化合物を塩基存在下、式（Ｓ−７）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−８）で表される化合物を得ることができる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。
【0135】
式（Ｓ−８）で表される化合物を酸触媒存在下、式（Ｓ−４）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−９）で表される化合物を得ることができる。酸としては例えばｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、１０−カンファースルホン酸等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−１５）で表される化合物の製造
【0136】
【化64】
【0137】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１，Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｗ１、Ｙ１は各々独立して一般式（１）で定義されたものと同一のものを表し、Ｌは上記置換基Ｌで定義されたものと同一のものを表し、Ｌが複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、ｖは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１０）で表される化合物を式（Ｓ−１１）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１２）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒としては例えば、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン等が挙げられる。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ ｄｅ Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ２１ｓｔ Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。
【0138】
製法１と同様に、式（Ｓ−１２）で表される化合物を式（Ｓ−１３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１４）で表される化合物を得ることができる。
【0139】
製法１と同様に、式（Ｓ−１４）で表される化合物を式（Ｓ−８）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１５）で表される化合物を得ることができる。
（製法３）下記式（Ｓ−２３）で表される化合物の製造
【0140】
【化65】
【0141】
（式中、Ｐ１、Ｐ２、Ｓｐ１，Ｓｐ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｗ１、Ｙ１は各々独立して一般式（１）で定義されたものと同一のものを表し、Ｌは上記置換基Ｌで定義されたものと同一のものを表し、Ｌが複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、ｖは０から４の整数を表し、ｔは０から３の整数を表し、
ＰＧは保護基を表す。）
式（Ｓ−１６）で表される化合物のヒドロキシル基を保護基（ＰＧ）によって保護する。保護基（ＰＧ）としては、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【0142】
製法１と同様に、式（Ｓ−１７）で表される化合物をホルミル化することによって、式Ｓ−１８）で表される化合物を得ることができる。
【0143】
製法２と同様に、式（Ｓ−１８）で表される化合物を式（Ｓ−１３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１９）で表される化合物を得ることができる。
【0144】
式（Ｓ−１９）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−２０）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。
【0145】
製法２と同様に、式（Ｓ−２０）で表される化合物を式（Ｓ−１３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−２２）で表される化合物を得ることができる。
【0146】
製法１と同様に、式（Ｓ−２２）で表される化合物を式（Ｓ−８）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−２３）で表される化合物を得ることができる。
【0147】
製法１から製法３の各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載の条件又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）又はＲｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｌｔｄ．）等のオンライン検索サービスから提供される条件が挙げられる。
【0148】
また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えばｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソペンチルアルコール、シクロヘキサノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−オクタノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、メタノール、メチルシクロヘキサノール、エタノール、プロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ソルビタンモノオレアート［Ｓｐａｎ ８０］等が挙げられる。
【0149】
また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。
＜＜組成物＞＞
本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。
【0150】
本願発明の重合性化合物と混合して使用される他の重合性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ−１）
【0151】
【化66】
【0152】
及び／又は一般式（ＩＩ−２）
【0153】
【化67】
【0154】
（式中、Ｐ１、Ｐ２及びＰ３は各々独立して重合性基を表し、Ｓ１、Ｓ２及びＳ３は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ３及びＺ４は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ３、Ａ４、Ａ５及びＡ６は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ３、Ａ４、Ａ５及びＡ６は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒ５は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍ３及びｍ４は０、１、２又は３を表すが、ｍ３及び／又はｍ４が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ３、Ａ５、Ｚ３及び／又はＺ４は同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、Ｐ１、Ｐ２及びＰ３がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（ＩＩ−１）で表される化合物として具体的には、一般式（ＩＩ−１Ａ）
【0155】
【化68】
【0156】
（式中、Ｗ３及びＷ４は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ４及びＳ５は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ４及びＸ５は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ５及びＺ６は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ７、Ａ８及びＡ９は各々独立して無置換若しくはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数１から４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基によって置換されていても良い１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−４）で表される化合物が特に好ましい。
【0157】
【化69】
【0158】
（式中、Ｗ３及びＷ４は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ４は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ４と同じ意味を表し、Ｓ５は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ５と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−４）において、Ｓ４及びＳ５が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【0159】
