特許 6412015 レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6412015

(24)【登録日】2018年10月5日

(45)【発行日】2018年10月24日

(54)【発明の名称】レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法

(51)【国際特許分類】

   H05G 2/00 20060101AFI20181015BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20181015BHJP

【ＦＩ】

   H05G2/00 K

   G03F7/20 503

   G03F7/20 521

【請求項の数】10

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2015-552647(P2015-552647)

(86)(22)【出願日】2013年12月17日

(65)【公表番号】特表2016-504740(P2016-504740A)

(43)【公表日】2016年2月12日

(86)【国際出願番号】US2013075870

(87)【国際公開番号】WO2014109876

(87)【国際公開日】20140717

【審査請求日】2016年12月15日

(31)【優先権主張番号】13/738,918

(32)【優先日】2013年1月10日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】13/738,923

(32)【優先日】2013年1月10日

(33)【優先権主張国】US

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】504151804

【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】チャン，スティーヴン

(72)【発明者】

【氏名】クラウチ，ジェームス エイチ．

(72)【発明者】

【氏名】ダンスタン，ウェイン ジェイ．

(72)【発明者】

【氏名】フリハウ，ポール エー．

(72)【発明者】

【氏名】グレアム，マシュー アール．

(72)【発明者】

【氏名】ジャック，ロバート エヌ．

(72)【発明者】

【氏名】リュー，アンドリュー

(72)【発明者】

【氏名】シャフガンズ，アレキサンダー エー．

【審査官】 原 俊文

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０００−０９１１９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２１０７０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１１／０１３７７９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特表２０１０−５１４２１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００６／０１９３９９７（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｇ ２／００

Ｇ０３Ｆ ７／２０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

１つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるＥＵＶ光源のストロボ発射の間に生成されるエネルギ線量を調節する方法であって、
（ａ）レーザコントローラによって、現在のパケットについての線量サーボ値を設定することと、
（ｂ）前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整することと、
（ｃ）前記小滴の照射によって発生したＥＵＶエネルギを検知することと、
（ｄ）前記レーザコントローラによって、前記検知したＥＵＶエネルギを、前記現在のパケットの間の１つ以上の先行する小滴の照射により発生したＥＵＶエネルギと合わせて蓄積することと、
（ｅ）前記現在のパケット内の前記蓄積されたＥＵＶエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を繰り返すことと、
（ｆ）前記現在のパケット内の前記蓄積されたＥＵＶエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット以上である場合、前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットの間に別の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらすことと、
を備える、方法。

【請求項2】

前記調整された線量ターゲットが、前記線量ターゲットに前記線量サーボ値を足したものに等しい、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

（ｇ）前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットについての線量エラーを計算することと、
（ｈ）前記レーザコントローラによって、前記現在のパケットについての前記線量エラーを、１つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積することと、
（ｉ）前記レーザコントローラによって、前記エネルギ線量ターゲット及び前記蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算することと、
（ｊ）前記レーザコントローラによって、前記次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算することと、
（ｋ）前記次のパケットについてステップ（ａ）から（ｊ）を繰り返すことであって、前記次のパケットについての前記調整された線量ターゲットが前記新しい調整された線量ターゲットであり、前記次のパケットについての前記線量サーボ値が前記新しい線量サーボ値である、ことと、
を更に備える、請求項１に記載の方法。

【請求項4】

前記現在のパケットについての前記線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量ターゲットから前記現在のパケットについての前記蓄積されたＥＵＶエネルギを引いたものに等しい、請求項３に記載の方法。

【請求項5】

前記蓄積された線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量エラー及び１つ以上の先行するパケットについての前記線量エラーを含む、請求項３に記載の方法。

【請求項6】

１つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるＥＵＶ光源のストロボバースト発射の間に生成されるエネルギ線量を調節するシステムであって、
トリガを受信した場合にレーザビームをパルス発生させる駆動レーザと、
小滴の照射によって発生したＥＵＶエネルギを検知するセンサと、
（ａ）現在のパケットについての線量サーボ値を設定し、
（ｂ）前記現在のパケットの間に小滴を照射するように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングを調整し、
（ｃ）前記小滴の照射により発生した検知されたＥＵＶエネルギを、前記現在のパケットの間の１つ以上の先行する小滴の照射により発生したＥＵＶエネルギと合わせて蓄積し、
（ｄ）前記現在のパケット内の前記蓄積されたＥＵＶエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ（ｂ）及び（ｃ）を繰り返し、
（ｅ）前記現在のパケット内の前記蓄積されたＥＵＶエネルギが、前記エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット以上である場合、前記現在のパケットの間に別の小滴を照射しないように前記レーザビームをパルス発生させる前記トリガのタイミングをずらす、
コントローラと、
を備える、システム。

【請求項7】

前記調整された線量ターゲットが、前記線量ターゲットに前記線量サーボ値を足したものに等しい、請求項６に記載のシステム。

【請求項8】

前記コントローラが、更に、
（ｆ）前記現在のパケットについての線量エラーを計算し、
（ｇ）前記現在のパケットについての前記線量エラーを、１つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積し、
（ｈ）前記エネルギ線量ターゲット及び前記蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算し、
（ｉ）前記次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算し、
（ｊ）前記次のパケットについてステップ（ａ）から（ｉ）を繰り返し、前記次のパケットについての前記調整された線量ターゲットが前記新しい調整された線量ターゲットであり、前記次のパケットについての前記線量サーボ値が前記新しい線量サーボ値である、請求項６に記載のシステム。

【請求項9】

前記現在のパケットについての前記線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量ターゲットから前記現在のパケットについての前記蓄積されたＥＵＶエネルギを引いたものに等しい、請求項８に記載のシステム。

【請求項10】

前記蓄積された線量エラーが、前記現在のパケットについての前記線量エラー及び１つ以上の先行するパケットについての前記線量エラーを含む、請求項８に記載のシステム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

[1] 本発明は、一般にフォトリソグラフィのためのレーザ技術に関し、より具体的にはレーザ発射中のＥＵＶ線量制御に関する。

【背景技術】

【0002】

[2] 半導体業界では、更に小型の集積回路寸法のプリントを可能とするリソグラフィ技術の開発が続いている。極端紫外線（「ＥＵＶ」）光（軟ｘ線とも称されることがある）は、一般に、１０ｎｍから１１０ｎｍの間の波長を有する電磁放射として定義される。ＥＵＶリソグラフィは、一般には、１０〜１４ｎｍの範囲内の波長のＥＵＶ光を含むと考えられ、シリコンウェーハ等の基板に極めて小さいフィーチャ（例えば３２ｎｍ以下のフィーチャ）を生成するために用いられる。これらのシステムは、信頼性が極めて高くなければならず、費用対効果の大きいスループット及び適度なプロセス許容度を与えなければならない。

