(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
基板上に、陽極、有機層及び陰極が積層されてなる有機電界発光素子において、請求項1に記載の有機電界発光素子用材料を含む有機層を有することを特徴とする有機電界発光素子。
有機電界発光素子用材料を含む有機層が、発光層、電子輸送層、および正孔阻止層からなる群れから選ばれる少なくとも一つの層である請求項8に記載の有機電界発光素子。
【発明を実施するための形態】
【0021】
本発明の有機電界発光素子用材料は、前記一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物である。このカルボラン化合物は、カルボラン骨格を三つ以上有し、かつカルボラン骨格が少なくとも一つのジベンゾチオフェン基と結合し、それらが芳香環を介して分岐状に結合した構造を有することにより、上記のような優れた効果をもたらすと考えられる。
【0022】
一般式(1)〜(3)において、L
1は3価の置換若しくは未置換の炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数3〜30の芳香族複素環基、又は該置換若しくは未置換の芳香族環が2〜6つ連結して構成される連結芳香族基を表し、連結芳香族基の場合は直鎖状であっても分岐状であってもよく、連結する芳香環は同一であっても異なっていてもよい。
【0023】
L
2、L
3は、単結合、又は2価の置換若しくは未置換の炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数3〜30の芳香族複素環基、又は該置換若しくは未置換の芳香族環が2〜6つ連結して構成される連結芳香族基を表し、連結芳香族基の場合は直鎖状であっても分岐状であってもよく、連結する芳香環は同一であっても異なっていてもよい。分子内にL
3、L
4が複数存在する場合は同一であっても異なっていてもよい。また、末端に存在するL
2、L
3は炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基であってもよい。ここで、末端とは2つの環Aの間に存在しないことをいう。
【0024】
L
4は、水素、又は置換若しくは未置換の炭素数6〜30の芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数3〜30の芳香族複素環基、該置換若しくは未置換の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基から選ばれる芳香族基が2〜6つ連結して構成される連結芳香族基、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を表す。
ここで、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、及び連結芳香族基の説明は、L
2、L
3の場合は2価の基であるが、L
4の場合は1価の基であることを除き、L
2、L
3の説明と同意である。
【0025】
L
1〜L
4において、芳香族基が置換基を有する場合の置換基は、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、又はアセチル基であり、複数置換されていてもよく、複数の置換基は同一であっても異なっていても良い。ここで、芳香族基は、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基又は両者を意味する。
【0026】
また、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物中の水素の一部又は全部が、重水素に置換されていても良い。
【0027】
未置換の芳香族炭化水素基の具体例としてはベンゼン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、トリフェニレン、テトラフェニレン、フルオランテン、ピレン、クリセン等の芳香族炭化水素化合物、又はこれらが複数連結した芳香族炭化水素化合物から水素を除いて生じる基が挙げられ、好ましくはベンゼン、ナフタレン、フルオレン、フェナントレン、又はトリフェニレンから水素を除いて生じる基である。
【0028】
未置換の芳香族複素環基の具体例としてはピリジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ナフチリジン、カルバゾール、アクリジン、アゼピン、トリベンゾアゼピン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾホスホール、ジベンゾボロール等の芳香族複素環化合物、又はこれらが複数連結した芳香族複素環化合物から水素を除いて生じる基が挙げられ、好ましくはピリジン、ピリミジン、トリアジン、カルバゾール、又はジベンゾチオフェンから水素を除いて生じる基である。
【0029】
芳香族炭化水素化合物又は芳香族複素環化合物が複数連結した芳香族化合物から水素を除いて生じる基を連結芳香族基という。連結芳香族基は、芳香族環が2〜6つ連結されて構成される基であり、連結される芳香族環は同一でも異なっていてもよく、芳香族炭化水素基と芳香族複素環基の両者が含まれてもよい。連結される芳香族環の数は2〜4が好ましく、より好ましくは2又は3である。
【0030】
