特許6573325プラズマ密度を制御するシステムおよび方法

発明の名称　プラズマ密度を制御するシステムおよび方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 36 位（567件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 20 位（743件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6573325

公報発行日　2019年9月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6573325

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