【0003】

[3] ＥＵＶ光を生成するための方法は、必ずしも限定されるわけではないが、ＥＵＶ範囲に１つ以上の輝線を有する１つ以上の元素（例えばキセノン、リチウム、スズ、インジウム、アンチモン、テルル、アルミニウム等）を有する材料をプラズマ状態に変換することを含む。レーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ：laser-produced plasma」）と呼ばれることが多いそのような方法の１つにおいて、必要なプラズマは、所望の輝線を発する元素を有する材料の小滴、流れ、又はクラスタ等のターゲット材料に、照射箇所でレーザビームを照射することによって、生成することができる。

【0004】

[4] 輝線を発する元素は、純粋な形態又は合金の形態（例えば所望の温度において液体である合金）とすることができ、又は、液体等の別の材料と混合するかもしくは分散させることができる。このターゲット材料とレーザビームとを同時に、プラズマ開始のためのＬＰＰ ＥＵＶ放射源プラズマチャンバ内の所望の照射箇所（例えば一次焦点）へ送出することには、タイミング及び制御の点でいくつか課題がある。具体的には、レーザビームがターゲットと適切に衝突して良好なプラズマを得るため、従って良好なＥＵＶ光を得るために、レーザビームを、ターゲット材料が通過する位置で合焦させると共に、ターゲット材料がこの位置を通過する時にこれと交差するようにタイミング調整することが必要である。

【0005】

[5] 小滴発生器は、ターゲット材料を収容し、ターゲット材料を、一次焦点のｘ軸に沿って進む小滴として押し出して、一次焦点のｚ軸に沿って進んでくるレーザビームと交差させる。理想的には、小滴は一次焦点を通過することが目標とされる。レーザビームが一次焦点で小滴と衝突する時、理論的にはＥＵＶ光出力は最大となる。しかしながら実際は、経時的に複数のバーストを通じて最大のＥＵＶ出力光を達成することは極めて難しい。これは、ある小滴の照射により発生するエネルギが、別の小滴の照射により発生するエネルギとはランダムに異なっているからである。

【0006】

[6] 従って、最大のＥＵＶ光出力は、時々は可能であるが常に実現されるわけではない。この出力の変動性は、ＥＵＶ光の下流での利用にとって問題である。例えば、変わりやすいＥＵＶ光が下流でリソグラフィスキャナにおいて用いられると、ウェーハの処理が非均一になり、この結果、ウェーハから切り出されるダイの品質管理が損なわれる可能性がある。このため、信頼性向上と引き換えに、最大でないＥＵＶを用いるというトレードオフが望ましい場合がある。

【0007】

[7] ストロボパターンでは、ウェーハダイの露光の間を通して短時間露光でＥＵＶを生成する。このバーストパターンは、ＥＵＶエネルギ線量の制御には有用であり得るが、必要なのは、下流の目的のために許容可能なレベルのＥＵＶエネルギ出力を高い信頼性で発生する、すなわちＥＵＶエネルギ線量をいっそう正確に制御する方法である。

【発明の概要】

【0008】

[8] 一実施形態において、１つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるように構成されたＥＵＶ光源のストロボ発射の間に生成されるエネルギ線量を調節する方法が提供される。この方法は、（ａ）レーザコントローラによって、現在のパケットについての線量サーボ値を設定することと、（ｂ）レーザコントローラによって、現在のパケットの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整することと、（ｃ）センサによって、小滴の照射によって発生したＥＵＶエネルギを検知することと、（ｄ）レーザコントローラによって、検知したＥＵＶエネルギを、現在のパケットの間の１つ以上の先行する小滴の照射により発生したＥＵＶエネルギと合わせて蓄積することと、（ｅ）現在のパケット内の蓄積されたＥＵＶエネルギが、エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を繰り返すことと、（ｆ）レーザコントローラによって、現在のパケットの間に別の小滴を照射しないようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングをずらすことと、を備える。

【0009】

[9] 別の実施形態において、この方法は更に、（ｇ）レーザコントローラによって、現在のパケットについての線量エラーを計算することと、（ｈ）レーザコントローラによって、現在のパケットについての線量エラーを、１つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積することと、（ｉ）レーザコントローラによって、エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算することと、（ｊ）レーザコントローラによって、次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算することと、を更に備える。

【0010】

[10] 更に別の実施形態は、１つ以上のパケット内でエネルギ線量ターゲットを発生させるように構成されたＥＵＶ光源のストロボバースト発射の間に生成されるエネルギ線量を調節するためのシステムである。このシステムは、トリガを受信した場合にレーザビームをパルス発生させるように構成された駆動レーザと、小滴の照射によって発生したＥＵＶエネルギを検知するように構成されたセンサと、コントローラであって、（ａ）現在のパケットについての線量サーボ値を設定し、（ｂ）現在のパケットの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整し、（ｃ）小滴の照射により発生した検知されたＥＵＶエネルギを、現在のパケットの間の１つ以上の先行する小滴の照射により発生したＥＵＶエネルギと合わせて蓄積し、（ｄ）現在のパケット内の蓄積されたＥＵＶエネルギが、エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づく調整された線量ターゲット未満である場合、ステップ（ｂ）及び（ｃ）を繰り返し、（ｅ）現在のパケットの間に別の小滴を照射しないようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングをずらすように構成されたコントローラと、を備える。

【0011】

[11] 更に別の実施形態において、このシステムは、コントローラが更に、（ｆ）現在のパケットについての線量エラーを計算し、（ｇ）現在のパケットについての線量エラーを、１つ以上の先行するパケットについての線量エラーと合わせて蓄積し、（ｈ）エネルギ線量ターゲット及び蓄積された線量エラーに基づいて次のパケットについての新しい調整された線量ターゲットを計算し、（ｉ）次のパケットについての新しい線量サーボ値を計算するように構成されている。

【0012】

[12] ＥＵＶ光源の連続バーストモードの間に生成されるエネルギ線量を調節する方法であって、（ａ）所定のエネルギ線量ターゲットを有するバーストを開始することと、（ｂ）レーザコントローラによって、バーストの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整することと、（ｃ）小滴によって発生したＥＵＶエネルギを検知することと、（ｄ）レーザコントローラによって、検知したＥＵＶエネルギ及びエネルギ線量ターゲットに基づいて小滴についての現在の線量エラーを計算することと、（ｅ）レーザコントローラによって、現在の線量エラー及びバーストの間の１つ以上の先行する小滴について計算された現時点までのバーストエラーに基づくバーストエラーを蓄積することと、（ｆ）バーストが終了しておらず、蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー未満である場合、ステップ（ｂ）からステップ（ｅ）を繰り返すことと、（ｇ）バーストが終了しておらず、蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー以上である場合、レーザコントローラによって、次の小滴を照射しないようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングをずらすことと、（ｈ）バーストが終了するまでステップ（ｃ）からステップ（ｇ）を繰り返すことと、を備える、方法。

