(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
ウェーハを保持面で保持するチャックテーブルと、ウェーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線を該チャックテーブルに保持されたウェーハに照射してウェーハの内部に改質層を形成するレーザー光線照射手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを相対的に移動させる移動手段と、を備え、
該チャックテーブルは、該保持面を構成する支持プレートを備え、
該支持プレートは、ウェーハを通って該支持プレート側へと抜ける該レーザー光線の抜け光を検出する抜け光検出手段を含み、
該抜け光検出手段は、該保持面を構成し、該抜け光を受光した領域が発光又は発熱するシート状部材を備え、
該チャックテーブルには、該シート状部材を該保持面と反対の面側から撮像する撮像手段が配置されていることを特徴とするレーザー加工装置。
【発明を実施するための形態】
【0012】
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態に係るレーザー加工装置の構成例を模式的に示す斜視図である。
図1に示すように、レーザー加工装置2は、各構成を支持する基台4を備えている。基台4は、直方体状の基部6と、基部6の後端に立設された壁部8とを含む。
【0013】
基部6の上面には、ウェーハ11を保持するチャックテーブル10が配置されている。ウェーハ11は、例えば、シリコン等の材料でなる円形の板状物であり、その表面(
図1では下面)は、中央のデバイス領域と、デバイス領域を囲む外周余剰領域とに分けられる。
【0014】
デバイス領域は、格子状に配列されたストリート(分割予定ライン)でさらに複数の領域に区画されており、各領域にはIC等のデバイスが形成されている。ウェーハ11の表面側には、デバイス等を保護する保護テープ13が貼着されており、保護テープ13の外周部分は、環状のフレーム15に固定されている。つまり、ウェーハ11は保護テープ13を介してフレーム15に支持されている。
【0015】
チャックテーブル10の上方には、上述したウェーハ11に向けてレーザー光線を照射するレーザー加工ヘッド(レーザー光線照射手段)12が設けられている。また、レーザー加工ヘッド12と隣接する位置には、ウェーハ11を撮像するカメラ14が設置されている。
【0016】
チャックテーブル10の下方には、チャックテーブル10をY軸方向(割り出し送り方向)に移動させるY軸移動機構(割り出し送り機構、移動手段)16が設けられている。Y軸移動機構16は、基部6の上面に固定されY軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール18を備える。Y軸ガイドレール18には、Y軸移動テーブル20がスライド可能に設置されている。
【0017】
Y軸移動テーブル20の裏面側(下面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Y軸ガイドレール18と平行なY軸ボールネジ22が螺合されている。Y軸ボールネジ22の一端部には、Y軸パルスモータ24が連結されている。Y軸パルスモータ24でY軸ボールネジ22を回転させれば、Y軸移動テーブル20は、Y軸ガイドレール18に沿ってY軸方向に移動する。
【0018】
Y軸移動テーブル20の表面側(上面側)には、チャックテーブル10をY軸方向と直交するX軸方向(加工送り方向)に移動させるX軸移動機構(加工送り機構、移動手段)26が設けられている。X軸移動機構26は、Y軸移動テーブル20の上面に固定されX軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール28を備える。X軸ガイドレール28には、X軸移動テーブル30がスライド可能に設置されている。
【0019】
X軸移動テーブル30の裏面側(下面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレール28と平行なX軸ボールネジ32が螺合されている。X軸ボールネジ32の一端部には、X軸パルスモータ34が連結されている。X軸パルスモータ34でX軸ボールネジ32を回転させれば、X軸移動テーブル30は、X軸ガイドレール28に沿ってX軸方向に移動する。
【0020】
X軸移動テーブル30の表面側(上面側)には、支持台36が設けられている。支持台36の上部には、チャックテーブル10が配置されている。チャックテーブル10は、支持台36の下方に設けられた回転機構(不図示)と連結されており、Z軸の周りに回転する。