この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−３）で表される化合物が挙げられる。
【0160】
【化70】
【0161】
（式中、Ｗ５及びＷ６は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ６及びＳ７は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−３）において、Ｓ６及びＳ７が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【0162】
また、一般式（ＩＩ−２）で表される化合物として具体的には、下記一般式（ＩＩ−２−１）から式（ＩＩ−２−７）で表される化合物が挙げられる。
【0163】
【化71】
【0164】
（式中、Ｐ４は一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ８は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良く、Ｘ６は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ７は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｓは０から４の整数を表し、Ｒ３は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。
【0165】
また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤の具体例としては２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）、安息香酸［１−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］ヘプチリデン］アミノ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤の具体例としては２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。
【0166】
また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−４０）
【0167】
【化72】
【0168】
【化73】
【0169】
【化74】
【0170】
【化75】
【0171】
【化76】
【0172】
【化77】
【0173】
【化78】
【0174】
【化79】
【0175】
（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。
【0176】
また、本願発明の化合物を含有する重合性組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。
【0177】
本願発明の化合物を含有する重合性組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性組成物を重合することによって製造することができる。
【0178】
重合性組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。
【0179】
上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
【0180】
本願発明の化合物を含有する重合性組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜２Ｗ／ｃｍ２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ２以上の場合、重合性化合物又は重合性組成物が劣化してしまう危険がある。
【0181】
重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。
【0182】
このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。
【0183】
以下に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【実施例】
【0184】
（実施例１）
以下に示す方法により、下記式（１−ｃ−１）で表される重合性化合物を合成した。
【0185】
【化80】
【0186】
（化合物１−ｃ−１ａの合成）５０ｍｌの三口フラスコに５−（２−ヒドロキシ）エチル−２−ヒドロキシベンズアルデヒド１．０３ｇ、４−（６−アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ安息香酸３．５５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０７ｇ、ジクロロメタン１５ｍｌを加え、５〜１０℃で１０分間攪拌した。攪拌下、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）１．９ｇを５〜１０℃を保ちながら滴下し、続いて２５度まで昇温し７時間攪拌した。この反応混合物に対して水１５ｍｌを加えた後、有機層を分離し、さらに水層をジクロロメタン１５ｍｌで抽出した。得られた有機層を混合して一つにした後、ヘキサン９０ｍｌ及びシリカゲル２ｇを加えて攪拌した。この固液混合物を、シリカゲル５ｇ及びアルミナ５ｇを充填したカラム上に加えて通過させた。得られた溶液の溶媒をおおむね留去した後、アセトン／メタノールを用いて再沈殿を行った。この結晶をろ過、乾燥することで化合物（１−ｃ−１ａ）を１．２３ｇ得た（収率２９％）。
【0187】
（化合物１−ｃ−１の合成）３０ｍｌの三口フラスコに化合物（１−ｃ−１ａ）１．４ｇ、２−ヒドラジノベンゾチアゾール０．３５ｇ、テトラヒドロフラン５ｍｌを加え、２５℃で９時間攪拌した。その後、水５０ｍｌを加え、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製した。得られた組成生物をアセトン／メタノールを用いて再沈殿を行った。この結晶をろ過、乾燥することで化合物（１−ｃ−１）を０．９８ｇ得た。
【0188】
上記の重合性化合物（１−ｃ−１）の相系列（Ｐｈａｓｅ ｓｅｑｕｅｎｃｅ）の上限温度を示差走査熱量測定及び温度可変装置を装着した偏光顕微鏡による液晶相の観察によって求めたところ、「Ｓｍ ６０ Ｉｓｏ」であった。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４０−１．６０（ｐ， ８Ｈ）， １．６（ｂｒ， １Ｈ）， １．６５−１．８０（ｐ， ４Ｈ）， １．８０−１．９７（ｐ， ４Ｈ）， ３．１５（ｔ， ２Ｈ）， ４．０１（ｔ， ２Ｈ）， ４．１７（ｔ， ２Ｈ）， ４．３１（ｔ， ２Ｈ）， ４．４０（ｔ， ２Ｈ）， ４．５７（ｔ， ２Ｈ）， ５．８１−５．８５（ｄ＋ｄ， ２Ｈ）， ６．０８−６．１８（ｍ， ２Ｈ）， ６．３７−６．４６（ｄ＋ｄ， ２Ｈ）， ６．８７（ｄ， ２Ｈ）， ６．９６（ｄ， ２Ｈ）， ７．１２−７．１８（ｍ， ２Ｈ）， ７．３４（ｄ， １Ｈ）， ７．４８（ｄ， １Ｈ）， ７．５８ （ｄ， １Ｈ）， ７．９９−８．０２（ｓ＋ｄ， ５Ｈ）， ８．１２（ｄ， ２Ｈ）．
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ ８６２．６０［Ｍ＋］
実施例１と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、以下の実施例２〜実施例４２の化合物を合成した。
【0189】
【化81】
【0190】
式（１−ｃ−２）で表される化合物の物性値
転移温度：Ｃ １１８ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ２．１１（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．２２（ｑｕｉｎ，２Ｈ），３．１５（ｔ，２Ｈ），４．０１（ｔ，２Ｈ），４．１４（ｔ，２Ｈ），４．３１（ｔ，２Ｈ），４．４０（ｔ，２Ｈ），４．５７（ｔ，２Ｈ），５．８３（ｍ，２Ｈ），６．１３（ｍ，２Ｈ），６．４１（ｍ，２Ｈ），６．８８（ｍ，４Ｈ），７．０９（ｍ，１Ｈ），７．１６−７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｍ，１Ｈ），７．４５（ｍ，１Ｈ），７．５５（ｍ，１Ｈ），７．９７−８．０９（ｍ，６Ｈ）ｐｐｍ．
【0191】
【化82】
【0192】
【化83】
【0193】
【化84】
【0194】
式（１−ｃ−１６）で表される化合物の物性値
転移温度：Ｃ ？ Ｎ １５０ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．４０−１．８２（ｍ，２４Ｈ），２．０４−２．２０（ｍ，８Ｈ），２．３５−２．４９（ｍ，４Ｈ），３．０２（ｔ，２Ｈ），３．９２（ｔ，２Ｈ），３．９５（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），４．３６（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８２−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９７−７．０４（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｍ，１Ｈ），７．２６（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｔ，１Ｈ），７．４９（ｄ，１Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