【0013】

[13] エネルギ線量ターゲットを発生させるように構成されたＥＵＶ光源の連続バースト発射の間に生成されるエネルギ線量を調節するためのシステムであって、トリガを受信した場合にレーザビームをパルス発生させるように構成された駆動レーザと、小滴の照射によって発生したＥＵＶエネルギを検知するように構成されたセンサと、コントローラであって、（ａ）バーストの間に小滴を照射するようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングを調整し、（ｂ）検知したＥＵＶエネルギ及びエネルギ線量ターゲットに基づいて小滴についての現在の線量エラーを計算し、（ｃ）現在の線量エラー及びバーストの間の１つ以上の先行する小滴について計算された現時点までのバーストエラーに基づくバーストエラーを蓄積し、（ｄ）バーストが終了しておらず、蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー未満である場合、ステップ（ａ）からステップ（ｃ）を繰り返し、（ｅ）バーストが終了しておらず、蓄積されたバーストエラーが閾値バーストエラー以上である場合、次の小滴を照射しないようにレーザビームをパルス発生させるトリガのタイミングをずらし、（ｆ）バーストが終了するまでステップ（ｂ）からステップ（ｅ）を繰り返すように構成されたコントローラと、を備える、システム。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】[14] 典型的なＬＰＰ ＥＵＶシステムのコンポーネントの一部を示す図である。

【図2】[15] 小滴を照射するためのレーザパルス発生を示す図である。

【図3】[16] 小滴の照射を回避するためのタイミングをずらした（mistimed）レーザパルス発生を示す図である。

【図4】[17] 一実施形態による、小滴を照射するためのレーザパルス発生期間中、及び小滴の照射を回避するためのタイミングをずらしたレーザパルス発生期間中に発生するエネルギを経時的に示すグラフである。

【図5】[18] 一実施形態による、ＥＵＶ光の線量制御に関与するＥＵＶシステムコンポーネントを示すブロック図である。

【図6】[19] 一実施形態による、レーザビームパルスタイミング調整によってストロボＥＵＶ線量を制御するための方法のフローチャートである。

【図7】[20] 一実施形態による、ＥＵＶ線量を制御するためのレーザビームパルスタイミング調整を用いて２秒バーストで達成されるエネルギ線量ターゲットを中心とした百分率変化を示すデータグラフである。

【図8】[21] 一実施形態による、ＥＵＶ線量を制御するためのレーザビームパルスタイミング調整を用いて２秒バーストで発生したパケットＥＵＶエネルギ（上枠）及びパルスカウント（下枠）を示す。

【図9】[22] 一実施形態による、レーザビームパルスをタイミング調整して連続バースト発射中のＥＵＶ線量を制御する方法のフローチャートである。

【図10】[23] 一実施形態による、ＥＵＶ線量を制御するためのレーザビームパルスタイミング調整を用いて連続バースト中に発生させたＥＵＶエネルギ（上枠）及びエネルギ線量（下枠）を示す。

【発明を実施するための形態】

【0015】

[24] 上述のように、ＥＵＶシステムによって出力されるエネルギ（光）は、例えば半導体リソグラフィのような多数の用途のために下流で用いることができる。ある典型的な状況では、ＥＵＶ光をストロボバーストでリソグラフィスキャナに渡して、連続したウェーハ上のフォトレジストを照射することができる。主発振器が存在しないレーザシステム（すなわち「ＮＯＭＯ（no master oscillator）」システム）では、そのようなストロボバーストのエネルギは、「オン」状態と「オフ」状態との間でレーザを切り換えるようにＲＦポンプ電力を制御することによって達成される。従って、下流での注入に渡されるエネルギ量は、このＲＦ電力ポンピングにより制御される。

【0016】

[25] ＭＯＰＡレーザシステム（すなわち主発振器及び電力増幅器を備えるシステムであり、プレパルス構成を有するもの、「ＭＯＰＡ＋ＰＰシステム」を含む）は、ＮＯＭＯシステムに比べ、パルス状レーザ源から高パワー出力を発生することができるので、いくつかの下流の用途には好ましい。しかしながら、ＭＯＰＡシステムにおける下流の注入は、ＮＯＭＯシステムよりも制御が簡単でない。これは、ＭＯＰＡシステムのレーザ起動時の動態（例えば温度に依存する発振）、及び／又はレーザパルス発生中の駆動レーザコンポーネント（例えばミラー及び／又はレンズ）の熱的な不安定性のためである。簡単に言うと、ＭＯＰＡ＋ＰＰシステムでは、電力増幅器に対するＲＦ信号をオンに切り換えた直後のある時間期間は、適切な安定したレベルのＥＵＶの生成ができないことが観察されている。このため、ＭＯＰＡ＋ＰＰレーザシステムを「オン」状態と「オフ」状態との間で循環させることは、下流の用途向けにＥＵＶ注入を制御するための方法として特に実際的でもなく効率的でもない。

【0017】

[26] 様々な実施形態を参照して本明細書において説明するように、問題となるレーザ起動は、レーザを連続的にパルス発生させること、すなわちレーザシステムを「オン」に保つ（すなわちＲＦ信号ゲートを連続的な「オン」状態に維持する）ことによって回避し得る。レーザを「オン」状態と「オフ」状態との間で切り換えるのでなく、レーザビームパルスのタイミングを調整する手順によってエネルギ出力レベルを制御することで、パルスの全てではないが一部が一次焦点において小滴を照射することを可能とする。いくつの小滴がレーザビームパルスによって照射されるかを調節することで、出力エネルギ線量を、所望の（かつ安定した）線量ターゲットレベルに維持することができる。

【0018】

[27] 更に具体的には、駆動レーザ（例えばＭＯＰＡ）を「オン」に切り換えて長いパルスバースト（例えば２秒）を発射し、次いで短時間「オフ」に切り換え、次いで「オン」に切り換えて長いパルスバーストを発射する等とする。長いバースト内で、駆動レーザは、ストロボで発射するように、すなわち各々が所定数の高速パルスを有する短いミニバースト（又は「パケット」）を連続的に発射するように、タイミング調整される。各パケットの間、パルスは一次焦点で小滴にレーザ光を当てるようにタイミング調整され、これによってＥＵＶエネルギを発生し、これをＥＵＶの線量ターゲットが達成されるまで続ける。いったんパケット内で発生させたＥＵＶエネルギが線量ターゲットに達すると、パケットの残りの間は小滴にレーザ光を当てないようにパルスの発射のタイミングを調整し、これによってパケットのこの部分での追加のＥＵＶ光発生を防ぐ。パケットごとに（すなわちパケット間で）、以前のパケットから計算した注入エラー（すなわち、達成された線量がどのくらい線量ターゲットと異なるか）を用いて、次のパケットのために線量ターゲットを微調整する。

