【実施例】
【0095】
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。本発明は、実施例1の組成物と実施例2の組成物との混合物を含む。本発明は、実施例の組成物の少なくとも2つを混合した混合物をも含む。合成した化合物は、NMR分析などの方法により同定した。化合物、組成物、および素子の特性は、下記に記載した方法により測定した。
【0096】
NMR分析:測定には、ブルカーバイオスピン社製のDRX−500を用いた。
1H−NMRの測定では、試料をCDCl
3などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、500MHz、積算回数16回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。
19F−NMRの測定では、CFCl
3を内部標準として用い、積算回数24回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、sはシングレット、dはダブレット、tはトリプレット、qはカルテット、quinはクインテット、sexはセクステット、mはマルチプレット、brはブロードであることを意味する。
【0097】
ガスクロマト分析:測定には島津製作所製のGC−14B型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム(2mL/分)である。試料気化室を280℃に、検出器(FID)を300℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムDB−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm;固定液相はジメチルポリシロキサン;無極性)を用いた。このカラムは、200℃で2分間保持したあと、5℃/分の割合で280℃まで昇温した。試料はアセトン溶液(0.1質量%)に調製したあと、その1μLを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のC−R5A型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
【0098】
試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のHP−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)、Restek Corporation製のRtx−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)、SGE International Pty. Ltd製のBP−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリカラムCBP1−M50−025(長さ50m、内径0.25mm、膜厚0.25μm)を用いてもよい。
【0099】
組成物に含有される液晶性化合物の割合は、次のような方法で算出してよい。液晶性化合物の混合物をガスクロマトグラフィー(FID)で分析する。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は液晶性化合物の割合に相当する。上に記載したキャピラリカラムを用いたときは、各々の液晶性化合物の補正係数を1とみなしてよい。したがって、液晶性化合物の割合(質量%)は、ピークの面積比から算出することができる。
【0100】
測定試料:組成物または素子の特性を測定するときは、組成物をそのまま試料として用いた。化合物の特性を測定するときは、この化合物(15質量%)を母液晶(85質量%)に混合することによって測定用の試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。(外挿値)={(試料の測定値)−0.85×(母液晶の測定値)}/0.15。この割合でスメクチック相(または結晶)が25℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を10質量%:90質量%、5質量%:95質量%、1質量%:99質量%の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度、および誘電率異方性の値を求めた。
【0101】
下記の母液晶を用いた。成分化合物の割合は質量%で示した。
【0102】
測定方法:特性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会(Japan Electronics and Information Technology Industries Association;JEITAという)で審議制定されるJEITA規格(JEITA・ED−2521B)に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたTN素子には、薄膜トランジスター(TFT)を取り付けなかった。
【0103】
(1)ネマチック相の上限温度(NI;℃):偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、1℃/分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
【0104】
(2)ネマチック相の下限温度(T
C;℃):ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、0℃、−10℃、−20℃、−30℃、および−40℃のフリーザー中に10日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−20℃ではネマチック相のままであり、−30℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、T
Cを<−20℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【0105】
(3)粘度(バルク粘度;η;20℃で測定;mPa・s):測定には東京計器株式会社製のE型回転粘度計を用いた。
【0106】
(4)粘度(回転粘度;γ1;25℃で測定;mPa・s):測定には、東陽テクニカ株式会社の回転粘性率測定システムLCM−2型を用いた。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が10μmのVA素子に試料を注入した。この素子に矩形波(55V、1ms)を印加した。この印加によって発生した過渡電流(transient current)のピーク電流(peak current)とピーク時間(peak time)を測定した。これらの測定値および誘電率異方性を用いて、回転粘度の値を得た。誘電率異方性は、測定(6)に記載された方法で測定した。
【0107】
(5)光学異方性(屈折率異方性;Δn;25℃で測定):測定は、波長589nmの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率n‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率n⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δn=n‖−n⊥、の式から計算した。
【0108】
(6)誘電率異方性(Δε;25℃で測定):誘電率異方性の値は、Δε=ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率(ε‖およびε⊥)は次のように測定した。