【0021】
チャックテーブル10の表面は、ウェーハ11を保持する保持面10aとなっている。また、チャックテーブル10の周囲には、ウェーハ11を支持する環状のフレーム15を四方から挟持固定する4個のクランプ38が設けられている。
【0022】
壁部8の上部前面には、前方に向かって伸びる支持アーム40が設けられており、この支持アーム40の先端部には、レーザー加工ヘッド12及びカメラ14が配置されている。レーザー加工ヘッド12は、ウェーハ11に吸収され難い波長(ウェーハ11に対して透過性を有する波長)のレーザー光線を発振するレーザー発振器(不図示)と、発振されたレーザー光線を集光させる集光器(不図示)とを備えている。
【0023】
このレーザー加工ヘッド12は、チャックテーブル10に保持されたウェーハ11の内部で集光するようにレーザー光線を照射して、多光子吸収により改質された改質層を形成する。カメラ14は、赤外線カメラであり、ウェーハ11を上方から撮像してデバイスを検出する。撮像によって得られる画像は、ウェーハ11とレーザー加工ヘッド12との位置合わせ等に用いられる。
【0024】
図2は、チャックテーブル10等の構造を模式的に示す斜視図であり、
図3は、チャックテーブル10等の構造を模式的に示す一部断面側面図である。
図2及び
図3に示すように、チャックテーブル10は、円盤状の枠体42と、枠体42の上面中央部に配置された支持プレート44とを含む。支持プレート44は、ウェーハ11と同等以上の径に形成されている。
【0025】
枠体42の上面外周部には、ウェーハ11の表面側に貼着された保護テープ13を吸引するリング状の吸引溝42aが形成されている。この吸引溝42aは、枠体42の内部に形成された吸引路42bや、エアの流れを調整するバルブ46等を通じて吸引源48に接続されている。
【0026】
図3に示すように、ウェーハ11を支持プレート44上に載置して、フレーム15をクランプ38で挟持固定した後に、ウェーハ11とフレーム15との間の保護テープ13に吸引源48の負圧を作用させることで、ウェーハ11をチャックテーブル10で保持できる。
【0027】
枠体42の中央には、凹部42cが形成されている。支持プレート44は、この凹部42cの上端を塞ぐように配置されている。支持プレート44は、例えば、ガラス等の材料でなる透明な支持板50と、支持板50上に配置されたシート状部材(抜け光検出手段)52とで構成されている。シート状部材52の上面は、ウェーハ11を保持する保持面10aとなっている。
【0028】
シート状部材52は、レーザー加工ヘッド12から照射され、ウェーハ11を通り抜けたレーザー光線L1の抜け光を吸収して発光する発光層52aを含む。この発光層52aは、例えば、蛍光材料等で構成されている。発光層52aの上面には、発光層52aを抜け光やその他外力から保護する保護層52bが設けられている。なお、この保護層52bは省略されても良い。
【0029】
支持プレート44の下方には、シート状部材52の全体を下方側(保持面10aと反対の面側)から撮像する下部カメラ(撮像手段)54が配置されている。この下部カメラ54は、発光層52aの発光(発光の波長)を検出できるように構成されており、制御装置56と接続されている。制御装置56は、下部カメラ54で撮像された撮像画像に基づいて、抜け光で発光した領域の座標を検出する。
【0030】
次に、本実施形態のレーザー加工装置2で抜け光が検出される様子を説明する。
図4は、抜け光が検出される様子を説明するための模式図である。
図4に示すように、チャックテーブル10に保持されたウェーハ11の裏面11b側からレーザー光線L1を照射すると、レーザー光線L1の集光点Pの近傍の領域は多光子吸収で改質される。
【0031】
よって、Y軸移動機構16及びX軸移動機構26でチャックテーブル10及びレーザー加工ヘッド12を相対的に移動しながらレーザー光線L1を照射すれば、ウェーハ11の内部に線状の改質層17を形成できる。このとき、例えば、改質層17で反射、散乱されたレーザー光線L1の一部が抜け光L2となり、表面11a側のデバイスに照射される可能性がある。
【0032】
本実施形態のレーザー加工装置2では、このような抜け光L2の位置を特定できる。
図4に示すように、抜け光L2が発光層52aの領域Aに入射すると、領域Aは抜け光L2を吸収して発光する。上述のように、下部カメラ54は、発光層52aの発光の波長を検出できるように構成されているので、下部カメラ54でシート状部材52の全体を撮像すれば、制御装置56で抜け光L2の位置(領域A)を特定できる。
【0033】