【0019】

[28] あるいは、駆動レーザ（例えばＭＯＰＡ）は、長いパルスバーストの間じゅう連続的に発射する（すなわち連続バーストモードで発射する）ようにタイミング調整することができる。各バーストの間、パルスは一次焦点で小滴にレーザ光を当てるようにタイミング調整され、これによってＥＵＶエネルギを発生し、これを、バースト内で蓄積された線量エラー（すなわち得られたＥＵＶエネルギの所望エネルギ線量ターゲットからの逸脱）が許容可能なエラーレベル未満である限り続ける。いったん、バーストで蓄積された線量エラー（蓄積バーストエラー）が許容可能なエラーレベル以上になったら、次のパルスは小滴にレーザ光を当てないように発射のタイミングを調整し、これによって蓄積バーストエラーを許容可能なレベルまで引き下げる。バーストの線量エラーが許容可能なレベルである場合、次のパルスは、再び一次焦点で小滴にレーザ光を当てるようにタイミング調整され、これによってＥＵＶエネルギを発生させる。

【0020】

[29] 従って、本明細書に記載する方法は、所望の線量ターゲットが得られるようにパルスのタイミングを調節する。例えば、パルスが５０，０００パルス／秒のレートで発射され、全てのパルスが小滴上に発射される場合、３５ワットの平均パケット出力が達成される。しかしながら、線量ターゲットが３０ワットでしかない場合、本明細書に記載する方法は、パルスレートが６０，０００パルス／秒であっても、達成される線量を３０ワットに制限する方法を提供する。

【0021】

[30] 図１は、典型的なＬＰＰ ＥＵＶシステム１００のコンポーネントの一部を示す。ＣＯ_２レーザ等の駆動レーザ１０１はレーザビーム１０２を生成し、レーザビーム１０２はビームデリバリシステム１０３及び合焦光学部品１０４を通過する。合焦光学部品１０４は、ＬＰＰ ＥＵＶ放射源プラズマチャンバ１１０内の照射箇所に一次焦点１０５を有する。小滴発生器１０６は適切なターゲット材料の小滴１０７を生成して放出し、小滴１０７は照射箇所においてレーザビーム１０２に衝突すると、ＥＵＶ光を発するプラズマを生成する。ＥＵＶ光は楕円コレクタ１０８によって収集され、楕円コレクタ１０８は、生成したＥＵＶ光を例えばリソグラフィシステムに送出するため、プラズマからのＥＵＶ光を中間焦点１０９に合焦させる。中間焦点１０９は典型的に、ＥＵＶ光に露光されるウェーハのボートを含むスキャナ（図示せず）内にあり、ここではウェーハを含むボートの一部が中間焦点１０９を通った光によって照射されている。いくつかの実施形態においては、多数の駆動レーザ１０１が存在し、それらのビームが全て合焦光学部品１０４上に合焦し得る。ＬＰＰ ＥＵＶ光源の１つのタイプでは、反射防止コーティングが施されて約６インチから８インチの開口を有するＣＯ_２レーザ及びセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）レンズを用いることができる。

【0022】

[31] ＬＰＰ ＥＵＶシステムから出力されるエネルギは、レーザビーム１０２がどのくらい良好に合焦され得るか、及び小滴発生器１０６によって発生した小滴１０７上に経時的に焦点を維持し得るかに基づいて、様々に変動する。小滴がレーザビーム１０２と衝突する時に一次焦点１０５に位置決めされていれば、ＥＵＶシステム１００から最適なエネルギが出力される。そのような液滴の位置決めによって、楕円コレクタ１０８は、発生したプラズマから最大量のＥＵＶ光を収集し、例えばリソグラフィシステムに送出することができる。センサ（図示せず、例えば狭視野（ＮＦ）カメラ）は、小滴が小滴発生器１０６からレーザカーテンを通過して一次焦点１０５へと進むのを検知し、小滴ごとのフィードバックをＥＵＶシステム１００に供給する。この小滴ごとのフィードバックを用いて、小滴発生器１０６を調整し、小滴１０７を一次焦点１０５に再び位置合わせする（すなわち「オンターゲット（on-target）」にする）。

【0023】

[32] ストロボ又は連続バーストモードにおいて駆動レーザ１０１を発射する場合、ＥＵＶシステム１００は、当技術において既知の技法に従って、閉ループ（小滴ごと）フィードバックを用いて小滴１０７を適度にオンターゲットに維持する。しかしながら、小滴がどのくらい良好にオンターゲットに維持されるかとは無関係に、１パケット中に生成される合計エネルギは、照射される各小滴が発生するエネルギ量のランダムな変動のために様々に変わり得る。これらのランダムな変動によって、一定の線量ターゲット出力を維持することが難しくなる。しかしながら、一定レベルの出力エネルギを維持することは下流の目的のために重要である。一定レベルの出力エネルギを維持することができなければ、下流の例えばリソグラフィスキャナ内での出力エネルギの使用は、シリコンウェーハのパターニングに悪影響を及ぼす。

【0024】

[33] 一次焦点への小滴の到着と一次焦点へのレーザの到着との間のタイミングを調整することによって、バースト発射中に発生するエネルギを確実に一定のレベルに維持することができる。これについて、図２、図３、及び図４を参照してこれより説明する。図２及び図３はそれぞれ、レーザが小滴を照射するパルスを発する（すなわち「小滴上（on-droplet）」のパルス）ように、及び小滴の照射を回避するパルスを発する（「小滴外れ（off-droplet）」のパルス）ようにタイミング調整された場合の、バースト発射中の小滴１０７の向きを概略的に示す。図４は、小滴を照射するレーザパルス発生期間中、及び小滴の照射を回避するタイミングをずらしたレーザパルス発生期間中に発生したエネルギを経時的に示すグラフである。

【0025】

[34] 最初に図２を参照すると、レーザが小滴上パルスを発するようにタイミング調整された場合（「小滴上パルス発生」）、レーザビーム１０２のパルスは一次焦点１０５において小滴１０７に衝突し、小滴１０７のターゲット材料は気化し、一次焦点１０５においてプラズマ２０２が発生する。プラズマ２０２から発したＥＵＶエネルギは、楕円コレクタ１０８によって収集され、中間焦点１０９に反射されて、例えばリソグラフィシステム内に渡されるか又はリソグラフィシステムによって用いられる。図４に示すように、小滴上パルス発生４０１の間に発生したＥＵＶエネルギは、概して平均エネルギ値（ここでは約０．４５ｍＪ）の周りに集まっているが、小滴ごとに発生するエネルギのランダムな変動のために極めてばらつきが大きい。このばらつきのために、いずれかの所与のパケットから得られるエネルギ線量が、所望の一定のＥＵＶ線量ターゲットから離れてしまい、従って下流の動作に悪影響を及ぼす可能性がある。