上記連結芳香族基の具体例としては、ビフェニル、ターフェニル、フェニルナフタレン、ジフェニルナフタレン、フェニルアントラセン、ジフェニルアントラセン、ジフェニルフルオレン、ビピリジン、ビピリミジン、ビトリアジン、ビスカルバゾール、フェニルピリジン、フェニルピリミジン、フェニルトリアジン、フェニルカルバゾール、ジフェニルピリジン、ジフェニルトリアジン、ビスカルバゾリルベンゼン等から水素を除いて生じる基が挙げられる。
【0031】
上記芳香族炭化水素基、芳香族複素環基又は連結芳香族基は、置換基を有してもよく、置換基を有する場合の置換基は、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、又はアセチル基であり、アルキル基、アルコキシ基は直鎖状、分岐状、環状であってもよい。好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜2のアルコキシ基、又はアセチル基である。ここで、アルキル基は非芳香族炭化水素基を意味し、鎖状の炭化水素基の他に、シクロアルカンやテルペン類等から生じる環状炭化水素基を含む。
【0032】
上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等の鎖状又は分岐状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基等の環状アルキル基が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メチル基、エチル基等のアルキル基から導かれるメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基等が挙げられる。
【0033】
ここで、上記連結芳香族基は、2価の基の場合、例えば、下式で表わされ、直鎖状、又は分岐状で連結されてもよい。
【化4】
Ar
1〜Ar
6は未置換の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を示す。
【0034】
また、L
4及び末端のL
2、L
3が、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基である場合は、前記置換基で説明したアルキル基、アルコキシ基と同様である。
【0035】
一般式(1)〜(3)において、s、tは1〜4の整数を表し、好ましくは1である。
【0036】
一般式(1)〜(3)において、環Aは式(1a)又は(1b)で表されるC
2B
10H
10の2価のカルボラン基を示す。好ましくは、式(1a)で表されるカルボラン基である。式(1a)又は(1b)が有する2つの結合手はCから生じても、Bから生じてもよいが、L
1、L
2又はL
3と結合する結合手はCから生じることが好ましい。
【0037】
一般式(1)〜(3)において、それぞれ同一の記号及び式は特に断らない限り同一の意味を有すると解される。
【0038】
一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物は、目的とする化合物の構造に応じて原料を選択し、公知の手法を用いて合成することができる。
【0039】
Journal of Organometallic Chemistry,1993,462,p19−29に示される合成例を参考にして以下の反応式により中間体(A−1)を合成し、これから目的とする化合物を得ることができる。
【0040】
【化5】
一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物の具体例を以下に示すが、本発明の有機電界発光素子用材料はこれらに限定されない。
【0042】
本発明の有機電界発光素子用材料は、基板上に、陽極、複数の有機層及び陰極が積層されてなる有機EL素子の少なくとも1つの有機層に含有させることにより、優れた有機電界発光素子を与える。含有させる有機層としては、発光層、電子輸送層又は正孔阻止層が適する。ここで、発光層に使用する場合は、蛍光発光、遅延蛍光発光又は燐光発光性のドーパントを含有する発光層のホスト材料として使用することができるほか、本発明の化合物を蛍光及び遅延蛍光を放射する有機発光材料として使用することができる。蛍光および遅延蛍光を放射する有機発光材料として使用する場合、励起一重項エネルギー、励起三重項エネルギーの少なくとも何れか一方が本発明の化合物よりも高い値を有する他の有機化合物をホスト材料として使用することが好ましい。本発明の化合物は、燐光発光ドーパントを含有する発光層のホスト材料として含有させることが特に好ましい。
【0043】
次に、本発明の有機電界発光素子用材料を用いた有機EL素子について説明する。
【0044】
本発明の有機EL素子は、基板上に積層された陽極と陰極の間に、少なくとも一つの発光層を有する有機層を有し、且つ少なくとも一つの有機層は、本発明の有機電界発光素子用材料を含む。有利には、燐光発光ドーパントと共に本発明の有機電界発光素子用材料を発光層中に含む。
【0045】
次に、本発明の有機EL素子の構造について、図面を参照しながら説明するが、本発明の有機EL素子の構造は何ら図示のものに限定されるものではない。
【0046】
図1は本発明に用いられる一般的な有機EL素子の構造例を示す断面図であり、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は電子輸送層、7は陰極を各々表わす。本発明の有機EL素子では発光層と隣接して励起子阻止層を有してもよく、また、発光層と正孔注入層との間に電子阻止層を有してもよい。励起子阻止層は発光層の陽極側、陰極側のいずれにも挿入することができ、両方同時に挿入することも可能である。本発明の有機EL素子では、基板、陽極、発光層及び陰極を必須の層として有するが、必須の層以外の層に、正孔注入輸送層、電子注入輸送層を有することがよく、更に発光層と電子注入輸送層の間に正孔阻止層を有することがよい。なお、正孔注入輸送層は、正孔注入層と正孔輸送層のいずれか又は両者を意味し、電子注入輸送層は、電子注入層と電子輸送層のいずれか又は両者を意味する。