以上のように、本実施形態に係るレーザー加工装置2では、レーザー光線L1の抜け光L2を検出するシート状部材(抜け光検出手段)52を含むようにチャックテーブル10を構成したので、加工の際にウェーハ11を通り抜ける抜け光L2を適切に検出できる。これにより、ウェーハ11のデバイスへのダメージ対策が容易になる。
【0034】
なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、レーザー光線L1の抜け光L2を吸収して発光する発光層52aを含むシート状部材(抜け光検出手段)52を用いているが、本発明のシート状部材はこれに限定されない。
【0035】
例えば、レーザー光線L1の抜け光L2を吸収して発熱する発熱層を含むシート状部材(抜け光検出手段)を用いても良い。この場合には、下部カメラ(撮像手段)として、赤外線を検出できるサーモグラフィ(赤外線カメラ)を用いる。
【0036】
また、上記実施形態では、シート状部材52の全体を撮像できる下部カメラ(撮像手段)54を用いているが、シート状部材52の任意の領域(一部)を撮像するカメラ(撮像手段)を用いても良い。また、チャックテーブル10に配置されるカメラ(撮像手段)は、一台でも良いし複数でも良い。
【0037】
また、上記実施形態のレーザー加工装置2では、シート状部材(抜け光検出手段)52と下部カメラ(撮像手段)54とを用いて抜け光L2を検出しているが、本発明のレーザー加工装置はこれに限定されない。
図5は、変形例に係るレーザー加工装置のチャックテーブル等の構造を模式的に示す斜視図であり、
図6は、変形例に係るレーザー加工装置のチャックテーブル等の構造を模式的に示す一部断面側面図である。なお、変形例に係るレーザー加工装置のチャックテーブル以外の構造は、上記実施形態のレーザー加工装置2と同じで良い。
【0038】
図5及び
図6に示すように、変形例に係るチャックテーブル60は、円盤状の枠体62と、枠体62の上面中央部に配置された支持プレート64とを含む。支持プレート64は、ウェーハ11と同等以上の径に形成されている。
【0039】
枠体62の上面外周部には、ウェーハ11に貼着された保護テープ13を吸引するリング状の吸引溝62aが形成されている。この吸引溝62aは、枠体62の内部に形成された吸引路62bや、エアの流れを調整するバルブ66等を通じて吸引源68に接続されている。
【0040】
図6に示すように、ウェーハ11を支持プレート64上に載置して、フレーム15をクランプ38で挟持固定した後に、ウェーハ11とフレーム15との間の保護テープ13に吸引源68の負圧を作用させることで、ウェーハ11をチャックテーブル60で保持できる。
【0041】
枠体62の中央には、凹部62cが形成されている。支持プレート64は、この凹部62cに嵌合するように配置されている。支持プレート64は、例えば、任意の材料でなる支持板70と、支持板70に敷設された複数の受光素子(抜け光検出手段)72と、受光素子72を保護する保護部材74とで構成されている。
【0042】
保護部材74の上面は、ウェーハ11を保持する保持面60aとなっている。なお、この保護部材74は省略されても良い。その場合、受光素子72の表面(上面)がウェーハ11を保持する保持面となる。
【0043】
各受光素子72は、基材72aと受光部72bとを含み、レーザー光線L1の抜け光L2が入射する位置を検出できる。また、各受光素子72は、制御装置76と接続されている。制御装置76は、抜け光L2を受光した受光素子72の全体の中での位置、及び当該受光素子72内で抜け光L2が入射した位置に基づいて、抜け光L2が入射した領域Aの座標を検出する。
【0044】
次に、変形例に係るレーザー加工装置で抜け光L2が検出される様子を説明する。
図7は、変形例に係るレーザー加工装置において抜け光L2が検出される様子を説明するための模式図である。
【0045】
図7に示すように、抜け光L2が受光部72bの領域Aに入射すると、受光部72bは領域Aでの受光を検出する。各受光素子72の配列は既知なので、制御装置56は、抜け光を受光した受光素子72の位置、及び当該受光素子72中で抜け光L2が入射した位置に基づいて、全体の中での領域Aの位置を特定できる。
【0046】
このように、変形例に係るレーザー加工装置では、レーザー光線L1の抜け光L2を検出する複数の受光素子(抜け光検出手段)72を含むようにチャックテーブル60を構成したので、加工の際にウェーハ11を通り抜ける抜け光L2を適切に検出できる。これにより、ウェーハ11のデバイスへのダメージ対策が容易になる。
【0047】
その他、上記実施形態に係る構成、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。