【0026】

[35] ここで図３を参照すると、小滴外れのパルスを発するようにレーザパルスのタイミングをずらしている場合（「小滴外れパルス発生」）、レーザビーム１０２のパルスは小滴と小滴との間で一次焦点１０５を通過するので、小滴のターゲット材料は気化されず、一次焦点１０５においてプラズマは発生しない。ＭＯＰＡ＋ＰＰシステムでは、レーザビーム１０２が小滴１０７に衝突することなく一次焦点１０５を通過するように、パルス発生をトリガするタイミングを進ませるか又は遅らせることができる。従って図４に示すように、小滴外れパルス発生４０２の場合、ＥＵＶエネルギはほとんど又は全く生成されない。

【0027】

[36] ストロボ発射のための本明細書に記載する方法の実施形態は、パケット内のパルスごとに、現在のパケットの所望のエネルギ線量ターゲットが達成されたか否かを判定する。従って、パケット内の小滴にレーザ光を当てた後、そのパケットの合計エネルギ線量を計算し、所望のエネルギ線量ターゲットと比較する。所望のエネルギ線量ターゲットが達成されていない場合、次のパルスのために駆動レーザをトリガするタイミングを、次の小滴上でレーザ光が当たるように調整する。所望のエネルギ線量ターゲットが達成された場合、次のパルスのために駆動レーザをトリガするタイミングをずらして、次の小滴へのレーザ光を小滴外れにすることで、現在のパケット内で追加のエネルギが発生しないようにする。パケット間で（すなわちパケットごとに）、現在のパケットからの計算された線量エラーを、以前のパケットからの線量エラーと合わせて蓄積し、次のパケットについて線量ターゲットを微調整するための「サーボ（servo）」として用いる。

【0028】

[37] 図５のブロック図は、一実施形態による、発生させたＥＵＶ光の線量制御に関与するＥＵＶシステムのコンポーネントを示す。レーザコントローラ５０２は、レーザ１０１を駆動するトリガをタイミング調整して小滴上パルスを発生させ、小滴が照射されるとＥＵＶエネルギを発するプラズマを生成するようになっている。収集されたＥＵＶエネルギの量は、パルスごとにエネルギ出力センサ５０１によって検知されてレーザコントローラ５０２に渡され、レーザコントローラ５０２は、現在のパケットの間に発生する合計ＥＵＶエネルギの現時点までの合計を蓄積する。センサ５０１は、例えばレーザビーム１０２に対して９０度に位置決めされたＥＵＶサイドセンサのようなＬＰＰ ＥＵＶ放射源プラズマチャンバ１１０内のセンサであるか、又は中間焦点１０９を通過したエネルギを測定するスキャナ内のセンサである。蓄積されたＥＵＶが線量ターゲットに等しくなるか又はわずかにでも（minimally）線量ターゲットを超えると、レーザコントローラ５０２はレーザ１０１を駆動するトリガのタイミングをずらして、駆動レーザ１０１が小滴外れのパルスを発生することで追加のＥＵＶエネルギ生成を回避するようになっている。駆動レーザ１０１は、現在のパケットの残りの間、小滴外れのパルス発生を継続する。現在のパケットが完了すると、レーザコントローラ５０２は現在のパケットの線量エラーを計算し、その線量エラーを以前のパケットからの線量エラーと合わせて蓄積する。次いでコントローラ５０２は、蓄積した線量エラーに基づいて線量ターゲットを調整する。次のパケットでは、このターゲットに対して、蓄積された達成ＥＵＶエネルギが比較される。

【0029】

[38] ストロボパルス発生のための本明細書に開示するレーザビームパルスタイミング調整方法の実施形態は、パケット内のパルスの一部を小滴外れで発射することによって、平均ＥＵＶを調節する。例えばパルスエネルギが増大した場合は、同じ平均ＥＵＶを維持するために、小滴上に発射するパルスの数（パルスカウント）を減らす。時間と共に、発生するＥＵＶエネルギのランダムな変動がよりいっそう理解されるので、小滴外れでレーザ光を生成する時間を最小限に抑えるようにパケットサイズを調節することができる。

【0030】

[39] ここで図６を参照すると、一実施形態による、レーザビームパルスをタイミング調整してストロボＥＵＶ線量を制御する方法のフローチャートが示されている。以下のステップを開始する前に、バーストの各パケット内で達成するＥＵＶエネルギの線量ターゲット（すなわちパケットエネルギを調節する設定点）、及びパケットサイズ（すなわち各パケット内の合計パルス数）を、ユーザによって入力するか、又はシステムによって決定する。

【0031】

[40] パケットサイズは、ＥＵＶエネルギ線量の制御が可能である最小パケットサイズであるように選択することが好ましい。パケットサイズが小さすぎる場合（例えば１又は２の小滴）、ＥＵＶエネルギ線量を適切に制御するために充分な数の小滴についてパルス発生のタイミングをずらすことができない場合がある。パケットサイズが大きすぎる場合（例えば１０００の小滴）、パケット全体を通して制御不可能なエラーが（例えば図４に示すように）蓄積し、その結果、下流の注入のために発生させるＥＵＶの量を良好に制御することができない。このため、パケットサイズは理想的には、パルスタイミングの調節をパケット後部の小滴でのみ実行し得るように選択される。例えば、平均して４０の小滴で適切な線量を達成可能である場合、５０の小滴のパケットサイズが適切であり得る（この場合、パルスのタイミングずれを最後の１０の小滴で実行すればよい）。

【0032】

[41] ステップ６０１において、レーザコントローラ５０２は、現在のパケットの線量サーボ値を設定する。線量サーボ値は、以前のパケットにより生成された線量エネルギの関数として線量ターゲットを増大又は低減させる調整率である。すなわち、所望の線量ターゲットは、以前のパケットからのエラーにより（本明細書の他の箇所で検討するように）決定される線量サーボ値によって微調整される。一実施形態では、最初のパケットの線量サーボ値はゼロに設定する。

【0033】

[42] いったん線量サーボ値を設定したら、パケットのレーザパルス発射を開始することができる。ステップ６０２から６０７は、パルスごとに、すなわちパケットの各パルスについて実行する。

【0034】

[43] ステップ６０２において、レーザコントローラ５０２は、小滴上パルスを発生させるように駆動レーザ１０１に対するトリガをタイミング調整して、レーザビーム１０２が一次焦点１０５で小滴１０７を照射するようにする。

【0035】

[44] ステップ６０３において、センサ５０１は、ステップ６０２での小滴１０７の照射によってどのくらいのＥＵＶエネルギが発生されたかを検知する。

【0036】

[45] ステップ６０４において、レーザコントローラ５０２は、ステップ６０３で検知したＥＵＶエネルギを、パケットの最初のパルス以降に（すなわちステップ６０１以降に）発生したＥＵＶの現時点までの合計に加えることで、ＥＵＶエネルギを蓄積する。