【0195】
【化85】
【0196】
【化86】
【0197】
【化87】
【0198】
【化88】
【0199】
【化89】
【0200】
【化90】
【0201】
【化91】
【0202】
実施例の化合物を合成するために使用する中間体化合物（９）は以下に示す方法により合成した。
【0203】
【化92】
【0204】
［化合物（９−２）の合成］
窒素雰囲気下、５００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−１）４０．０ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）１．０ｇ（４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン２００ｍｌを加え攪拌した。氷冷下、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（ＤＨＰ）２５．２ｇ（３００ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で８時間反応後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し減圧下濃縮した。化合物（９−２）が５６．３ｇ（収率９９．０％）得られた。
［化合物（９−３）の合成］
化合物（９−２）５６．３ｇ（１９８ｍｍｏｌ）、触媒（５％Ｐｄ／Ｃ）２．８ｇ及びエタノール２５０ｍｌを１ｌオートクレーブに加えた。水素圧０．４ＭＰａを維持しながら室温で３時間反応させた。触媒をろ過し減圧下濃縮した。化合物（９−３）が３８．５ｇ得られた（定量的）。
［化合物（９−４）の合成］
窒素雰囲気下、５００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−３）３８．５ｇ、炭酸カリウム４１．０ｇ（２９７ｍｍｏｌ）、６−クロロ−１ヘキサノ−ル２７．０ｇ（１９８ｍｍｏｌ）及びジメチルホルムアミド３００ｍｌを加えた。混合液を１００℃に昇温し、２４時間反応させた。冷却後、酢酸エチル６００ｍｌと水６００ｍｌを加え分液した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下に濃縮した。氷冷下、濃縮残渣にヘキサンを加え結晶化させた。結晶をろ過後減圧乾燥した。化合物（９−４）が４９．５ｇ得られた（収率８４．９％）。
［化合物（９−５）の合成］
乾燥空気雰囲気下、５００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−４）４４．２ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１６．７ｇ（１６５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン３００ｍｌを加え攪拌した。アクリロイルクロリド１４．３ｇ（１５８ｍｍｏｌ）を５℃以下で滴下し、室温で３時間反応した。反応液を水、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下濃縮した。化合物（９−５）が５２．３ｇ得られた（定量的）。
［化合物（９−６）の合成］
５００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−５）５２．３ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２５０ｍｌお呼びメタノール５０ｍｌを加え攪拌した。混合液に濃硫酸１．０ｇを加え室温で３時間反応した。反応液を酢酸エチル５００ｍｌに投入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ジクロロメタン）で精製した。化合物（９−６）が３２．４ｇ得られた（収率８１．７％）。
【0205】
化合物（９−７）は以下に示す方法で合成した。
【0206】
【化93】
【0207】
［化合物（９−７−２）の合成］
四つ口フラスコ（１ｌ）に、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルエステル（９−７−１）１００．０ｇ（５００ｍｍｏｌ）とメタノール１０００ｍｌを加え攪拌した。水酸化カリウム１６．８ｇ（３００ｍｍｏｌ）を加えた後、還流下に６時間反応した。冷却後、反応液を濃縮し残渣に水５００ｍｌを加えた。希塩酸をｐＨ２になるまで加え、析出した結晶をろ過した。結晶を水で洗浄後、減圧乾燥した。化合物（９−７−２）が５４．０ｇ（収率５８．０％）得られた。
［化合物（９−７−３）の合成］
窒素雰囲気下、３００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−７−２）４９．５ｇ（２６６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）３．３ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール１５０ｍｌ及びテトラヒドロフラン１５０ｍｌを加え均一に撹拌した。氷冷下、Ｎ，Ｎ‘−ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）５０．４ｇ（３９９ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で６時間反応した。水１５ｍｌを加えさらに１時間撹拌した。不溶物をろ過後、減圧下で反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ジクロロメタン）で精製した。化合物（９−７−３）が５１．９ｇ得られた（収率８０．６％）。
［化合物（９−７）の合成］
四つ口フラスコ（３００ｍｌ）に化合物（９−７−３）４８．０ｇ（１９８ｍｍｏｌ）、メタノール１５０ｍｌ及びテトラヒドロフラン１５０ｍｌを加え撹拌した。氷冷下、水酸化ナトリウム２４．０ｇ（６００ｍｍｏｌ）を加え、５℃以下で３時間撹拌した。水１０００ｍｌに投入し、ジクロロメタンで洗浄した。水層に希塩酸をｐＨ２になるまで加えた。析出した結晶をろ過し、水で洗浄後減圧乾燥した。化合物（９−７）が４１．４ｇ得られた（収率９１．６％）。
［化合物（９−８）の合成］
乾燥空気雰囲気下、５００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−６）２９．０ｇ（１２８ｍｍｏｌ）、化合物（９−７）３４．４ｇ（１３０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．６ｇ（１５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン３００ｍｌを加え撹拌した。氷冷下、Ｎ，Ｎ‘−ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）１９．３ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で６時間反応した。水５ｍｌを加えさらに１時間撹拌した。不溶物をろ過後、減圧下で反応液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ジクロロメタン）で精製した。化合物（９−８）４３．１ｇが得られた（収率７１．１％）。
［化合物（９）の合成］
乾燥空気雰囲気下、２０００ｍｌ四つ口フラスコに化合物（９−８）４２．０ｇ（８８．５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン７００ｍｌを加え撹拌した。氷冷下、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）１００．８ｇ（８８５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で８時間反応した。ヘキサン１０００ｍｌを加え、減圧下でジクロロメタンを留去した。析出した結晶をろ過し、水とヘキサンで順次洗浄した。結晶を減圧下乾燥し、化合物（９）が３６．２ｇ得られた（収率９７．８％）。
（実施例４３）
以下に示す方法により、下記式（１−ｃ−４３）で表される重合性化合物を合成した。
【0208】
【化94】
【0209】
［化合物（２）の合成例］
３００ｍｌの４ツ口フラスコに４−ヒドロキシけい皮酸ｔｅｒｔブチル（１−ｃ−４３ａ）１０．０８ｇ（４５．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ、炭酸カリウム９．４ｇを加えて１０分間攪拌した。この混合物中へアクリル酸―６−クロロヘキシル１０．１ｇ（５３ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で６時間撹拌した。この反応混合物を１０℃に冷却し、水１００ｍｌを加えて１時間攪拌した。この混合物をろ過し、粗生成物を固体として得た。この固体をアセトン２５ｍｌに溶かし、メタノール４５ｍｌ中へ滴下し０℃へ冷却した。生じた固体をろ過紙、再度アセトン１２ｍｌに溶解し、ヘキサン２５ｍｌ中へ滴下し０℃に冷却した。得られた固体をろ過、乾燥することで、化合物（１−ｃ−４３ｂ）が８．５６ｇ得られた（収率５０％）。
［化合物（１−ｃ−４３ｃ）の合成例］
２００ｍｌの３つ口フラスコに化合物（１−ｃ−４３ｂ）８．５ｇ、ジクロロメタン２２ｍｌを加えて攪拌した。この混合物中へギ酸２２ｍｌを滴下し、４０℃で５時間攪拌した。この反応混合物を３０度以下に冷却し、ジクロロメタン５０ｍｌを加えた。有機層を分離し、水７０ｍｌで４回、飽和食塩水７０ｍｌで１回洗浄した。得られた溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、溶媒を留去した。得られた固体にヘキサン１０ｍｌとトルエン４ｍｌを加えて室温で３０分攪拌した。この混合物をろ過、乾燥することで化合物（１−ｃ−４３ｃ）が６．３０ｇ得られた（収率８７％）。