【0047】
なお、
図1とは逆の構造、すなわち、基板1上に陰極7、電子輸送層6、発光層5、正孔輸送層4、陽極2の順に積層することも可能であり、この場合も、必要により層を追加したり、省略したりすることが可能である。
【0048】
−基板−
本発明の有機EL素子は、基板に支持されていることが好ましい。この基板については、特に制限はなく、従来から有機EL素子に慣用されているものであればよく、例えば、ガラス、透明プラスチック、石英などからなるものを用いることができる。
【0049】
−陽極−
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO
2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In
2O
3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
【0050】
−陰極−
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al
2O
3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al
2O
3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極又は陰極のいずれか一方が、透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
【0051】
また、陰極に上記金属を1〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
【0052】
−発光層−
発光層は、陽極及び陰極のそれぞれから注入された正孔及び電子が再結合することにより励起子が生成した後、発光する層であり、発光層には有機発光材料とホスト材料を含む。
発光層が蛍光発光層である場合、蛍光発光材料は少なくとも1種の蛍光発光材料を単独で使用しても構わないが、蛍光発光材料を蛍光発光ドーパントとして使用し、ホスト材料を含むことが好ましい。
【0053】
発光層における蛍光発光材料としては、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることができるが、多数の特許文献等により知られているので、それらから選択することもできる。例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリジン化合物、8-キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体、希土類錯体、遷移金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体等が挙げられる。好ましくは縮合芳香族化合物、スチリル化合物、ジケトピロロピロール化合物、オキサジン化合物、ピロメテン金属錯体、遷移金属錯体、ランタノイド錯体が挙げられ、より好ましくはナフタセン、ピレン、クリセン、トリフェニレン、ベンゾ[c]フェナントレン、ベンゾ[a]アントラセン、ペンタセン、ペリレン、フルオランテン、アセナフソフルオランテン、ジベンゾ[a,j]アントラセン、ジベンゾ[a,h]アントラセン、ベンゾ[a]ナフタセン、ヘキサセン、アンタントレン、ナフト[2,1-f]イソキノリン、α-ナフタフェナントリジン、フェナントロオキサゾール、キノリノ[6,5-f]キノリン、ベンゾチオファントレン等が挙げられる。これらは置換基としてアルキル基、アリール基、芳香族複素環基、ジアリールアミノ基を有していてもよい。
【0054】
発光層における蛍光ホスト材料としては、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることができるが、多数の特許文献等により知られているので、それらから選択することもできる。例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、トリフェニレン、ペリレン、フルオランテン、フルオレン、インデンなどの縮合アリール環を有する化合物やその誘導体、N,N’−ジナフチル−N,N’−ジフェニル−4,4’−ジフェニル−1,1’−ジアミンなどの芳香族アミン誘導体、トリス(8−キノリナート)アルミニウム(III)をはじめとする金属キレート化オキシノイド化合物、ジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、インデン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、トリアジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体等が使用できるが特に限定されるものではない。
【0055】
前記蛍光発光材料を蛍光発光ドーパントとして使用し、ホスト材料を含む場合、蛍光発光ドーパントが発光層中に含有される量は、0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜10重量%の範囲にあることがよい。
【0056】
