特許第6395593号(P6395593)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6395593
(24)【登録日】2018年9月7日
(45)【発行日】2018年9月26日
(54)【発明の名称】チャックテーブル
(51)【国際特許分類】
   B23Q 3/08 20060101AFI20180913BHJP
   H01L 21/301 20060101ALI20180913BHJP
   B24B 41/06 20120101ALI20180913BHJP
   H01L 21/683 20060101ALI20180913BHJP
【FI】
   B23Q3/08 A
   H01L21/78 N
   B24B41/06 Z
   H01L21/68 P
【請求項の数】3
【全頁数】9
(21)【出願番号】特願2014-258306(P2014-258306)
(22)【出願日】2014年12月22日
(65)【公開番号】特開2016-117129(P2016-117129A)
(43)【公開日】2016年6月30日
【審査請求日】2017年10月26日
(73)【特許権者】
【識別番号】000134051
【氏名又は名称】株式会社ディスコ
(74)【代理人】
【識別番号】100075384
【弁理士】
【氏名又は名称】松本 昂
(74)【代理人】
【識別番号】100172281
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 知広
(72)【発明者】
【氏名】松田 智人
(72)【発明者】
【氏名】生島 充
(72)【発明者】
【氏名】根賀 亮平
【審査官】 宮部 菜苗
(56)【参考文献】
【文献】 特開2013−212472(JP,A)
【文献】 特開平11−104958(JP,A)
【文献】 特開2000−5060(JP,A)
【文献】 米国特許第5294257(US,A)
【文献】 国際公開第95/07798(WO,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B23Q 3/08
B24B 41/06
B25B 11/00
H01L 21/301
H01L 21/683
F16J 15/06−15/12
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
板状の被加工物を加工する加工装置に配設され被加工物を保持するチャックテーブルであって、
被加工物を保持する保持面となる上面を有する吸引板と、該吸引板を囲繞し上面が該保持面と面一に形成された枠体と、を含む保持部と、
該保持部を支持する基台と、
吸引源に接続し該保持面に吸引源の吸引力を伝える吸引経路と、を備え、
該枠体の外周縁部には、該枠体の上面側及び外周面側を全周において切り欠いた段差部が形成され、
該吸引板の上面と該枠体の上面とでなる該保持部の上面は、被加工物の被保持面よりも小さく形成され、
該段差部には、該段差部の全周に対応したシール部材が、該枠体の上面よりも下方に上端を位置付けた状態で配設され、
被加工物の外周縁が該枠体の外周縁部よりも外側に位置付けられ該保持部の上面全体が被加工物によって覆われた状態で被加工物を吸引保持する際に、被加工物の被保持面と該枠体の上面との間でリークが生じると、該リークが生じた領域に作用する吸引力によって該シール部材が吸引されて上方に移動し、該領域を塞ぐことを特徴とするチャックテーブル。
【請求項2】
該シール部材は、アスカーC型の硬度計により測定される硬度の値が15以下であることを特徴とする請求項1に記載のチャックテーブル。
【請求項3】
該シール部材の上端は、該リークが生じていない状態で該保持部の上面から1mm〜3mm下方に位置付けられることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のチャックテーブル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、板状の被加工物を保持するチャックテーブルに関する。
【背景技術】
【0002】
表面にIC等のデバイスが形成された半導体ウェーハは、切削装置やレーザー加工装置、研削装置、旋削装置等の加工装置で加工され、最終的に複数のデバイスチップへと分割される。これらの加工装置は、半導体ウェーハ等の被加工物を加工する加工ユニットと、加工の際に被加工物を保持するチャックテーブルとを備えている。
【0003】
上述のチャックテーブルとしては、多孔質材料でなる多孔質プレートに負圧を作用させ、多孔質プレートの表面に発生する吸引力で被加工物を吸引保持するタイプのもの(例えば、特許文献1参照)や、支持プレートの表面側に設けた溝に負圧を作用させ、支持プレートの表面で被加工物を吸引保持するタイプのもの(例えば、特許文献2参照)等が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2004−14939号公報