1)誘電率(ε‖)の測定:よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン(0.16mL)のエタノール(20mL)溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、150℃で1時間加熱した。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が4μmであるVA素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波(0.5V、1kHz)を印加し、2秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率(ε‖)を測定した。
2)誘電率(ε⊥)の測定:よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が9μmであり、ツイスト角が80度であるTN素子に試料を入れた。この素子にサイン波(0.5V、1kHz)を印加し、2秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率(ε⊥)を測定した。
【0109】
(7)しきい値電圧(Vth;25℃で測定;V):測定には大塚電子株式会社製のLCD5100型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が4μmであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード(normally black mode)のVA素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧(60Hz、矩形波)は0Vから20Vまで0.02Vずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率100%であり、この光量が最小であったときが透過率0%である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が10%になったときの電圧で表した。
【0110】
(8)電圧保持率(VHR−1;60℃で測定;%):測定に用いたTN素子はポリイミド配向膜を有し、そして2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)は5μmであった。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このTN素子にパルス電圧(1Vで60マイクロ秒)を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で1000ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Aを求めた。面積Bは減衰しなかったときの面積であった。電圧保持率は面積Bに対する面積Aの百分率で表した。
【0111】
(9)電圧保持率(VHR−2;60℃で測定;%):LEDバックライト上に2週間静置したあと、電圧保持率を測定し、LEDバックライトに対する安定性を評価した。測定に用いたTN素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは5μmであった。VHR−2の測定では、1000ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなVHR−2を有する組成物はLEDバックライトに対して大きな安定性を有する。
【0112】
(10)電圧保持率(VHR−3;60℃で測定;%):LEDバックライト上に2週間静置したあと、電圧保持率を測定し、LEDバックライトに対する安定性を評価した。測定に用いたTN素子は光配向膜を有し、そしてセルギャップは4μmであった。VHR−3の測定では、3ミリ秒のあいだ減衰する電圧を測定した。大きなVHR−3を有する組成物はLEDバックライトに対して大きな安定性を有する。
【0113】
(11)応答時間(τ;25℃で測定;ms):測定には大塚電子株式会社製のLCD5100型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプであった。ローパス・フィルター(Low-pass filter)は5kHzに設定した。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が4μmであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード(normally black mode)のVA素子に試料を入れた。この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に矩形波(60Hz、10V、0.5秒)を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率100%であり、この光量が最小であったときが透過率0%であるとみなした。応答時間は透過率90%から10%に変化するのに要した時間(立ち下がり時間;fall time;ミリ秒)で表した。
【0114】
(12)比抵抗(ρ;25℃で測定;Ωcm):電極を備えた容器に試料1.0mLを注入した。この容器に直流電圧(10V)を印加し、10秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。(比抵抗)={(電圧)×(容器の電気容量)}/{(直流電流)×(真空の誘電率)}。
【0115】
(13)線残像(Line Image Sticking Parameter;LISP;%):液晶表示素子に電気的なストレスを与えることによって線残像を発生させた。線残像のある領域の輝度と残りの領域の輝度を測定した。線残像によって輝度が低下した割合を算出し、この割合によって線残像の大きさを表した。
13a)輝度の測定:イメージング色彩輝度計(Radiant Zemax社製、PM-1433F-0)を用いて素子の画像を撮影した。この画像をソフトウエア(Prometric 9.1、Radiant Imaging社製)を用いて解析することによって素子の各領域の輝度を算出した。光源は平均輝度 3500 cd/m
2のLEDバックライトを用いた。
【0116】
13b)ストレス電圧の設定:セルギャップが3.5μmであり、マトリクス構造を有するFFS素子(縦4セル×横4セルの16セル)に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。偏光軸が直交するように、この素子の上面と下面にそれぞれ偏光板を配置した。この素子に光を照射し、電圧(矩形波、60Hz)を印加した。電圧は、0Vから7.5Vの範囲で0.1V毎に段階的に増加させ、各電圧での透過光の輝度を測定した。輝度が極大になったときの電圧をV255と略した。輝度がV255の21.6%になったとき(すなわち、127階調)の電圧をV127と略した。
【0117】
13c)ストレスの条件:素子に、60℃、23時間の条件でV255(矩形波、30Hz)と0.5V(矩形波、30Hz)を印加し、チェッカーパターンを表示させた。次に、V127(矩形波、0.25Hz)を印加し、露光時間4000ミリ秒の条件で輝度を測定した。
【0118】
13d)線残像の算出:16セルのうち、中央部の4セル(縦2セル×横2セル)を算出に用いた。この4セルを25領域(縦5セル×横5セル)に分割した。四隅にある4領域(縦2セル×横2セル)の平均輝度を輝度Aと略した。25領域から四隅の領域を除いた領域は、十字形であった。この十字形の領域から中央の交差領域を除いた4領域において、輝度の最小値を輝度Bと略した。線残像は次の式から算出した。(線残像)=(輝度A−輝度B)/輝度A×100.