【0037】

[46] ステップ６０５において、レーザコントローラ５０２は、ステップ６０４の蓄積ＥＵＶエネルギが調整線量ターゲットに等しいか又はわずかにでもそれより大きいか否かを判定する。調整線量ターゲットは、線量ターゲット及びステップ６０１の線量サーボ値の和である。蓄積ＥＵＶエネルギは、様々な理由のために調整線量ターゲットよりわずかに大きい場合がある。様々な理由とは例えば、照射された各小滴により発生するＥＵＶのランダムな変動、及び／又は照射された各小滴により発生するエネルギが（ランダムな変動は存在しないとしても）一定の均一な値でないことである。蓄積ＥＵＶエネルギがステップ６０１の調整線量ターゲット未満である場合、レーザコントローラ５０２はステップ６０２に戻って、別の小滴上パルスをトリガし、ステップ６０３、６０４、及び６０５を繰り返す。

【0038】

[47] 蓄積ＥＵＶエネルギが調整線量ターゲット以上である場合、ステップ６０６において、レーザコントローラ５０２は、駆動レーザ１０１に小滴外れのパルスを発生させるようにトリガのタイミングをずらして、レーザビーム１０２が一次焦点１０５で小滴１０７を照射しないようにする。タイミングをずらすトリガは、小滴上パルスを発生させる次のトリガのタイミングに対して、すなわち、ステップ６０４の蓄積ＥＵＶエネルギが調整線量ターゲット未満であった場合の小滴上パルスを発生させる次のトリガのタイミングに対して、時間的に遅らせるか又は進ませることができる。

【0039】

[48] ステップ６０７において、レーザコントローラ５０２は、パケットが完了したか否か、すなわち駆動レーザ１０１により発射されたパルス数がパケットサイズに等しいか否かを判定する。レーザコントローラ５０２がパケットは完了していないと判定した場合、レーザコントローラ５０２はステップ６０６に戻って、別のパルスを小滴外れでトリガする。

【0040】

[49] レーザコントローラ５０２がパケットは完了したと判定した場合、ステップ６０８からステップ６１１及び別のステップ６０１を実行し、その後に次のパケットが開始する。

【0041】

[50] ステップ６０８において、レーザコントローラ５０２はパケットの線量エラーを計算する。線量エラーは、線量ターゲットからパケットで蓄積されたＥＵＶエネルギを引いたものとして定義され、数学的には以下のように表される。
線量エラー_パケット＝線量ターゲット−ΣＥＵＶ_パケット

【0042】

[51] ステップ６０９において、レーザコントローラ５０２は、パケットからの線量エラーを、以前のパケットからの線量エラーと合わせて蓄積する。

【0043】

[52] ステップ６１０において、レーザコントローラ５０２は、ステップ６０９で計算した蓄積線量エラーを用いて新しい線量サーボ値を計算する。一実施形態において、新しい線量サーボ値は以下のように計算される。
前のサーボ値＋（利得×蓄積線量エラー）
ここで、前のサーボ値はステップ６０１で設定した線量サーボ値である。利得は好ましくは１．０である。利得は０．０１から１００の間の範囲とすることができる。

【0044】

[53] ステップ６１１において、レーザコントローラ５０２は、次のパケットのための準備として蓄積ＥＵＶをゼロにリセットし、ステップ６０１に戻って、新しい線量サーボ値を次のパケットの線量サーボ値として設定する。

【0045】

[54] 重要なのは、パケットが一定の頻度で繰り返すことである。すなわち、１つのパケット内のいくつのパルスが一次焦点１０５で小滴に衝突したかとは無関係に、１つのパケット内のパルス数を発射した後、設定された時間にパケットが開始する。しかしながら、１つのパケット内で小滴に衝突するパルス数は、以前の小滴の照射によって発生したエネルギ量に基づいて変わるので、１つのパケット内で小滴に衝突する最後のパルスは、異なるパケット間では様々に変動し得る。

【0046】

[55] 更に、パケットは設定された数のパルスを有するので、図には示さないが、ステップ６０２から６０５のループの間にパルスの設定数に達すると、レーザに小滴外れのパルスを発生させるようにトリガのタイミングをずらす必要なくパケットは終了し得る（例えば、パケットの蓄積ＥＵＶエネルギがパケットの調整線量ターゲット未満である場合）。具体的には、レーザコントローラ５０２が、ステップ６０４でパケットのＥＵＶエネルギを蓄積した後に、パケットが完了したと判定した場合（すなわち、駆動レーザ１０１により発射したパルス数がパケットサイズに等しい場合）、レーザコントローラ５０２はステップ６０２に戻って駆動レーザ１０１に小滴上パルスを発生させるように別のトリガをタイミング調整するのではなく、ステップ６０８から６１１を実行した後に次のパケットが開始する。従って、レーザコントローラ５０２はパケットの線量エラーを計算し（ステップ６０８）、パケットからの線量エラーを以前のパケットからの線量エラーと合わせて蓄積し（ステップ６０９）、ステップ６０９で計算した蓄積線量エラーを用いて新しい線量サーボ値を計算し（ステップ６１０）、次のパケットのための準備として蓄積ＥＵＶをゼロにリセットした後にステップ６０１に戻って、新しい線量サーボ値を次のパケットのための線量サーボ値として設定する（ステップ６１１）。

【0047】

[56] 図７及び図８は、ＥＵＶ線量を制御するためのレーザビームパルスタイミング調整方法の一実施形態を用いて２秒バーストで発生したデータを示す時間整合グラフである。図７は、２秒バーストで達成されるエネルギ線量ターゲットを中心とした百分率変化を示す。図に見られる線量ターゲットを中心としたグラフの百分率線量エネルギ変化によって示されるように、パルスタイミング調整により制御されるパケット注入は、線量ターゲットの±０．５％内（すなわち図においてゼロの±０．５％内）で良好に達成される。

【0048】

[57] 図８の上枠は、２秒バーストで発生したパケットＥＵＶを示す。図からわかるように、エネルギは経時的に線量ターゲット（ここでは約２０ｍＪ）に維持され、線量ターゲットの±０．５％内に安定して維持されている。図８の下枠は、２秒バーストでの対応するパルスカウントを示す。各ひし形は、単一パケット内での小滴上パルス数のカウント（「パルスカウント」）を表す。例示的なパケットＥＵＶエネルギ（上枠）及びパケットパルスカウント（下枠）に、多数の小滴上パルス発生８０１及び多数の小滴外れパルス発生８０２（従って、小さいパルスカウント）を矢印によって示す。矢印で示すように、発生するＥＵＶエネルギのランダムな変動に応じて、一定のＥＵＶエネルギを達成するために必要なパルス数が少なくなり得る。