通常、有機EL素子は、陽極、陰極の両電極より発光物質に電荷を注入し、励起状態の発光物質を生成し、発光させる。電荷注入型の有機EL素子の場合、生成した励起子のうち、一重項励起状態に励起されるのは25%であり、残り75%は三重項励起状態に励起されると言われている。Advanced Materials 2009, 21, 4802-4806.に示されているように、特定の蛍光発光物質は、項間交差等により三重項励起状態へとエネルギーが遷移した後、三重項−三重項消滅あるいは熱エネルギーの吸収により、一重項励起状態に逆項間交差され蛍光を放射し、熱活性化遅延蛍光を発現することが知られている。本発明の有機EL素子でも遅延蛍光を発現することができる。この場合、蛍光発光及び遅延蛍光発光の両方を含むこともできる。但し、発光の一部或いは部分的にホスト材料からの発光があってもよい。
【0057】
発光層が遅延蛍光発光層である場合、遅延発光材料は少なくとも1種の遅延発光材料を単独で使用しても構わないが、遅延蛍光材料を遅延蛍光発光ドーパントとして使用し、ホスト材料を含むことが好ましい。
【0058】
発光層における遅延蛍光発光材料としては、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることができるが、公知の遅延蛍光発光材料から選択することもできる。例えば、スズ錯体、インドロカルバゾール誘導体、銅錯体、カルバゾール誘導体等が挙げられる。具体的には、以下の非特許文献、特許文献に記載されている化合物が挙げられるが、これらの化合物に限定されるものではない。
【0059】
1)Adv. Mater. 2009, 21, 4802-4806、2)Appl. Phys. Lett. 98, 083302 (2011)、3)特開2011-213643号公報、4)J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 14706-14709。
【0060】
遅延発光材料の具体的な例を示すが、下記の化合物に限定されるものではない。
【0062】
前記遅延蛍光発光材料を遅延蛍光発光ドーパントとして使用し、ホスト材料を含む場合、遅延蛍光発光ドーパントが発光層中に含有される量は、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは0.01〜10重量%の範囲にあることがよい。
【0063】
発光層における遅延蛍光ホスト材料としては、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることができるが、カルボラン以外の化合物から選択することもできる。例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナンスレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、トリフェニレン、ペリレン、フルオランテン、フルオレン、インデンなどの縮合アリール環を有する化合物やその誘導体、N,N’−ジナフチル−N,N’−ジフェニル−4,4’−ジフェニル−1,1’−ジアミンなどの芳香族アミン誘導体、トリス(8−キノリナート)アルミニウム(III)をはじめとする金属キレート化オキシノイド化合物、ジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、インデン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、トリアジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、アリールシラン誘導体等が使用できるが特に限定されるものではない。
【0064】
発光層が燐光発光層である場合、発光層は燐光発光ドーパントとホスト材料を含む。燐光発光ドーパント材料としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金及び金から選ばれる少なくとも一つの金属を含む有機金属錯体を含有するものがよい。
【0065】
好ましい燐光発光ドーパントとしては、Ir等の貴金属元素を中心金属として有するIr(ppy)
3等の錯体類、Ir(bt)
2・acac
3等の錯体類、PtOEt
3等の錯体類が挙げられる。これらの錯体類の具体例を以下に示すが、下記の化合物に限定されない。
【0067】
前記燐光発光ドーパントが発光層中に含有される量は、2〜40重量%、好ましくは5〜30重量%の範囲にあることがよい。
【0068】
発光層が燐光発光層である場合、発光層におけるホスト材料としては、本発明に係る前記一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることが好ましい。しかし、該カルボラン化合物を発光層以外の他の何れかの有機層に使用する場合は、発光層に使用する材料はカルボラン化合物以外の他のホスト材料であってもよい。また、カルボラン化合物と他のホスト材料を併用してもよい。更に、公知のホスト材料を複数種類併用して用いてもよい。
【0069】
使用できる公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有し、かつ発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高いガラス転移温度を有する化合物であることが好ましい。
【0070】