【0119】
(14)拡がり性:添加物の拡がり性は、素子に電圧を印加し、輝度を測定することによって定性的に評価した。輝度の測定は、上記の項13aと同様に行った。電圧(V127)の設定は、上記の項14bと同様に行った。ただし、FFS素子の代わりにVA素子を用いた。輝度は次のように測定した。まず、素子に直流電圧(2V)を2分間印加した。次に、V127(矩形波、0.05Hz)を印加し、露光時間4000ミリ秒の条件で輝度を測定した。この結果から拡がり性を評価した。
【0120】
組成物の実施例を以下に示す。成分化合物は、下記の表3の定義に基づいて記号によって表した。表3において、1,4−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。記号の後にあるかっこ内の番号は、化合物の番号に対応する。(−)の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合(百分率)は、液晶組成物の質量に基づいた質量百分率(質量%)である。最後に、組成物の特性値をまとめた。
【0121】
【0122】
[比較例1]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
NI=101.7℃;Tc<−20℃;Δn=0.150;Δε=−4.3;γ1=253mPa・s;VHR−2=82.1%.
【0123】
比較例1の組成物に化合物(1−1−2)を添加した組成物を実施例1とした。
[実施例1]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.060質量%の割合で添加した。
NI=101.6℃;Tc<−20℃;Δn=0.150;Δε=−4.3;γ1=253mPa・s;VHR−2=90.3%.
【0124】
[実施例2]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=101.4℃;Tc<−20℃;Δn=0.150;Δε=−4.3;γ1=253mPa・s;VHR−2=93.7%.
【0125】
[実施例3]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 13%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 13%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 9%
V−HHB(2F,3F)−O1 (2−8) 4%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
3−HH−V (3−1) 20%
V−HBB−2 (3−6) 11%
3−HBB−2 (3−6) 14%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=74.5℃;Tc<−20℃;Δn=0.103;Δε=−2.9;γ1=94mPa・s;VHR−2=90.5%.
【0126】
[実施例4]
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
V−HHB(2F,3F)−O1 (2−8) 4%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 3%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
3−dhBB(2F,3F)−O2 (2−16) 6.5%
3−HB(2F)B(2F,3F)−O2 (2−18) 18%
V−HH−V (3−1) 35.5%
V−HHB−1 (3−5) 5%
V−HBB−2 (3−6) 5%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=80.2℃;Tc<−20℃;Δn=0.110;Δε=−3.0;γ1=73mPa・s;VHR−2=85.5%.
【0127】
[実施例5]
3−HB(2F,3F)−O4 (2−1) 6%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 5%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 10%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 4%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
3−HH−V (3−1) 11%
1−BB−3 (3−3) 6%
3−HHB−1 (3−5) 4%
3−HHB−O1 (3−5) 4%
3−HBB−2 (3−6) 4%
3−B(F)BB−2 (3−7) 4%
この組成物に化合物(1−1−1)を0.070質量%の割合で添加した。
NI=87.6℃;Tc<−20℃;Δn=0.126;Δε=−4.5;η=25.3mPa・s;VHR−2=89.6%.
【0128】
[実施例6]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 5%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 5%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (2−10) 5%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 3%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 9%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 4%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 4%
3−HH−V (3−1) 27%
3−HH−V1 (3−1) 6%
V−HHB−1 (3−5) 5%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=81.2℃;Tc<−20℃;Δn=0.107;Δε=−3.2;η=15.5mPa・s;VHR−2=91.3%.