【0049】

[58] 連続バースト発射に適用された場合、本明細書に記載する方法の実施形態は、各バースト内のパルスごとに、各小滴について線量エラー（すなわち得られたＥＵＶエネルギが所望のエネルギ線量ターゲットから逸脱している量）を求める。線量エラーは、バーストが進むにつれて蓄積される。従って、バースト内で１つの小滴にレーザ光を当てた後、その小滴の線量エラーを計算し、そのバースト内のそれまでの小滴の線量エラーと合わせて蓄積する。バーストの蓄積線量エラー（すなわち「蓄積バーストエラー」）が許容可能なバーストエラーレベル（すなわち「閾値バーストエラー」）以上である場合、次のパルスでは駆動レーザに対するトリガのタイミングをずらして、次の小滴へのレーザ光を小滴外れとすることで追加のエネルギを発生しないようにする。追加のエネルギが発生しないので、次の小滴についての線量エラーは、蓄積バーストエラーを許容可能なレベルに（すなわち閾値バーストエラー未満に）戻すのに充分な大きさである。蓄積バーストエラーが閾値バーストエラー未満である場合、次のパルスの駆動レーザに対するトリガは、次の小滴へのレーザ光を小滴上に当てて追加のＥＵＶエネルギを発生させるようにタイミング調整される。

【0050】

[59] ここで図９を参照すると、一実施形態による、レーザビームパルスをタイミング調整して連続バースト発射中のＥＵＶ線量を制御する方法のフローチャートが示されている。以下のステップを開始する前に、各バースト内で達成するＥＵＶエネルギの線量ターゲット（すなわちバーストエネルギを調節する設定点）、及び閾値バーストエラー（すなわち許容可能なバーストエラーレベル）を、ユーザによって入力するか、又はシステムによって決定する。

【0051】

[60] いったん線量ターゲットを設定したら、ステップ９０１において、バーストのレーザパルス発射を開始することができる。ステップ９０２から９０８は、パルスごとに、すなわちバーストの各パルスについて実行する。

【0052】

[61] ステップ９０２において、レーザコントローラ５０２は、小滴上パルスを発生させるように駆動レーザ１０１に対するトリガをタイミング調整して、レーザビーム１０２が一次焦点１０５で小滴１０７を照射するようにする。

【0053】

[62] ステップ９０３において、センサ５０１は、ステップ９０２で現在の小滴１０７の照射によってどのくらいのＥＵＶエネルギが発生されたかを検知する。

【0054】

[63] ステップ９０４において、レーザコントローラ５０２は、現在の小滴１０７の現在の線量エラーを計算する。現在の線量エラーは、現在の小滴１０７の照射により発生した（そしてステップ９０３で検知された）ＥＵＶエネルギから線量ターゲットを引いたものとして定義され、数学的には以下のように表される。
現在の線量エラー＝ＥＵＶ_{現在の小滴}−線量ターゲット

【0055】

[64] ステップ９０５において、レーザコントローラ５０２は、ステップ９０４で計算した現在の線量エラーを、パケットの最初のパルス以降に（すなわちステップ９０１以降に）蓄積した線量エラーの現時点までの合計に加えることで、バーストエラーを蓄積する。現在の線量エラーは利得によって調整され、この利得は、０．０１から１００までの範囲とすることができるが、好ましくは１である。一実施形態において、蓄積されたバーストエラーは以下のように計算される。
現時点までのバーストエラー＋（利得×現在の線量エラー）
ここで、現時点までのバーストエラーは、バースト内でのそれまでの小滴から蓄積された線量エラーの現時点までの合計である。すなわち、現時点までのバーストエラーは、直前の小滴１０７についてステップ９０５で求められた蓄積バーストエラーである。現時点までのバーストエラーは、現在の小滴がバースト内の最初の小滴である場合はゼロに設定される。

【0056】

[65] ステップ９０６において、レーザコントローラ５０２はバーストが終了したか否かを判定する。レーザコントローラ５０２がバーストは終了したと判定した場合、レーザコントローラ５０２は、パルスタイミング調整方法を終える、及び／又はステップ９０１に戻って別のバーストを開始する。

【0057】

[66] ステップ９０６において、レーザコントローラ５０２がバーストは終了していないと判定した場合、次いでステップ９０７においてレーザコントローラ５０２は、ステップ９０５の蓄積バーストエラーがバーストエラー閾値以上であるか否かを判定する。バーストエラー閾値は、ユーザによって入力されるか又はシステムによって決定される。バーストエラー閾値は好ましくはゼロであるが、ゼロより大きいか又は小さい場合もある。

【0058】

[67] ステップ９０７においてレーザコントローラ５０２が、蓄積バーストエラーがバーストエラー閾値未満であると判定した場合、レーザコントローラ５０２はステップ９０２に戻り、駆動レーザ１０１に小滴上パルスを発生させるようにトリガのタイミングを調整して、レーザビーム１０２が一次焦点１０５において次の小滴１０７を照射するようにする。

【0059】

[68] ステップ９０７においてレーザコントローラ５０２が、蓄積バーストエラーがバーストエラー閾値以上であると判定した場合、次いでステップ９０８においてレーザコントローラ５０２は、駆動レーザ１０１に小滴外れのパルスを発生させるようにトリガのタイミングをずらして、レーザビーム１０２が一次焦点１０５において次の小滴１０７を照射しないようにする。タイミングをずらしたトリガは、レーザパルスが小滴の到達よりも早く又は遅く一次焦点に到達するように発射させることができる。

【0060】

[69] 次の小滴１０７について駆動レーザ１０１に小滴外れのパルスを発生させるようにトリガのタイミングをずらした後、レーザコントローラ５０２はステップ９０３に戻り、現在の小滴１０７の照射によってどのくらいのＥＵＶエネルギが発生したかを検知し、次いでステップ９０４において、次の小滴１０７のために現在の線量エラーを計算する。パルスのタイミングをずらしたために次の小滴１０７についてはＥＵＶが発生しないので、次の小滴１０７について計算された現在の線量エラーは、線量ターゲットと大きさが等しいが符号が逆である。例えば線量ターゲットが１．７５ｍＪである場合、計算された現在の線量エラーは−１．７５ｍＪ、すなわち１００％となり、照射された小滴についての線量ターゲットの周りのエラー（典型的に４０％よりはるかに小さい）に比べて極めて大きい。このため、ステップ９０５においてレーザコントローラ５０２が、次の小滴１０７についての比較的大きな現在の線量エラーを現時点までのバーストエラーに追加することでバーストエラーを蓄積すると、蓄積バーストエラーは典型的に、直前の小滴１０７の蓄積バーストエラーに比べて低減する。ステップ９０６において論理コントローラ５０２が、バーストは終了していないと決定したと仮定すると、ステップ９０７において論理コントローラ５０２は、蓄積バーストエラーがバーストエラー閾値以上であるか否かを判定する。レーザコントローラ５０２が、蓄積バーストエラーがこの時点でバーストエラー閾値未満であると判定した場合、レーザコントローラ５０２はステップ９０２に戻り、駆動レーザ１０１に小滴上パルスを発生させるようにトリガをタイミング調整して、レーザビーム１０２が一次焦点１０５で別の小滴１０７（この時点で現在の小滴１０７になる）を照射するようにし、図９のプロセスはそのステップから繰り返す。レーザコントローラ５０２が、蓄積バーストエラーがバーストエラー閾値以上であると判定した場合は、次いでステップ９０８において、レーザコントローラ５０２は駆動レーザ１０１に小滴外れのパルスを発生させるようにトリガのタイミングをずらして、レーザビーム１０２が一次焦点１０５で次の小滴１０７を照射しないようにし、次いで再びステップ９０３に戻って、どのくらいのＥＵＶエネルギが発生されたかを検知する。次いで図９のプロセスはその時点から繰り返す。