［化合物（１−ｃ−４３ｄ）の合成例］
１００ｍｌの３つ口フラスコに２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド１．３１ｇ、ジクロロメタン２５ｍｌ、化合物（１−ｃ−４３ｃ）６．０５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０７ｇを加えて５℃で１０分攪拌した。この混合物中へＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド２．９８ｇを１０度以下を維持しながら滴下し、３０℃で６時間攪拌した。この反応混合物に水０．０８ｍｌを加えた後、固体をろ過して除去した。得られた溶液をカラム（シリカゲル＋アルミナ、ジクロロメタン）に通した後、溶媒を留去した。得られた固体をアセトン１０ｍｌに溶解させ、メタノール３０ｍｌ中に滴下し０℃に冷却した。得られた固体をろ過、乾燥することで、化合物（１−ｃ−４３ｄ）を４．８０ｇ得られた（収率６９％）。
［化合物（１−ｃ−４３）の合成例］
１００ｍｌの三口フラスコに化合物４．８ｇ、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１．０７ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌを加え、５０℃で１５時間攪拌した。この反応混合物を室温まで冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ジクロロメタン／酢酸エチル＝１０／１）で精製した。カラム通過後の溶液をろ過、乾燥することで化合物（１−ｃ−４３）を２．４０ｇ得た。
【0210】
上記の重合性化合物（１−ｃ−４３）の相系列（Ｐｈａｓｅ ｓｅｑｕｅｎｃｅ）の上限温度を示差走査熱量測定及び温度可変装置を装着した偏光顕微鏡による液晶相の観察によって求めたところ、「Ｃｒｙ １０６ Ｓｍ １９６ Ｎ ２０３ Ｉｓｏ」であった。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．４１−１．６１（ｐ， ８Ｈ）， １．６５−１．８０（ｐ， ４Ｈ）， １．７（ｂｒ， １Ｈ）， １．８０−１．９７（ｐ， ４Ｈ）， ４．０２（ｔ， ２Ｈ）， ４．１７（ｔ， ２Ｈ）， ５．８２（ｄ， ２Ｈ）， ６．１０−６．１８（ｄｄ， ２Ｈ）， ６．３９−６．４４（ｓ＋ｄ， ３Ｈ）， ６．９３（ｄｄ， ４Ｈ）， ７．０９（ｔ， ２Ｈ）， ７．２３（ｓ， １Ｈ）， ７．３０（ｄ， １Ｈ）， ７．４３（ｄ， １Ｈ）， ７．５０−７．５８（ｐ， ４Ｈ）， ７．７５−７．８９（ｐ， ３Ｈ）， ８．１０（ｓ， １Ｈ）．
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ ８８５．６１［Ｍ＋］
実施例４３と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、以下の実施例４４〜実施例５３の化合物を合成した。
【0211】
【化95】
【0212】
【化96】
【0213】
【化97】
【0214】
式（１−ｃ−５１）で表される化合物の物性値
転移温度：Ｃ ６１−６７ （Ｎ ４０） Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．４２−１．８２（ｍ，１６Ｈ），２．８３−３．０９（ｍ，８Ｈ），３．９７（ｍ，４Ｈ），４．１７（ｍ，４Ｈ），５．８４（ｄ，２Ｈ），６．１５（ｄｄ，２Ｈ），６．４３（ｄ，２Ｈ），６．８６−６．９２（ｍ，４Ｈ），７．０４（ｍ，２Ｈ），７．１５−７．２３（ｍ，５Ｈ），７．３６（ｔ，１Ｈ），７．４２（ｓ，１Ｈ），７．５７（ｄ，１Ｈ），７．６８（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例５４）
以下に示す方法により、下記式（１−ｊ−５４）で表される重合性化合物を合成した。
【0215】
【化98】
【0216】
［化合物Ｍ−１の合成］
４−ブロモ安息香酸（５０ ｇ）、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（２０．３ ｇ）、ジメチルアミノピリジン（１２．２ ｇ）をジクロロメタンに溶解させ、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ， ３７．７ ｇ）を３５℃で滴下し、５時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液を濃縮した。固体をカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物Ｍ−１（４９ ｇ）を得た。
［化合物Ｍ−２の合成］
Ｍ−１（４９ ｇ）をＮＭＰに溶解させ、炭酸カリウム（３４．２ ｇ）、エチルアクリレート（２４．８ ｇ）を加えた。窒素置換を行い、酢酸パラジウム（０．４３ ｇ）を加え、１１０℃で加熱撹拌した。４時間撹拌後、水（３００ ｍｌ）を加え、酢酸エチルにより抽出した。有機層を１ ％塩酸、飽和食塩水により洗浄した。芒硝により脱水し、有機層を濃縮した。得られた化合物をエタノール１００ ｍｌに溶解させ、水酸化カリウム（１５．２ ｇ）、エタノール５０ ｍＬ、水５０ ｍＬを加えた。室温で５時間撹拌後、水を１００ ｍＬ加え、塩酸で中和した。水層を酢酸エチルで抽出し、濃縮することによりオイル状固体（Ｍ−２、１４．７ ｇ）を得た。
［化合物Ｍ−３の合成］
得られた化合物をジクロロメタンに溶解させ、ＤＭＡＰ（２．９０ ｇ）、４−ヒドロキシブチルアクリレート（１０．３ ｇ）、ＤＭＦ ４００ ｍＬを加えた。室温でＤＩＣ（９．０ ｇ）をゆっくりと滴下し、２４時間攪拌した。水で洗浄し、ジクロロメタンで抽出した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られたオイル状化合物に蟻酸を加え、室温で９時間、４５℃４時間攪拌した。反応系中に水１００ ｍＬを加え、水酸化ナトリウムで中和した後、酢酸エチルにより抽出した。有機層を濃縮・乾燥し、化合物Ｍ−３（６．５ ｇ）を得た。
［化合物Ｍ−４の合成］
化合物Ｍ−３（６．５ ｇ）をジクロロメタン２００ ｍＬに溶解させ、ＤＭＡＰ（０．６ ｇ）、ジヒドロキシベンズアルデヒド（１．２ ｇ）を加えた。室温でＤＩＣ（２．５ ｇ）を滴下し、１０時間攪拌した。反応液をろ過し、有機層を濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、化合物Ｍ−４（５ ｇ）を得た。
［化合物１−ｊ−５４の合成］
化合物Ｍ−４（５ ｇ）をエタノール５０ ｍＬに溶解させ、ベンゾチアゾールヒドラジン誘導体を加え、４５℃で５時間攪拌した。室温まで冷却すると、固体が析出し、ろ過により回収した。再結晶により精製し、目的化合物１−ｊ−５４を３．５ｇ得た。
【0217】
実施例５４と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、以下の実施例５５〜実施例６５の化合物を合成した。
【0218】
【化99】
【0219】
【化100】
【0220】
【化101】
【0221】
（実施例６６）
以下に示す方法により、下記式（１−ｃ−６６）で表される重合性化合物を合成した。
【0222】
【化102】
【0223】
［化合物（Ｙ−１）の合成例］
温度計及び冷却器を備えた反応容器に４−ブロモフェノール５０．０ ｇ（０．２８９ ｍｏｌ）、３−クロロプロパノール２４．６ｇ（０．２６０ ｍｏｌ）、炭酸カリウム５５．９ ｇ（０．４０５ ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２５０ ｍｌを加えた。１２０ ℃で７ ｈ．加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｙ−１）で表される化合物４５．１ ｇ（０．１９５ ｍｏｌ）を得た。
［化合物（Ｙ−２）の合成例］
温度計を備えた反応容器に式（Ｙ−１）で表される化合物４５．１ ｇ（０．１９５ ｍｏｌ）、トリメチルシリルアセチレン２１．６ ｇ （０．２１４ ｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）７４０ ｍｇ （３．９０ ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２２５ ｍｌ、トリエチルアミン７５ ｍｌを加えた。窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）２．３ ｇ（１．９５ ｍｍｏｌ）を加え９０℃で８ ｈ．加熱撹拌した。酢酸エチルで希釈し、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｙ−２）で表される化合物３４．６ ｇ（０．１３９ ｍｏｌ）を得た。
［化合物（Ｙ−３）の合成例］
反応容器に式（Ｙ−２）で表される化合物３４．６ｇ（０．１３９ ｍｏｌ）、メタノール３００ ｍｌ、炭酸カリウム３８．５ ｇ （０．２７８ ｍｏｌ）を加え、室温で１０ ｈ．撹拌した。トルエンを加え食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｙ−３）で表される化合物２３．８ ｇ（０．１３５ ｍｏｌ）を得た。
［化合物（Ｙ−４）の合成例］