このような他のホスト材料は、多数の特許文献等により知られているので、それらから選択することができる。ホスト材料の具体例としては、特に限定されるものではないが、インドール誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8―キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾール誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体、ポリシラン系化合物、ポリ(N-ビニルカルバゾール)誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等が挙げられる。
【0071】
発光層は蛍光発光層、遅延蛍光発光層あるいは燐光発光層のいずれでもよいが、燐光発光層であることが好ましい。
【0072】
−注入層−
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、正孔注入層と電子注入層があり、陽極と発光層又は正孔輸送層の間、及び陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させてもよい。注入層は必要に応じて設けることができる。
【0073】
−正孔阻止層−
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
【0074】
正孔阻止層には本発明に係る一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることが好ましいが、カルボラン化合物を他の何れかの有機層に使用する場合は、公知の正孔阻止層材料を用いてもよい。また、正孔阻止層材料としては、後述する電子輸送層の材料を必要に応じて用いることができる。
【0075】
−電子阻止層−
電子阻止層とは、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料から成り、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔が再結合する確率を向上させることができる。
【0076】
電子阻止層の材料としては、後述する正孔輸送層の材料を必要に応じて用いることができる。電子阻止層の膜厚は好ましくは3〜100nmであり、より好ましくは5〜30nmである。
【0077】
−励起子阻止層−
励起子阻止層とは、発光層内で正孔と電子が再結合することにより生じた励起子が電荷輸送層に拡散することを阻止するための層であり、本層の挿入により励起子を効率的に発光層内に閉じ込めることが可能となり、素子の発光効率を向上させることができる。励起子阻止層は発光層に隣接して陽極側、陰極側のいずれにも挿入することができ、両方同時に挿入することも可能である。
【0078】
励起子阻止層の材料としては、一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることができるが、他の材料として、例えば、1,3−ジカルバゾリルベンゼン(mCP)や、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラトアルミニウム(III)(BAlq)が挙げられる。
【0079】
−正孔輸送層−
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【0080】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。使用できる公知の正孔輸送材料としては一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることが好ましいが、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。使用できる公知の正孔輸送材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることが好ましく、芳香族第3級アミン化合物を用いることがより好ましい。
【0081】
−電子輸送層−
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、電子輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【0082】
電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる場合もある)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよい。電子輸送層には本発明に係る一般式(1)〜(3)で表されるカルボラン化合物を用いることが好ましいが、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【実施例】
【0083】
以下、本発明を実施例によって更に詳しく説明するが、本発明は勿論、これらの実施例に限定されるものではなく、その要旨を越えない限りにおいて、種々の形態で実施することが可能である。
【0084】
以下に示すルートにより有機電界発光素子用材料となるカルボラン化合物を合成した。なお、化合物番号は、上記化学式に付した番号に対応する。
【0085】
実施例1
次の反応式に従い化合物1を合成する。
【化11】
【0086】