【特許文献2】特開2005−66798号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年では、デバイスチップの生産性を高めるために、上述した被加工物の大型化が進められている。一方、被加工物を大型化すると、自重等で被加工物が変形する可能性も高くなる。被加工物が変形すると、例えば、チャックテーブルと被加工物との間に隙間ができて負圧がリークし、十分な吸引力を得られなくなる。加工によって発生する屑(加工屑)等がチャックテーブルとワークとの間に残った場合も同様である。
【0006】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、チャックテーブルと被加工物との間に隙間ができた場合でも被加工物を適切に吸引保持できるチャックテーブルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明によれば、板状の被加工物を加工する加工装置に配設され被加工物を保持するチャックテーブルであって、被加工物を保持する保持面となる上面を有する吸引板と、該吸引板を囲繞し上面が該保持面と面一に形成された枠体と、を含む保持部と、該保持部を支持する基台と、吸引源に接続し該保持面に吸引源の吸引力を伝える吸引経路と、を備え、該枠体の外周縁部には、該枠体の上面側及び外周面側を全周において切り欠いた段差部が形成され、該吸引板の上面と該枠体の上面とでなる該保持部の上面は、被加工物の被保持面よりも小さく形成され、該段差部には、該段差部の全周に対応したシール部材が、該枠体の上面よりも下方に上端を位置付けた状態で配設され、被加工物の外周縁が該枠体の外周縁部よりも外側に位置付けられ該保持部の上面全体が被加工物によって覆われた状態で被加工物を吸引保持する際に、被加工物の被保持面と該枠体の上面との間でリークが生じると、該リークが生じた領域に作用する吸引力によって該シール部材が吸引されて上方に移動し、該領域を塞ぐことを特徴とするチャックテーブルが提供される。
【0008】
本発明において、該シール部材は、アスカーC型の硬度計により測定される硬度の値が15以下であることが好ましい。
【0009】
また、本発明において、該シール部材の上端は、該リークが生じていない状態で該保持部の上面から1mm〜3mm下方に位置付けられることが好ましい。
【発明の効果】
【0010】
本発明に係るチャックテーブルでは、枠体の外周縁部に形成された段差部にシール部材が配設されているので、被加工物の被保持面と枠体の上面との間でリークが生じると、リークが生じた領域に作用する吸引力によってシール部材が吸引されて移動し、当該領域は塞がれる。よって、本発明によれば、チャックテーブルと被加工物との間に隙間ができた場合でも被加工物を適切に吸引保持できる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
図1】チャックテーブルを含む旋削装置を模式的に示す斜視図である。
図2図2(A)は、チャックテーブルを模式的に示す分解斜視図であり、図2(B)は、チャックテーブルの断面等を模式的に示す図である。
図3図3(A)及び図3(B)は、被加工物が吸引保持される様子を模式的に示す断面図である。
図4】変形例に係るチャックテーブルを模式的に示す分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。はじめに、本実施形態に係るチャックテーブルを含む加工装置の全体像を説明する。図1は、本実施形態に係るチャックテーブルを含む旋削装置を模式的に示す図である。なお、本実施形態では、板状の被加工物を旋削する旋削装置について説明するが、本発明に係るチャックテーブルは、切削装置、研削装置、レーザー加工装置等の他の加工装置に設置されても良い。
【0013】
図1に示すように、本実施形態の旋削装置(加工装置)2は、各構造が搭載される直方体状の基台4を備えている。基台4の後端部には、支持柱6が立設されている。基台4の上面において支持柱6より前方の位置には、X軸方向(前後方向)に長い矩形状の開口4aが形成されている。
【0014】
この開口4a内には、X軸移動テーブル8、X軸移動テーブル8をX軸方向に移動させるX軸移動機構(不図示)、及びX軸移動機構を覆う防塵防滴カバー10が配置されている。
【0015】
X軸移動機構は、X軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール(不図示)を備えており、X軸ガイドレールには、X軸移動テーブル8がスライド可能に設置されている。X軸移動テーブル8の下面側には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレールと平行なX軸ボールネジ(不図示)が螺合されている。
【0016】
X軸ボールネジの一端部には、X軸パルスモータ(不図示)が連結されている。X軸パルスモータでX軸ボールネジを回転させることにより、X軸移動テーブル8はX軸ガイドレールに沿ってX軸方向に移動する。
【0017】