【0129】
[実施例7]
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 8%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (2−10) 8%
2−HchB(2F,3F)−O2 (2−12) 8%
3−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 3%
5−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 4%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 7%
2−BB(2F,3F)B−4 (2−19) 7%
4−HH−V (3−1) 15%
3−HH−V1 (3−1) 6%
1−HH−2V1 (3−1) 6%
3−HH−2V1 (3−1) 4%
V2−BB−1 (3−3) 5%
1V2−BB−1 (3−3) 5%
3−HHB−1 (3−5) 3%
3−HB(F)BH−3 (3−12) 4%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=88.2℃;Tc<−20℃;Δn=0.115;Δε=−2.1;η=18.3mPa・s;VHR−2=92.2%.
【0130】
[実施例8]
V2−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
V2−H1OB(2F,3F)−O4 (2−3) 4%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 7%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 7%
5−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 4%
V−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 6%
V2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
V−HBB(2F,3F)−O4 (2−14) 6%
2−HH−3 (3−1) 12%
1−BB−5 (3−3) 12%
3−HHB−1 (3−5) 4%
3−HHB−O1 (3−5) 3%
3−HBB−2 (3−6) 3%
この組成物に化合物(1−2−1)を0.080質量%の割合で添加した。
NI=89.9℃;Tc<−20℃;Δn=0.122;Δε=−4.2;η=23.4mPa・s;VHR−2=87.0%.
【0131】
[実施例9]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 3%
V−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 3%
V2−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 5%
5−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 5%
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
1V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
V−HHB(2F,3F)−O4 (2−8) 5%
V2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
V−HHB(2F,3Cl)−O2 (2−11) 3%
V2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 4%
V−HBB(2F,3F)−O4 (2−14) 5%
V2−BB(2F,3F)B−1 (2−19) 4%
3−HH−V (3−1) 27%
3−HH−V1 (3−1) 6%
V−HHB−1 (3−5) 3%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.060質量%の割合で添加した。
NI=77.1℃;Tc<−20℃;Δn=0.101;Δε=−3.0;η=13.9mPa・s;VHR−2=85.3%.
【0132】
[実施例10]
3−HB(2F,3F)−O4 (2−1) 6%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 4%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 7%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 8%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
2−HH−3 (3−1) 12%
1−BB−3 (3−3) 6%
3−HHB−1 (3−5) 3%
3−HHB−O1 (3−5) 4%
3−HBB−2 (3−6) 6%
3−B(F)BB−2 (3−7) 3%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.080質量%の割合で添加した。
NI=93.0℃;Tc<−20℃;Δn=0.124;Δε=−4.5;η=25.0mPa・s;VHR−2=88.4%.
【0133】
[実施例11]
V−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 10%
V−HHB(2F,3F)−O1 (2−8) 7%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 9%
V2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 8%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 9%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
V−HBB(2F,3F)−O4 (2−14) 6%
3−HH−V (3−1) 15%
3−HH−V1 (3−1) 6%
2−HH−3 (3−1) 9%
3−HH−5 (3−1) 3%
1V2−HH−3 (3−1) 3%
この組成物に化合物(1−4−1)を0.060質量%の割合で添加した。
NI=87.5℃;Tc<−20℃;Δn=0.100;Δε=−3.4;η=18.9mPa・s;VHR−2=86.5%.
【0134】
[実施例12]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 5%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (2−10) 5%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 3%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 4%
3−HH−V (3−1) 33%
V−HHB−1 (3−5) 3%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=76.4℃;Tc<−20℃;Δn=0.104;Δε=−3.2;η=15.6mPa・s;VHR−2=91.2%.
【0135】
[実施例13]
2−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 6%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 4%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
2−HH1OB(2F,3F)−O2 (2−10) 14%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 11%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 9%
2−HH−3 (3−1) 5%
3−HH−VFF (3−1) 30%
1−BB−3 (3−3) 5%
3−HHB−1 (3−5) 3%
3−HBB−2 (3−6) 3%
この組成物に化合物(1−5−1)を0.070質量%の割合で添加した。
NI=78.3℃;Tc<−20℃;Δn=0.103;Δε=−3.2;η=17.7mPa・s;VHR−2=89.0%.
【0136】
[実施例14]
V−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 10%
V2−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 10%
2−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 3%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 3%
2O−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
V2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 5%
V−HHB(2F,3Cl)−O2 (2−11) 7%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 3%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 3%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
V−HBB(2F,3F)−O4 (2−14) 8%
3−HH−4 (3−1) 14%
V−HHB−1 (3−5) 10%
3−HBB−2 (3−6) 7%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.070質量%の割合で添加した。
NI=75.9℃;Tc<−20℃;Δn=0.114;Δε=−3.9;η=24.7mPa・s;VHR−2=86.6%.