窒素雰囲気下、m−カルボラン35.0 g (0.243 mol)、1,2−ジメトキシエタン(DME)を200 mL加え、得られたDME溶液を0℃まで冷却した。2.69 Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液を96.8 mL滴下し、氷冷下で30分撹拌した。ピリジン 70 mLを加え、室温で10分撹拌後、塩化銅(I)を75.6 g(0.763 mol)加え、65℃で30分撹拌した。その後、2−ブロモジベンゾチオフェン 73.9 g(0.280 mol)を加え、95℃で一晩撹拌した。反応溶液を室温まで冷却した後に、析出した結晶をろ取し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、中間体Aを8.0g(24.5 mmol、収率10.0%)得た。
【0087】
窒素雰囲気下、m−カルボラン35.0 g (0.243 mol)、DMEを926 mL加え、DME溶液を0℃まで冷却した。1.65 Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液を154.6 mL滴下し、室温で1時間撹拌した。塩化銅(I)を24.1 g(0.243 mol)加え、室温で15分撹拌した後、ピリジン 136 mLを加えた。室温で5分撹拌後、ヨードベンゼン 64.2 g(0.243 mol)を加え、95℃で一晩撹拌した。得られた反応液の溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、中間体Bを18.6 g(91.7 mmol、収率38%)得た。
【0088】
窒素雰囲気下、中間体A 8.0 g (0.0245 mol)、DMEを138 mL加え、得られたDME溶液を0℃まで冷却した。2.69 Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液を9.89 mL滴下し、氷冷下で30分撹拌した。ピリジン 6.7 mLを加え、室温で10分撹拌後、塩化銅(I)を7.5 g(76.0 mmol)加え、65℃で30分撹拌した。その後、1,3,5-トリブロモベンゼン 7.7 g(0.0245 mol)を加え、95℃で一晩撹拌した。反応溶液を室温まで冷却した後に、析出した結晶をろ取し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、中間体Cを5.49g(9.80 mmol、収率40%)得た。
【0089】
窒素雰囲気下、中間体B 4.6 g (20.9 mmol)、DMEを4.6 mL加え、得られたDME溶液を0℃まで冷却した。2.69 Mのn−ブチルリチウムヘキサン溶液を8.3 mL滴下し、氷冷下で30分撹拌した。ピリジン 5.7 mLを加え、室温で10分撹拌後、塩化銅(I)を6.4 g(64.8 mmol)加え、65℃で30分撹拌した。その後、中間体C 5.49 g(9.80 mmol)を加え、95℃で2日間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却した後に、析出した結晶をろ取し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、化合物1を1.72g(2.06 mmol、収率21%)得た(APCI-TOFMS, m/z 838 [M]+)。
【0090】
上記合成例及び明細書中に記載の合成方法に準じて、化合物5及びH−1、H−2を合成した。
【0091】
また、化合物1、5及びH−1、H−2を使用して、有機EL素子を作製した。
【化12】
【0092】
実施例2
膜厚 70nm の 酸化インジウムスズ(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度2.0×10
-5 Pa で積層させた。まず、ITO 上に正孔注入層として、銅フタロシアニン(CuPC)を 30 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層としてジフェニルナフチルジアミン(NPD)を 15 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層上に、発光層のホスト材料としての化合物1とドーパントとしての青色燐光材料であるイリジウム錯体[イリジウム(III)ビス(4,6-ジ-フルオロフェニル)-ピリジネート-N,C2']ピコリネート](FIrpic)とを異なる蒸着源から、共蒸着し、30 nm の厚さに発光層を形成した。FIrpicの濃度は 20 %であった。次に、電子輸送層として Alq
3 を 25 nm厚さに形成した。更に、電子輸送層上に、電子注入層としてフッ化リチウム(LiF)を 1.0 nm厚さに形成した。最後に、電子注入層上に、電極としてアルミニウム(Al)を70 nm厚さに形成した。得られた有機EL素子は、
図1に示す有機EL素子において、陰極と電子輸送層の間に、電子注入層が追加された層構成を有する。
【0093】
得られた有機EL素子に外部電源を接続し直流電圧を印加したところ、表2に示すような発光特性を有することが確認された。表1において、輝度、電圧、及び発光効率は、2.5 mA/cm
2での値(初期特性)を示す。なお、素子発光スペクトルの極大波長は475 nmであり、FIrpicからの発光が得られていることがわかった。
【0094】
実施例3
実施例2における発光層のホスト材料として、化合物1に代えて、化合物5を用いた以外は実施例2と同様にして有機EL素子を作成した。
【0095】
比較例1
実施例2における発光層のホスト材料としてmCPを用いた以外は実施例2と同様にして有機EL素子を作成した。
【0096】
比較例2〜3