【0061】

[70] 別の実施形態においては、ステップ９０４の現在の線量エラーは、線量ターゲットから、現在の小滴１０７の照射によって発生した（そしてステップ９０３で検知された）ＥＵＶエネルギを引いたものとして定義され、数学的には以下のように表される。
現在の線量エラー＝線量ターゲット−ＥＵＶ_{現在の小滴}

【0062】

[71] この実施形態では、ステップ９０５における蓄積バーストエラーの計算中に、（上述の実施形態の正の利得ではなく）負の利得を用いて現在の線量エラーを調整する。利得は−０．０１から−１００の間の範囲であり得るが、好ましくは−１である。

【0063】

[72] この方法の態様が、パルスごとにバーストエラーを許容可能バーストエラー閾値と比較し、バースト全体でバーストエラーを蓄積して、次のパルスのタイミングをずらすことでエネルギ発生を制御するか否かの判定を行うという目的を達成するために内部で一貫している限り、これよりも直観的に満足度が低い他の実施形態も可能である（好適ではないが）ことは当業者には認められよう。具体的には、現在の線量エラー計算の数学的処理（ステップ９０４）、及び蓄積バーストエラーを計算する際に現在の線量エラーに適用される利得（ステップ９０５）は、相互に一貫していなければならず、蓄積バーストエラーの閾値バーストエラーとの比較（ステップ９０７）から得られる決定ルール結果と一貫していなければならない。

【0064】

[73] 図１０は、一実施形態による、ＥＵＶ線量を制御するためのレーザビームパルスタイミング調整を用いて連続バースト中に発生させた時間整合ＥＵＶエネルギ（上枠）及びエネルギ線量（下枠）のスライディングウィンドウを示す。上枠に見られるように、ほとんどのパルスは小滴上に発射された（例えば小滴上パルス１００１）が、ある数のパルスは、線量ターゲット１００３（この図では約１．７５ｍＪ）の周りのエラーを制御するために小滴外れに発射された（例えば小滴外れパルス１００２等、０ｍＪ ＥＵＶを発生するパルスによって示されるように）。この結果、下枠に示すように、一定の注入１００４が約１．７５ｍＪで達成され、参照番号１００５によって示されるように線量ターゲット１００３の±０．５％内に良好に維持された。

【0065】

[74] 理想的には、ターゲットの条件が正しく、駆動レーザが適切な性能を有するならば、本明細書に記載するレーザビームパルスタイミング調整方法の実施形態は、線量ターゲットの±０．５％内に線量エネルギを維持することができると考えられる。

【0066】

[75] 当技術分野において既知の多種多様な機構によってレーザパルスのタイミングをはずし得ることは、当業者には認められよう。例えば駆動レーザは、レーザパルスが小滴の到達よりも早く又は遅く一次焦点に到達するように発射させることができる。あるいは、システムシャッタ（例えば電気光学変調器又は音響光学変調器）のタイミングを変更することで、増幅器のシード（seed）及びシステム利得の低減のために充分な低レベルの連続波光を通過させることができる。好適な実施形態では、シャッタを早く閉じることで、小滴に対してレーザビームを進ませる。

【0067】

[76] 当技術分野において既知のように、ＭＯＰＡ＋ＰＰレーザシステムは、プレパルス及びメインパルスの双方を発する。レーザが小滴上のパルスを発する場合はメインパルス及びプレパルスの双方を用いて小滴にレーザ光を当てること、レーザが小滴外れのパルスを発する場合はメインパルス及びプレパルスのいずれも小滴にレーザ光を当てるために用いられないこと、は当業者には認められよう。

【0068】

[77] 開示する方法及び装置について、いくつかの実施形態を参照して上述した。本開示に照らし合わせて、他の実施形態も当業者には明らかであろう。記載した方法及び装置のいくつかの態様は、上述の実施形態に記載したもの以外の構成を用いて、又は上述したもの以外の要素と組み合わせても、容易に実施可能である。

【0069】

[78] 更に、記載した方法及び装置は、プロセスとして、装置として、又はシステムとして等の多数の方法で実施可能であることは認められよう。本明細書に記載した方法は、そのような方法の実行をプロセッサに命令するためのプログラム命令によって実施可能である。そのような命令は、ハードディスクドライブ、フロッピディスク、コンパクトディスク（ＣＤ）もしくはデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等の光ディスク、フラッシュメモリ等のコンピュータ読み取り可能記憶媒体上に記録されるか、又はコンピュータネットワークにおいてプログラム命令が光通信リンク又は電子通信リンクを介して送信される。本明細書に記載した方法のステップの順序は変えることができ、その場合も本開示の範囲内であり得ることに留意すべきである。

【0070】

[79] ここに与える例は例示の目的のためだけのものであり、異なる慣習及び技法を用いて他の実施及び実施形態に拡張可能であることは理解されよう。多数の実施形態を記載するが、本明細書に開示した実施形態（複数の実施形態）に本開示を限定する意図はなく、反対に、当業者に明らかな全ての代替、変更、及び均等物を包含することが意図される。

【0071】

[80] この明細書において、本発明についてその具体的な実施形態を参照して記載したが、本発明がそれらに限定されないことは当業者には認められよう。上述の発明の様々な特徴及び態様は、個別に又は組み合わせて用いることができる。更に、本発明は、本明細書のいっそう広範な精神及び範囲から逸脱することなく、本明細書に記載したもの以上のいかなる数の環境及び用途においても利用することができる。従って、本明細書及び図面は、限定でなく例示として見なされるものとする。本明細書において用いる場合、「備える」「含む」及び「有する」という言葉は、技術のオープンエンドの用語として読まれることを特に意図していることは認められよう。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】