【0137】
[実施例15]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 3%
2O−B(2F)B(2F,3F)−O2 (2−7) 5%
2O−B(2F)B(2F,3F)−O4 (2−7) 12%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 8%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 4%
3−dhBB(2F,3F)−O2 (2−16) 8%
3−HB(2F,3F)B−2 (2−17) 4%
3−HH−V (3−1) 33%
3−HH−V1 (3−1) 5%
3−HB−O2 (3−2) 3%
1−BB−3 (3−3) 3%
3−HHB−1 (3−5) 6%
2−BB(F)B−3 (3−8) 2%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.090質量%の割合で添加した。
NI=72.6℃;Tc<−20℃;Δn=0.105;Δε=−2.5;η=15.7mPa・s;VHR−2=88.9%.
【0138】
[実施例16]
3−HB(2F,3F)−O4 (2−1) 6%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
3−H1OB(2F,3F)−O2 (2−3) 4%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 7%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 7%
5−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 4%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
2−HH−3 (3−1) 12%
1−BB−5 (3−3) 12%
3−HHB−1 (3−5) 4%
3−HHB−O1 (3−5) 3%
3−HBB−2 (3−6) 3%
この組成物に化合物(1−3−1)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=82.8℃;Tc<−20℃;Δn=0.118;Δε=−4.4;η=22.5mPa・s;VHR−2=90.9%.
【0139】
[実施例17]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 7%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 5%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HH1OB(2F,3F)−O2 (2−10) 4%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 3%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 5%
3−HH−V (3−1) 27%
3−HH−V1 (3−1) 6%
V−HHB−1 (3−5) 3%
この組成物に化合物(1−8−1)を0.080質量%の割合で添加した。
NI=78.1℃;Tc<−20℃;Δn=0.107;Δε=−3.2;η=15.9mPa・s;VHR−2=92.0%.
【0140】
[実施例18]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 10%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 10%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
5−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 8%
3−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 5%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
3−HH−4 (3−1) 14%
V−HHB−1 (3−5) 10%
3−HBB−2 (3−6) 7%
この組成物に化合物(1−1−3)を0.080質量%の割合で添加した。
NI=88.5℃;Tc<−20℃;Δn=0.108;Δε=−3.8;η=24.6mPa・s;VHR−2=89.1%.
【0141】
[実施例19]
2O−B(2F)B(2F,3F)−O2 (2−7) 6%
2O−B(2F)B(2F,3F)−O4 (2−7) 13%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HHB(2F,3F)−1 (2−8) 4%
3−dhBB(2F,3F)−O2 (2−16) 5%
3−HB(2F)B(2F,3F)−O2 (2−18) 7%
V−H2BBB(2F,3F)−O2 (2−25) 5%
3−HH−V (3−1) 42%
3−HH−V1 (3−1) 5%
1−BB−3 (3−3) 3%
V−HHB−1 (3−5) 2%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.070質量%の割合で添加した。
NI=71.8℃;Tc<−20℃;Δn=0.103;Δε=−2.5;η=14.2mPa・s;VHR−2=86.4%.
【0142】
[実施例20]
3−HB(2F,3F)−O4 (2−1) 15%
3−chB(2F,3F)−O2 (2−5) 7%
2−HchB(2F,3F)−O2 (2−12) 8%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 8%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 5%
5−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
3−dhBB(2F,3F)−O2 (2−16) 5%
5−HH−V (3−1) 18%
7−HB−1 (3−2) 5%
V−HHB−1 (3−5) 7%
V2−HHB−1 (3−5) 7%
3−HBB(F)B−3 (3−13) 8%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.060質量%の割合で添加した。
NI=98.8℃;Tc<−20℃;Δn=0.111;Δε=−3.2;η=23.9mPa・s;VHR−2=87.7%.