X軸移動テーブル8上には、平面視で矩形状に形成された半導体ウェーハ等の被加工物11(図3(A)等参照)を吸引保持するチャックテーブル12が設けられている。このチャックテーブル12は、上述したX軸移動機構によって、X軸移動テーブル8と共にX軸方向に移動する。チャックテーブル12の詳細については後述する。
【0018】
支持柱6の前面には、Z軸移動機構14が設けられている。Z軸移動機構14は、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール16を備えており、このZ軸ガイドレール16には、Z軸移動プレート18がスライド可能に設置されている。
【0019】
Z軸移動プレート18の後面側(裏面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール16と平行なZ軸ボールネジ20が螺合されている。Z軸ボールネジ20の一端部には、Z軸パルスモータ22が連結されている。Z軸パルスモータ22でZ軸ボールネジ20を回転させることにより、Z軸移動プレート18はZ軸ガイドレール16に沿ってZ軸方向に移動する。
【0020】
Z軸移動プレート18の前面(表面)には、被加工物11を旋削(旋回切削)する旋削ユニット24が配置されている。旋削ユニット24は、Z軸移動プレート18に固定されたスピンドルハウジング26を含む。スピンドルハウジング26には、回転軸となるスピンドル28が回転可能に支持されている。
【0021】
スピンドル28の下端部(先端部)には、円盤状のホイールマウント30が設けられている。ホイールマウント30の下面には、ホイールマウント30と略同径に構成された円盤状の旋削ホイール32が固定されている。旋削ホイール32の下部には、旋削用のバイト34が設けられている。
【0022】
スピンドル28の上端側(基端側)には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。旋削ホイール32は、この回転駆動源から伝達される回転力によって、Z軸方向と平行な回転軸の周りに回転する。チャックテーブル12をX軸方向に移動させつつ、回転させた旋削ホイール32を所定の高さに位置付け、バイト34を被加工物11に接触させることで被加工物11を旋削できる。
【0023】
図2(A)は、チャックテーブル12を模式的に示す分解斜視図であり、図2(B)は、チャックテーブル12の断面等を模式的に示す図である。図2(A)及び図2(B)に示すように、チャックテーブル12は、平面視で略矩形状に形成された基台40を備えている。
【0024】
基台40の上部には、被加工物11を保持する保持台(保持部)42が配置されている。保持台42は、基台40の上端に固定された枠体44を含む。枠体44の上面44aの中央部には、矩形状の開口部44bが形成されており、この開口部44bには、開口部44bの形状に合致する吸引板46が嵌合している。すなわち、枠体44は、吸引板46の外周縁を囲むように吸引板46を保持している。
【0025】
吸引板46は、例えば、多孔質材料によって形成されており、その上面は、被加工物11を吸引保持する保持面46aとなる。開口部44bは、枠体44や基台40等の内部に形成された吸引経路48等を通じて吸引源50に接続されている。吸引源50の負圧を吸引板46に作用させることで、保持面46aには、被加工物11を吸引するための吸引力が発生する。なお、保持面46aは枠体44の上面44aと面一に形成されている。
【0026】
上面44a及び保持面46aによって構成される保持台42の上面は、被加工物11の被保持面11a(図3(A)等参照)よりも小さくなっている。被加工物11は、外周縁11b(図3(A)等参照)を枠体44の外周縁部よりも外側に位置付けた状態で保持台42に載置される。すなわち、被加工物11によって保持台42の上面全体が覆われる。
【0027】
枠体44の外周縁部には、枠体44の上面44a側及び外周面44c側を全周において切り欠くように段差部44dが形成されている。この段差部44dには、段差部44dの全周に対応したシール部材52が配置されている。具体的には、段差部44dの輪郭に相当する形状のシール部材52が配置される。ただし、シール部材52は、少なくとも段差部44dの全周に配置されれば良く、シール部材の形状は、必ずしも段差部44dの輪郭の形状に対応していなくて良い。
【0028】
また、シール部材52は、枠体44の上面44aから測定される段差部44dの深さよりも薄く形成されている。そのため、シール部材52を段差部44dに配置すると、シール部材52の上端は枠体44の上面44aよりも下方に位置付けられる。例えば、シール部材52の上端が枠体44の上面44a(保持部の上面)から1mm〜3mm下方に位置付けられるようにシール部材52を形成すると良い。
【0029】
これにより、枠体44の上面44aと被加工物11の被保持面11aとの間に隙間ができて負圧がリークすると、リークに伴う吸引力がシール部材52に作用する。この吸引力によりシール部材52は上方に移動し、リークが発生した領域はシール部材52で塞がれる。なお、シール部材52は、アスカー(ASKER)C型の硬度計により測定される硬度の値が15以下、好ましくは2〜6程度の弾性材料を用いて形成される。
