特許第6481865号(P6481865)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6481865酸化物の前駆体、酸化物層、半導体素子、及び電子デバイス、並びに酸化物層の製造方法及び半導体素子の製造方法