【0143】
[実施例21]
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 18%
5−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 17%
3−HHB(2F,3Cl)−O2 (2−11) 5%
3−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 5%
3−HBB(2F,3Cl)−O2 (2−15) 8%
5−HBB(2F,3Cl)−O2 (2−15) 7%
3−HH−V (3−1) 11%
3−HH−VFF (3−1) 7%
3−HHEH−3 (3−4) 4%
3−HB(F)HH−2 (3−10) 4%
3−HHEBH−3 (3−11) 4%
F3−HH−V (−) 10%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.15質量%の割合で添加した。
NI=77.5℃;Tc<−20℃;Δn=0.084;Δε=−2.6;η=22.8mPa・s;VHR−2=91.2%.
【0144】
[実施例22]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 8%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−2) 10%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 10%
2O−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
2−HHB(2F,3F)−1 (2−8) 5%
3−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 6%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 4%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
3−dhBB(2F,3F)−O2 (2−16) 4%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 6%
2−BB(2F,3F)B−4 (2−19) 6%
3−HH1OCro(7F,8F)−5 (2−27) 4%
3−HH−V (3−1) 11%
1−BB−5 (3−3) 5%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=70.6℃;Tc<−20℃;Δn=0.129;Δε=−4.3;η=27.0mPa・s;VHR−2=89.3%.
【0145】
[実施例23]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 5%
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 8%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 7%
V−HHB(2F,3F)−O4 (2−8) 4%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 2%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
V−HBB(2F,3F)−O4 (2−14) 6%
2−BB(2F,3F)B−3 (2−19) 5%
V−HH−V (3−1) 24%
V−HH−V1 (3−1) 20%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=73.5℃;Tc<−20℃;Δn=0.106;Δε=−2.7;η=17.0mPa・s;VHR−2=90.5%.
【0146】
[実施例24]
3−DhB(2F,3F)−O2 (2−4) 5%
2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 9%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 9%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 6%
3−HDhB(2F,3F)−O2 (2−13) 14%
2−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 2%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 6%
V−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 7%
2−HH−3 (3−1) 19%
3−HHB−1 (3−5) 3%
V−HHB−1 (3−5) 10%
V2−HHB−1 (3−5) 10%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.060質量%の割合で添加した。
NI=86.0℃;Tc<−20℃;Δn=0.110;Δε=−3.8;η=22.9mPa・s;VHR−2=88.1%.
【0147】
[実施例25]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 11.5%
2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
V2−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 3%
3−BB(2F,3F)−O2 (2−6) 9%
2−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 8%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 6%
V−HHB(2F,3F)−O1 (2−8) 4%
V−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 9.5%
3−HH2B(2F,3F)−O2 (2−9) 6%
3−HH−V (3−1) 27%
3−HH−VFF (3−1) 4%
V−HBB−2 (3−6) 5%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.10質量%の割合で添加した。
NI=74.8℃;Tc<−20℃;Δn=0.096;Δε=−3.5;γ1=92mPa・s;VHR−3=83.3%
【0148】
[実施例26]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
この組成物に化合物(1−1−2)を0.50質量%の割合で添加した。
NI=99.3℃;Tc<−20℃;Δn=0.149;Δε=−4.3;γ1=247mPa・s;VHR−2=95.0%.
【0149】
[実施例27]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
この組成物に化合物(1−1−2)を1.00質量%の割合で添加した。
NI=97.0℃;Tc<−20℃;Δn=0.147;Δε=−4.2;γ1=241mPa・s;VHR−2=96.0%.
【0150】
[実施例28]
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 18%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 16.5%
3−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 10%
5−HHB(2F,3F)−O2 (2−8) 4.5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
4−HBB(2F,3F)−O2 (2−14) 12%
3−HHB−1 (3−5) 2%
3−HBB−2 (3−6) 6%
5−B(F)BB−2 (3−7) 10%
5−B(F)BB−3 (3−7) 9%
この組成物に化合物(1−1−2)を2.00質量%の割合で添加した。
NI=92.3℃;Tc<−20℃;Δn=0.144;Δε=−4.1;γ1=229mPa・s;VHR−2=96.2%.
【0151】
比較例1の組成物の電圧保持率(VHR−2)は、82.1%であった。一方、実施例1の組成物の電圧保持率(VHR−2)は、90.3%であった。このように、実施例の組成物は、比較例の組成物と比べて、大きな電圧保持率(VHR−2)を有している。したがって、本発明の液晶組成物は優れた特性を有すると結論される。