温度計を備えた反応容器に式（Ｙ−３）で表される化合物２０．６ ｇ（０．１１７ ｍｏｌ）、２，５−ジブロモベンズアルデヒド１４．０ ｇ （０．０５３ ｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）４００ ｍｇ （２．１２ ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０５ ｍｌ、トリエチルアミン３５ ｍｌを加えた。窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．２ ｇ（１．０６ ｍｍｏｌ）を加え９０℃で８ ｈ．加熱撹拌した。酢酸エチルで希釈し、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶により精製を行い、式（Ｙ−４）で表される化合物８．０ ｇ（０．０１７ ｍｏｌ）を得た。
［化合物（Ｙ−５）の合成例］
温度計及び滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｙ−４）で表される化合物８．０ ｇ（０．０１７ ｍｏｌ）、トリエチルアミン４．６ ｇ （０．０４５ ｍｏｌ）、ジクロロメタン１１０ ｍｌを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル３．８ ｇ （０．０４２ ｍｏｌ）を滴下した。室温で５ ｈ．撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｙ−５）で表される化合物９．３ ｇ （０．０１７ ｍｏｌ）を得た。
［化合物（１−ｃ−６６）の合成例］
反応容器に式（Ｙ−５）で表される化合物９．３ｇ（０．０１７ ｍｏｌ）、２−ヒドラジノベンゾチアゾール２．７ｇ（０．０１７ ｍｏｌ）、１０−カンファースルホン酸 ７７ ｍｇ （０．０３ ｍｍｏｌ） 、メタノール５０ ｍｌ、ＴＨＦ ５０ ｍｌを加え、室温で３ ｈ．撹拌した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（１−ｃ−６６）で表される化合物８．４ ｇ（０．０１２ ｍｏｌ）を得た。
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ ７３７．２２［Ｍ＋］
実施例６６と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、以下の実施例６７〜６８の化合物を合成した。
【0224】
【化103】
【0225】
（実施例６９）
化合物（１−ｅ−６９）は、以下に示す方法で合成した。
【0226】
【化104】
【0227】
［化合物Ｎ−１の合成］
窒素雰囲気下、１００ｍｌ四つ口フラスコに２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド２．０８ｇ、炭酸カリウム４．１６ｇ、３−クロロ−１−プロパノ−ル２．４６ｇ及びジメチルホルムアミド２０ｍｌを加えた。混合液を１００℃に昇温し、２４時間反応させた。冷却後、酢酸エチル４０ｍｌと水４０ｍｌを加え分液した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過し、減圧下に濃縮した。氷冷下、濃縮残渣にヘキサンを加え結晶化させた。結晶をろ過後減圧乾燥した。化合物（Ｎ−１）が３．０９ｇ得られた（収率８２％）。
【0228】
窒素雰囲気下、１００ｍｌ四つ口フラスコに、化合物（Ｎ−１）３．０９ｇ、化合物（Ｎ−２）３．４０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０３ｇ及びジクロロメタン３０ｍｌを加え攪拌した。得られた混合液にジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）１．８７ｇを溶解したジクロロメタン溶液２ｍｌを５℃以下で滴下した。滴下後、室温で４時間反応させた。水を０．１ｍｌ添加しさらに１時間攪拌した。不溶物をろ過後、ろ液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別後、減圧濃縮した。残渣にメタノール２０ｍｌを加えて氷冷下で沈殿させた。沈殿をろ過し、メタノールとｎ−ヘキサンで順次洗浄した。減圧下で乾燥して化合物（Ｎ−３）が５．２４ｇ得られた（収率８８％）。
【0229】
（化合物１−ｅ−６９の合成）３０ｍｌの三口フラスコに化合物５．２４ｇ、２−ヒドラジノベンゾチアゾール１．８０ｇ、テトラヒドロフラン１５ｍｌを加え、２５℃で９時間攪拌した。その後、水１５０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製した。得られた組成生物をアセトン／メタノールを用いて再沈殿を行った。この結晶をろ過、乾燥することで化合物（１−ｅ―６９）を６．３０ｇ得た（収率９２％）。
【0230】
ＬＣ−ＭＳ：ｍ／ｚ ６２９．１８［Ｍ＋］
実施例６９と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、実施例７０〜実施例７５の化合物を合成した。
【0231】
【化105】
【0232】
【化106】
【0233】
実施例１の（１−ｃ−１）と同様の反応、および必要に応じて公知の方法に準拠した方法を用いて、実施例７６〜実施例７８の化合物を合成した。
【0234】
【化107】
【0235】
（実施例７９）
実施例１と同様の方法によって式（１−ｃｈ−７９）で表される化合物を製造した。
【0236】
【化108】
【0237】
転移温度：Ｃ １４５ Ｎ ２０７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．４７−１．８７（ｍ，１６Ｈ），３．１７（ｔ，２Ｈ），４．０５（ｔ，２Ｈ），４．０６（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），４．１９（ｔ，２Ｈ），４．６２（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４１（ｄｄ，１Ｈ），６．４１（ｄｄ，１Ｈ），６．９６（ｍ，４Ｈ），７．０９（ｍ，１Ｈ），７．１９−７．３８（ｍ，７Ｈ），７．４５（ｄ，１Ｈ），７．６１（ｄ，１Ｈ），７．９６（ｍ，１Ｈ），８．０５−８．１８（ｍ，７Ｈ），８．２２（ｄ，２Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８０）
下記の方法によって式（１−ｃ−８０）で表される化合物を製造した。
【0238】
【化109】
【0239】
転移温度：Ｃ １４１ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．４１−１．５０（ｍ，８Ｈ），１．６４−１．８１（ｍ，８Ｈ），３．８８（ｔ，２Ｈ），３．９１（ｔ，２Ｈ），４．１６（ｍ，６Ｈ），４．２６−４．３５（ｍ，６Ｈ），５．８１（ｄｄ，１Ｈ），５．８１（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．７９−６．９８（ｍ，１０Ｈ），７．１３（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５８（ｍ，２Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８１）
実施例１と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−８１）で表される化合物を製造した。
【0240】
【化110】
【0241】
転移温度：Ｃ １１３−１２３ （Ｎ １１３） Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．４０−１．８２（ｍ，２４Ｈ），２．０９−２．１７（ｍ，４Ｈ），２．３３（ｍ，５Ｈ），２．４７（ｍ，１Ｈ），２．６１（ｍ，１Ｈ），２．７１（ｍ，１Ｈ），３．０３（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｓ，３Ｈ），３．９３（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．３７（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｍ，２Ｈ），６．１２（ｍ，２Ｈ），６．４０（ｍ，２Ｈ），６．８３−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），７．０４（ｄ，１Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．２５（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６−７．７１（ｍ，３Ｈ），７．９１（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８２）
実施例１と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−８２）で表される化合物を製造した。
【0242】
【化111】
【0243】
転移温度：Ｃ １３４−１３９ （Ｎ １０２） Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ０．８９（ｔ，３Ｈ），１．３２−１．５６（ｍ，１８Ｈ），１．７０−１．８１（ｍ，１４Ｈ），２．０９−２．１７（ｍ，４Ｈ），２．３３（ｍ，５Ｈ），２．４６（ｍ，１Ｈ），２．５９（ｍ，１Ｈ），２．６９（ｍ，１Ｈ），３．０３（ｔ，２Ｈ），３．９３（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．３０（ｔ，２Ｈ），４．３７（ｔ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８３−６．８９（ｍ，６Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），７．０５（ｄ，１Ｈ），７．１５（ｔ，１Ｈ），７．２４（ｄｄ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．６８（ｄｄ，２Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），７．９３（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８３）