実施例2における発光層のホスト材料として化合物H−1、H−2を用いた以外は実施例2と同様にして有機EL素子を作成した。
【0097】
実施例3及び比較例1〜3で得られた有機EL素子について、実施例2と同様にして評価したところ、表1に示すような発光特性を有することが確認された。なお、実施例3及び比較例1〜3で得られた有機EL素子の発光スペクトルの極大波長は475 nmであり、FIrpicからの発光が得られていると同定された。
【0098】
【表1】
【0099】
実施例4
膜厚 70nm の酸化インジウムスズ(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度2.0×10
-5 Pa で積層させた。まず、ITO 上に正孔注入層として、銅フタロシアニン(CuPC)を 30 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層としてジフェニルナフチルジアミン(NPD)を 15 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層上に、発光層のホスト材料としての化合物1とドーパントとしてのIr(ppy)
3とを異なる蒸着源から、共蒸着し、30 nm の厚さに発光層を形成した。Ir(ppy)
3の濃度は 10 %であった。次に、電子輸送層としてAlq
3を25 nmの厚さに形成した。更に、電子輸送層上に、電子注入層としてフッ化リチウム(LiF)を1 nmの厚さに形成した。最後に、電子注入層上に、電極としてアルミニウム(Al)を70 nmの厚さに形成し、有機EL素子を作製した。
【0100】
得られた有機EL素子に外部電源を接続し直流電圧を印加したところ、表2に示すような発光特性を有することが確認された。表2において、輝度、電圧及び発光効率は、20 mA/cm
2での駆動時の値(初期特性)を示す。素子発光スペクトルの極大波長は530 nmであり、Ir(ppy)
3からの発光が得られていることがわかった。
【0101】
実施例5
実施例4における発光層のホスト材料として、化合物1に代えて、化合物5を用いた以外は実施例4と同様にして有機EL素子を作成した。
【0102】
比較例4〜6
実施例4における発光層のホスト材料としてCBP、H−1、H−2を用いた以外は実施例4と同様にして有機EL素子を作成した。
【0103】
実施例5及び比較例4〜6で得られた有機EL素子について、実施例4と同様にして評価したところ、表2に示すような発光特性を有することが確認された。なお、実施例5及び比較例4〜6で得られた有機EL素子の発光スペクトルの極大波長は530 nmであり、Ir(ppy)
3からの発光が得られていると同定された。
【0104】
【表2】
【0105】
実施例6
膜厚 70nm の 酸化インジウムスズ(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度2.0×10
-5 Pa で積層させた。まず、ITO 上に正孔注入層として、銅フタロシアニン(CuPC)を 30 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層としてジフェニルナフチルジアミン(NPD)を 15 nm の厚さに形成した。次に、正孔輸送層上に、発光層のホスト材料としてのmCPとドーパントとしてのFIrpicとを異なる蒸着源から、共蒸着し、30 nm の厚さに発光層を形成した。FIrpicの濃度は 20 %であった。次に、発光層上に正孔阻止層として化合物1を5 nmの厚さに形成した。次に電子輸送層として Alq
3 を 20 nm厚さに形成した。更に、電子輸送層上に、電子注入層としてフッ化リチウム(LiF)を 1.0 nm厚さに形成した。最後に、電子注入層上に、電極としてアルミニウム(Al)を70 nm厚さに形成した。得られた有機EL素子は、
図1に示す有機EL素子において、陰極と電子輸送層の間に電子注入層、及び発光層と電子輸送層の間に、正孔阻止層が追加された層構成を有する。
【0106】
得られた有機EL素子に外部電源を接続し直流電圧を印加したところ、表3に示すような発光特性を有することが確認された。表3において、輝度、電圧及び発光効率は、20 mA/cm
2での駆動時の値(初期特性)を示す。素子発光スペクトルの極大波長は475 nmであり、FIrpicからの発光が得られていることがわかった。
【0107】
実施例7
実施例6における正孔阻止材料として、化合物1に代えて、化合物5を用いた以外は実施例6と同様にして有機EL素子を作成した。
【0108】
比較例7
実施例6における電子輸送層としてのAlq
3の膜厚を25 nmとし、正孔阻止層を設けないこと以外は、実施例6と同様にして有機EL素子を作成した。
【0109】
比較例8〜9
実施例6における正孔阻止材料として化合物H−1、H−2を用いた以外は実施例6と同様にして有機EL素子を作成した。
【0110】
実施例7及び比較例7〜9で得られた有機EL素子について、実施例6と同様にして評価したところ、表3に示すような発光特性を有することが確認された。なお、実施例7及び比較例7〜9で得られた有機EL素子の発光スペクトルの極大波長は475 nmであり、FIrpicからの発光が得られていると同定された。なお、実施例7及び比較例7〜9で使用した発光層のホスト材料はいずれもmCPである。
【0111】
【表3】
【0112】
正孔阻止材料を用いない比較例7に比べ、全ての例で初期特性の改善が見られた。中でも本発明のカルボラン化合物を正孔阻止層に用いた場合は、良好な特性を示している。