【0030】
次に、本実施形態のチャックテーブル12によって被加工物11が吸引保持される様子を説明する。図3(A)及び図3(B)は、被加工物11が吸引保持される様子を模式的に示す断面図である。
【0031】
まず、保持台42の上面と被加工物11の被保持面11aとが対面するように、被加工物11を保持台42の上面に載置する。このとき、被加工物11の外周縁11bを枠体44の外周縁部よりも外側に位置付ける。これにより、保持台42の上面全体が被加工物11によって覆われる。
【0032】
次に、吸引源50の負圧を吸引板46に作用させて、保持面46aに吸引力を発生させる。図3(A)に示すように、被加工物11の変形等の理由で、枠体44の上面44aと被加工物11の被保持面11aとの間に隙間Gができると、吸引源50の負圧は隙間Gからリークする。
【0033】
そのため、シール部材52は、隙間Gに作用する吸引力で吸引され、図3(B)に示すように上方に移動する。その結果、隙間Gはシール部材52で塞がれ、被加工物11の被保持面11aに適切な吸引力が作用する。
【0034】
以上のように、本実施形態に係るチャックテーブル12では、枠体44の外周縁部に形成された段差部44dにシール部材52が配設されているので、被加工物11の被保持面11aと枠体44の上面44aとの間でリークが生じると、リークが生じた領域に作用する吸引力によってシール部材52が吸引され移動し、当該領域は塞がれる。よって、本実施形態のチャックテーブル12によれば、チャックテーブル12と被加工物11との間に隙間Gができた場合でも、被加工物11を適切に吸引保持できる。
【0035】
なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、多孔質材料によって形成された吸引板46を備えるチャックテーブル12について説明しているが、本発明のチャックテーブルは、負圧の作用する溝が形成された吸引板を備えても良い。
【0036】
また、上記実施形態では、平面視で矩形状に形成された板状の被加工物11を吸引保持するチャックテーブル12について説明しているが、本発明に係るチャックテーブルはこれに限定されない。
【0037】
図4は、変形例に係るチャックテーブルを模式的に示す分解斜視図である。図4に示すように、変形例に係るチャックテーブル62は、円盤状(円形状)の被加工物(不図示)を吸引保持できるように構成されており、平面視で略円形状に形成された基台70を備えている。
【0038】
基台70の上部には、円盤状の被加工物を保持する保持台(保持部)72が配置されている。保持台72は、基台70の上端に固定された枠体74を含む。枠体74の上面74aの中央部には、円形状の開口部74bが形成されており、この開口部74bには、開口部74bの形状に合致する吸引板76が嵌合している。
【0039】
吸引板76は、例えば、多孔質材料によって形成されており、その上面は、円盤状の被加工物を吸引保持する保持面76aとなる。開口部74bは、枠体74や基台70等の内部に形成された吸引経路(不図示)等を通じて吸引源(不図示)に接続されている。
【0040】
上面74a及び保持面76aによって構成される保持台72の上面は、被加工物の被保持面(不図示)よりも小さくなっている。被加工物は、外周縁を枠体74の外周縁部よりも外側に位置付けた状態で保持台72に載置される。すなわち、円盤状の被加工物によって保持台72の上面全体が覆われる。
【0041】
枠体74の外周縁部には、枠体74の上面74a側及び外周面74c側を全周において切り欠くように段差部74dが形成されている。この段差部74dには、段差部74dの全周に対応したシール部材82が配置されている。
【0042】
上述した変形例に係るチャックテーブル62でも、枠体74の外周縁部に形成された段差部74dにシール部材82が配設されているので、円盤状の被加工物の被保持面と枠体74の上面74aとの間でリークが生じると、リークが生じた領域に作用する吸引力によってシール部材82が吸引され移動し、当該領域は塞がれる。そのため、円盤状の被加工物を適切に吸引保持できる。
【0043】
その他、上記実施形態に係る構成、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
【符号の説明】
【0044】
2 旋削装置(加工装置)
4 基台
4a 開口
6 支持柱
8 X軸移動テーブル
10 防塵防滴カバー
12 チャックテーブル
14 Z軸移動機構
16 Z軸ガイドレール
18 Z軸移動プレート
20 Z軸ボールネジ
22 Z軸パルスモータ
24 旋削ユニット
26 スピンドルハウジング
28 スピンドル
30 ホイールマウント
32 旋削ホイール
34 バイト
40 基台
42 保持台(保持部)
44 枠体
44a 上面
44b 開口部
44c 外周面
44d 段差部
46 吸引板
46a 保持面
48 吸引経路
50 吸引源
52 シール部材
11 被加工物
11a 被保持面
11b 外周縁
G 隙間
図1
図2
図3
図4