実施例１と同様の方法によって式（１−ｃｎ−８３）で表される化合物を製造した。
【0244】
【化112】
【0245】
転移温度：Ｃ ６０−６５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ０．７８（ｔ，３Ｈ），１．１１−１．１８（ｍ，６Ｈ），１．４２−１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．６８−１．７７（ｍ，６Ｈ），１．８６（ｑｕｉｎ，２Ｈ），３．１７（ｔ，２Ｈ），３．８６（ｔ，２Ｈ），４．０６（ｔ，２Ｈ），４．１５−４．２１（ｍ，６Ｈ），４．５８（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８４（ｄ，２Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ），７．２９−７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６３（ｍ，２Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），８．００−８．０４（ｍ，３Ｈ），８．１８（ｄ，２Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８４）
下記の方法によって式（１−ｈｋ−８４）で表される化合物を製造した。
【0246】
【化113】
【0247】
窒素雰囲気下、反応容器に式（１−ｈｋ−８４ａ）で表される化合物５．０ｇ、式（１−ｈｋ−８４ｂ）で表される化合物３．４ｇ、炭酸カリウム５．２、エタノール２０ｍＬ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６ｇを加え加熱還流させた。通常の後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（１−ｈｋ−８４ｃ）で表される化合物３．７ｇを得た。以下、実施例１と同様の方法によって式（１−ｈｋ−８４）で表される化合物を製造した。
相転移温度（昇温過程）：Ｃ １８０ Ｎ ＞２２０ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３）：１．４２−１．６０（ｍ，８Ｈ）， １．６８−１．９１（ｍ，８Ｈ），３．９５（ｍ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），４．１６−４．２２（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．０９−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．８２（ｂｒ，２Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｂｒ，１Ｈ），７．２１（ｂｒ，１Ｈ），７．３３（ｍ，３Ｈ），７．４５（ｂｒ，１Ｈ），７．６２（ｍ，２Ｈ），７．７０（ｄ，２Ｈ），８．０２（ｂｒ，２Ｈ），８．１９（ｄ，３Ｈ），８．２５（ｂｒ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８５）
実施例８４と同様の方法によって式（１−ｈｋ−８５）で表される化合物を製造した。
【0248】
【化114】
【0249】
相転移温度（昇温過程）：Ｃ １０７ Ｎ ２１７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３）：１．５２（ｍ，８Ｈ），１．７４（ｑｕｉｎ，４Ｈ），１．８６（ｑｕｉｎ，４Ｈ），４．０７（ｔｄ，４Ｈ），４．２０（ｔｄ，４Ｈ），５．８４（ｄ，２Ｈ），６．１４（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｄ，４Ｈ），７．１１（ｔ，１Ｈ），７．２１−７．４０（ｍ，８Ｈ），７．６２（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｍ，２Ｈ），８．１９（ｄｄ，４Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８６）
実施例８４と同様の方法によって式（１−ｈｋ−８６）で表される化合物を製造した。
【0250】
【化115】
【0251】
相転移温度（昇温過程）：Ｃ １１３ Ｎ １７１ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３）：１．４８−１．５９（ｍ，８Ｈ），１．７４（ｍ，４Ｈ），１．８５（ｍ，４Ｈ）， ４．０７（ｑ，４Ｈ），４．１９（ｔｄ，４Ｈ），５．８４（ｄ，２Ｈ），６．１４（ｄｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｔ，２Ｈ），７．００（ｑ，４Ｈ），７．３０（ｍ，４Ｈ），７．３９−７．４６（ｍ，５Ｈ），７．５１（ｄ，１Ｈ），７．６１（ｄｄ，２Ｈ），７．８５（ｄ，１Ｈ），６．１７（ｄ，２Ｈ），８．２２−８．２５（ｍ，３Ｈ），８．３９（ｄ，１Ｈ），８．５７（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８７）
下記の方法によって式（１−ｋ−８７）で表される化合物を製造した。
【0252】
【化116】
【0253】
反応容器に式（１−ｋ−８７ａ）で表される化合物５．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１ｇ、酢酸エチル５０ｍＬを加え加熱還流させた。通常の後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（１−ｋ−８７ｂ）で表される化合物５．５ｇを得た。
【0254】
反応容器に式（１−ｋ−８７ｂ）で表される化合物５．５ｇ、パラホルムアルデヒド２０．０ｇ、塩化マグネシウム６．０ｇ、トリエチルアミン２０ｍＬ、アセトニトリル６０ｍＬを加え加熱撹拌した。通常の後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（１−ｋ−８７ｃ）で表される化合物４．９ｇを得た。
【0255】
反応容器に式（１−ｋ−８７ｃ）で表される化合物４．９ｇ、メタノール３０ｍＬ、水酸化ナトリウム水溶液を加え加熱撹拌した。通常の後処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（１−ｋ−８７ｄ）で表される化合物３．７ｇを得た。以下、実施例１と同様の方法によって式（１−ｋ−８７）で表される化合物を製造した。
相転移温度（昇温過程）：Ｃ ６０−８０ Ｎ ２０６ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３）：１．４４−１．６０（ｍ，９Ｈ），１．６６−１．９０（ｍ，１３Ｈ），２．０７（ｍ，２Ｈ），２．２９（ｍ，２Ｈ），２．６８（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔｄ，４Ｈ），４．１９（ｔｄ，４Ｈ），５．０７（ｍ，１Ｈ），５．８４（ｄｔ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．８６（ｄ，２Ｈ），６．９３（ｄ，２Ｈ），７．０６−７．２２（ｍ，３Ｈ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ），７．４５（ｄ，１Ｈ），７．６３（ｄ，１Ｈ），７．９０（ｓ，１Ｈ），８．０４（ｍ，４Ｈ），８．１１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８８）
下記の方法によって式（１−ｃｍ−８８）で表される化合物を製造した。
【0256】
【化117】
【0257】
窒素雰囲気下、反応容器に式（１−ｃｍ−８８ａ）で表される化合物１７．７ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら０．９ｍｏｌ／Ｌボラン−テトラヒドロフラン錯体１０３ｍＬを滴下し１時間撹拌した。５％塩酸を滴下した後、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を留去することにより、式（１−ｃｍ−８８ｂ）で表される化合物１４．９ｇを得た。
【0258】
窒素雰囲気下、反応容器に式（１−ｃｍ−８８ｂ）で表される化合物１４．９ｇ、ピリジン７．２ｇ、ジクロロメタン１５０ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド８．８ｇを滴下し室温で３時間撹拌した。水に注ぎ、５％塩酸及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）及び再結晶（アセトン／ヘキサン）により精製を行い、式（１−ｃｍ−８８ｃ）で表される化合物１６．３ｇを得た。
【0259】
窒素雰囲気下、反応容器に式（１−ｃｍ−８８ｄ）で表される化合物２．５ｇ、式（１−ｃｍ−８８ｃ）で表される化合物１０．６ｇ、炭酸カリウム７．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍＬを加え９０℃で３日間加熱撹拌した。水に注ぎ、トルエンで抽出し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）及び再結晶（アセトン／メタノール）により精製を行い、式（１−ｃｍ−８８ｅ）で表される化合物７．７ｇを得た。
【0260】
反応容器に式（１−ｃｍ−８８ｅ）で表される化合物７．７ｇ、ジクロロメタン１５０ｍＬ、トリフルオロ酢酸１００ｍＬを加え撹拌した。溶媒を留去した後、得られた固体を水で洗浄し乾燥させることにより、式（１−ｃｍ−８８ｆ）で表される化合物５．５ｇを得た。
