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特許 6441176出願番号 特願 2015-139011
基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 33位 457件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 27位 486件（※）
公報発行日 2018年12月19
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6441176 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
基板の超臨界乾燥に用いられる基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、超臨界処理の際、ウエハの表面に付着した液体を超臨界状態の流体に置換するために用いられるフッ素含有有機溶剤の種類を少なくすることができる基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体を提供することを目的とする。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、被処理体に対して、フッ素を含有しない有機溶剤からなる第１の溶剤を供給する工程と、前記被処理体に対して、常温で前記第１の溶剤と溶解することなく、かつ常温よりも高い温度で前記第１の溶剤と溶解するフッ素含有有機溶剤からなる第２の溶剤を供給するとともに、前記第１の溶剤および前記第２の溶剤を溶解温度以上まで加熱して前記第１の溶剤と前記第２の溶剤を溶解させながら前記第１の溶剤を前記第２の溶剤で・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本実施の形態によれば、ウエハの表面に付着した液体を超臨界処理により除去する際、使用すべきフッ素含有有機溶剤の種類をできる限り減らすことができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】図１は液処理装置の横断平面図。
【図2】図２は液処理装置に設けられている液処理ユニットの縦断側面図。
【図3】図３は液処理装置に設けられている超臨界処理ユニットの構成図。
【図4】図４は超臨界処理ユニットの処理容器の外観斜視図。
【図5】図５は本実施の形態の作用を示す図。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
Ｗ ウエハ
１ 液処理装置
２ 液処理ユニット
３ 超臨界処理ユニット
３Ａ 処理容器
４Ａ 超臨界流体供給部
５ 制御部
２１ アウターチャンバー
２３ ウエハ保持機構
２４ ノズルアーム
１２１ 第１の搬送機構
１６１ 第２の搬送機構
２０１ 処理液供給部
２０２ 有機溶剤供給部
２０３ フッ素含有有機溶剤供給部
２０５ ＦＦＵ
２３１ 薬液供給路
２４１ ノズル
３２２ ヒーター
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