【0261】
窒素雰囲気下、反応容器に式（１−ｃｍ−８８ｆ）で表される化合物５．５ｇ、式（１−ｃｍ−８８ｇ）で表される化合物６．９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．８ｇ、ジクロロメタン２００ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド４．１ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。再結晶（ジクロロメタン／メタノール）を行った後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（１−ｃｍ−８８ｈ）で表される化合物８．４ｇを得た。以下、実施例１と同様の方法によって式（１−ｃｍ−８８）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ ９０−１１０ Ｎ １８２−１８７ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．０７（ｑ，２Ｈ），１．２４（ｑ，２Ｈ），１．４７−１．９０（ｍ，２４Ｈ），２．０９（ｍ，４Ｈ），２．２２（ｄ，２Ｈ），２．３９（ｔ，１Ｈ），２．５３（ｔ，１Ｈ），３．７４（ｄ，２Ｈ），３．８５（ｄ，２Ｈ），３．９４（ｔｄ，４Ｈ），４．１７（ｔｄ，４Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８０−６．９９（ｍ，６Ｈ），６．９８（ｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５５（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｄ，１Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例８９）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍ−８９）で表される化合物を製造した。
【0262】
【化118】
【0263】
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ １５５ Ｎ ＞２２０ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．１２（ｑ，２Ｈ），１．２６（ｑ，２Ｈ），１．５０（ｑ，２Ｈ），１．６７（ｑｄ，２Ｈ），１．９１−２．２７（ｍ，１４Ｈ），２．４３（ｔ，１Ｈ），２．５６（ｔｔ，２Ｈ），３．７７（ｄ，２Ｈ），３．８８（ｄ，２Ｈ），４．０９（ｔ，４Ｈ），４．４０（ｔ，４Ｈ），５．８８（ｄ，２Ｈ），６．１７（ｄｄｄ，２Ｈ），６．４５（ｄ，２Ｈ），６．８５（ｄ，１Ｈ），６．９２（ｍ，５Ｈ），７．０２（ｄ，４Ｈ），７．１９（ｔ，１Ｈ），７．３７（ｔ，１Ｈ），７．５９（ｍ，２Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），８．４４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例９０）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−９０）で表される化合物を製造した。
【0264】
【化119】
【0265】
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ７７ Ｓ ９０ Ｎ １０９ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ０．８９（ｔ，３Ｈ），１．２０−１．３５（ｍ，１０Ｈ），１．６１−１．６９（ｍ，６Ｈ），１．７８（ｍ，２Ｈ），１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｔ，４Ｈ），２．２３（ｄ，４Ｈ），２，５０（ｍ，２Ｈ），３．６９−３．７６（ｍ，１２Ｈ），３．８３−３．８７（ｍ，８Ｈ），４．１１（ｔ，４Ｈ），４．３２（ｔ，６Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１５（ｑ，２Ｈ），６．４２（ｄ，２Ｈ），６．８３−６．９８（ｍ，１０Ｈ），７．１３（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｔ，１Ｈ），７．６６（ｔ，２Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例９１）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−９１）で表される化合物を製造した。
【0266】
【化120】
【0267】
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ８５ Ｎ １２８ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．２２−１．２８（ｍ，４Ｈ），１．４４−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．６０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｔ，４Ｈ），２．２４（ｄ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．８５−３．８９（ｍ，６Ｈ），３．９３（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｑ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８３−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｔ，１Ｈ），７．６７（ｔ，２Ｈ），８．３３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例９２）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−９２）で表される化合物を製造した。
【0268】
【化121】
【0269】
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ８９−９５ Ｎ １４５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．６５（ｍ，４Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．２５（ｍ，１２Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｍ，２Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，６Ｈ），４．０５（ｔ，４Ｈ），４．３６（ｔ，４Ｈ），４．５４（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．８９（ｍ，６Ｈ），６．９７−７．００（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｄ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，２Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例９３）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−９３）で表される化合物を製造した。
【0270】
【化122】
【0271】
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ １２２ Ｎ １４２ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．４８（ｍ，８Ｈ），１．６０−１．８３（ｍ，１２Ｈ），１．９３（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｔ，４Ｈ），２．２３（ｍ，４Ｈ），２．５４（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｄｄ，４Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），４．６５（ｔ，２Ｈ），５．７８（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．０８（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．３９（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ），６．８８（ｍ，６Ｈ），６．９７（ｄｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．５４（ｄ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１１５６［Ｍ＋１］
（実施例９４）
実施例８８と同様の方法によって式（１−ｃｍｎ−９４）で表される化合物を製造した。
【0272】
【化123】
【0273】
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ ７１ Ｎ １１５ Ｉ
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ １．１９−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．４１−１．８２（ｍ，２２Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，３Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．９０（ｍ，５Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５−４．１９（ｍ，６Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．７６（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．０８（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．３７（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２４４［Ｍ＋１］
（実施例９５）
同様の方法によって式（１−ｆ−９５）で表される化合物を製造した。
【0274】
【化124】
【0275】
転移温度：Ｃ ９９ Ｎ ＞２２０ Ｉ
ＬＣＭＳ：１０９８［Ｍ＋１］
（実施例９６）
同様の方法によって式（１−ｆ−９６）で表される化合物を製造した。
【0276】
【化125】
【0277】
転移温度：Ｃ １２５ Ｎ
ＬＣＭＳ：８４６［Ｍ＋１］
同様の方法によって下記の式（１−ｆ−９７）から式（１−ｃｍｎ−１０８）
【0278】
【化126】
【0279】
【化127】
【0280】
【化128】
【0281】
で表される化合物を製造した。
＜光学フィルムの作製＞
上記のように合成した実施例１の重合性化合物（１−ｃ−１）を１９．３２重量％、重合開始剤であるイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）を０．６０重量％、重合禁止剤であるｐ−メトキシフェノール（ＭＥＨＱ）を０．０４重量％、界面活性剤であるＢＹＫ−３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）を０．０４重量％、溶剤であるクロロホルムを８０．００重量％の配合で含む塗布液を調製した。
＜溶解性の評価方法＞
上記のように調整した塗布液を、重合性化合物の溶解の様子を用いて５段階で評価した。
Ａ：クロロホルムに室温で溶解した。
Ｂ：クロロホルムを加えて５０℃に加熱したところ、溶解し、室温に戻しても析出物は見られなかった。
Ｃ：クロロホルムを加えて５０℃に加熱したところ、溶解し、室温に戻したところ若干の析出物が見られた。
Ｄ：クロロホルムを加えて５０℃に加熱したところ、８割から３割程度溶解した。
Ｅ：クロロホルムを加えて５０℃に加熱したが、溶解したのは３割以下であった。
＜保存安定性の評価方法＞
上記のように調整した塗布液の保存安定性について、０℃、遮光条件下で２ヶ月間保存したときの塗布液の状態を用いて５段階で評価した。
Ａ：目視で塗布液の外観に変化はない。また、塗布液をＧＰＣで分析すると、組成割合の変化は１％以下である。
Ｂ：目視で塗布液の外観に変化は無い。また、塗布液をＧＰＣで分析すると、組成割合の変化は２％以下である。
Ｃ：目視で、塗布液の外観に変化があり、わずかに不溶物が見られる。あるいは、塗布液をＧＰＣで分析すると、組成割合の変化は３％以下である。
Ｄ：目視で、塗布液の外観に変化があり、不溶物が見られるが、その重量比は全固形分に対し５％以下である。
Ｅ：目視で、多くの不溶物が見られ、その重量比は全固形分に対し５％以上である。
【0282】
次に、ラビング処理が施されたポリイミド付のガラス基板上に、前記塗布液をスピンコート法により塗布した。ホットプレート上において８０℃で１分間乾燥した後、さらに１４０℃で１分乾燥し、１４０℃で１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、膜厚が１．０２μｍの光学フィルム（光学異方体）を作製した。
＜光学特性の評価方法＞
４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において、作製した光学フィルムの位相差値を、測定機（ＲＥＴ−１００ 大塚電子社製）を用いて測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）、波長６５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（６５０）を算出した。その結果から、光学フィルムの光学特性について４段階で評価した。
Ａ：Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦０．８５
Ｂ：０．８５＜ Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦０．９５
Ｃ：０．９５＜ Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０） ≦１．０５
Ｄ：１．０５＜ Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）
＜配向性の評価方法＞
光学フィルムの配向性は、外観目視、及び、偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
＜光学安定性の評価方法＞
作製した光学フィルムに対し、キセノンランプ照射テスト機（サンテストＸＬＳ、アトラス社）を用いて５０ｍＷ／ｃｍ２、２５℃で１００Ｊの光照射を行い、光学安定性について５段階で評価した。
Ａ：目視で膜の変化が全くなく、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では膜の変化が全くないが、偏光顕微鏡観察では配向異常が若干発生している
Ｃ：目視では膜がわずかに黄変しており、偏光顕微鏡観察での配向異常発生はＢと同レベル
Ｄ：目視では膜が黄変し、部分的に剥がれている
Ｅ：目視では膜全体が黄変し剥がれている
実施例１の重合性化合物（１−ｃ−１）と同様にして、実施例２〜９６にて合成した化合物を用いて塗布液を調製し、光学フィルムを作製して溶解性・保存安定性・光学特性・配向性・光学安定性を評価した。結果を以下の表に示す。
【0283】
【表1】
【0284】
【表2】
【0285】
【表3】
【0286】
【表4】
【0287】
【表5】
【0288】
【表6】
【0289】
【表7】
【0290】
【表8】
【0291】
（比較例１）
特開２０１０−０３１２２３及び特開２００８−２８２００９の記載を参照し、以下の比較例１〜３の化合物を合成した。
【0292】
【化129】
【0293】
比較例１〜３にて合成した化合物を用いて塗布液を調製し、光学フィルムを作製して溶解性・保存安定性・光学特性・配向性・光学安定性を評価した。結果を以下の表に示す。
【0294】
【表9】
【0295】
以上で示したように、実施例９７〜１９２において、本発明の重合性化合物は、比較例１〜３の重合性化合物よりも溶解性・保存安定性・光学特性・配向性・光学安定性が向上している。よって、実施例９７〜１９２の通り、本発明の重合性化合物を使用することによって優れた特性を有する光学異方体を製造できることが明らかである。
【0296】
また、実施例１−ｊ−５４〜実施例１−ｊ−６５（実施例１５０〜実施例１６１）においては、Ｓｐに結合する連結基として特定の連結基を有するため、溶媒への溶解性が向上している。
【0297】
実施例１−ｃ−１７〜実施例１−ｆ−２２（実施例１１３〜実施例１１８）においては、二価の脂環式炭化水素基を有するため、溶媒への溶解性が向上し、その重合体の逆分散性が向上している。
【0298】
実施例１−ｅ−６９〜実施例１−ｅｈ−７５（実施例１６５〜実施例１７１）においては、ｍ及びｎのいずれか一方が０であることから、溶剤溶解性及び保存安定性が向上している。
【0299】
実施例１−ｅｈ−７１〜実施例１−ｅｈ−７２、及び実施例１−ｅｈ−７４〜実施例１−ｅｈ−７５（実施例１６７、実施例１６８、実施例１７０、実施例１７１）においては、Ｕ基から、一方方向に２個以上の二価の芳香族炭化水素基を有することから、液晶性及び配向性が向上している。
【0300】
実施例１−ｇ−３５〜実施例１−ｇ−３８（実施例１３１〜実施例１３４）においては、Ｓｐ１及びＳｐ２のいずれも単結合であるため、当該重合性化合物を用いた組成物を重合して得られる重合体は、光学安定性が高い物が得られている。
【0301】
実施例１−ｃｍｎ−８１、実施例１−ｃｍｎ−８２、実施例１−ｃｍｎ−９０〜実施例１−ｃｍｎ−９４、実施例１−ｃｍｎ−１０５〜実施例１−ｃｍｎ−１０８（実施例１７７、実施例１７８、実施例１８６〜実施例１９０、実施例２０２〜実施例２０４）においては、光学特性、保存安定性、光学安定性の高いものが得られている。
【0302】
実施例１−ｈｋ−８４、実施例１−ｈｋ−８５、実施例１−ｈｋ−８６、実施例１−ｋ−８７（実施例１８０〜実施例１８３）においては、配向性、保存安定性の高いものが得られている。
【0303】
実施例１−ｆ−１７〜実施例１−ｆ−２２、実施例１−ｆ−９５〜実施例１−ｆ−１０３（実施例１１３〜実施例１１８、実施例１９１〜実施例１９９）においては光学特性の高いものが得られている。
【0304】
以上で説明した各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。また、本発明は各実施形態によって限定されることはなく、請求項（クレーム）の範囲によってのみ限定される。
【産業上の利用可能性】
【0305】
本発明に係る重合性化合物は、液晶表示素子、有機ＥＬ素子の分野に広く適用可能である。また、本発明に係る重合性化合物を用いることにより、樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品に広く適用可能である。
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