特許 6593507 パターン形成装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6593507

(24)【登録日】2019年10月4日

(45)【発行日】2019年10月23日

(54)【発明の名称】パターン形成装置

(51)【国際特許分類】

   B65H 20/10 20060101AFI20191010BHJP

   B65H 20/00 20060101ALI20191010BHJP

   B05C 13/02 20060101ALI20191010BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20191010BHJP

   B41J 11/02 20060101ALI20191010BHJP

   B65H 23/025 20060101ALI20191010BHJP

   B65H 23/192 20060101ALI20191010BHJP

   H01L 21/67 20060101ALI20191010BHJP

【ＦＩ】

   B65H20/10 B

   B65H20/00 Z

   B05C13/02

   B05C11/10

   B41J11/02

   B65H23/025

   B65H23/192

   H01L21/68

【請求項の数】5

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2018-171066(P2018-171066)

(22)【出願日】2018年9月13日

(62)【分割の表示】特願2017-85838(P2017-85838)の分割

【原出願日】2012年11月1日

(65)【公開番号】特開2018-199580(P2018-199580A)

(43)【公開日】2018年12月20日

【審査請求日】2018年9月13日

(31)【優先権主張番号】特願2012-84819(P2012-84819)

(32)【優先日】2012年4月3日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000004112

【氏名又は名称】株式会社ニコン

(74)【代理人】

【識別番号】100161207

【弁理士】

【氏名又は名称】西澤 和純

(74)【代理人】

【識別番号】100140774

【弁理士】

【氏名又は名称】大浪 一徳

(74)【代理人】

【識別番号】100175824

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 淳一

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 智也

【審査官】 佐藤 秀之

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−３０７１４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−０４６４５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０３８８９８０１（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１９４２９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００６／１００８６８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２００１／００５０１５４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−２３２４７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１６６３５９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ６５Ｈ ２０／００−２０／４０

Ｂ６５Ｈ ５／０２

Ｂ６５Ｈ ５／０６

Ｂ６５Ｈ ５／２２

Ｂ６５Ｈ ２９／１２−２９／２４

Ｂ６５Ｈ ２９／３２

Ｂ６５Ｈ ２３／００−２３／１６

Ｂ６５Ｈ ２３／２４−２３／３４

Ｂ６５Ｈ ２３／１８−２３／１９８

Ｂ６５Ｈ ２６／００−２６／０８

Ｂ４１Ｊ １１／００−１１／７０

Ｂ４１Ｊ ２９／００−２９／７０

Ｂ６５Ｇ ４９／００−４９／０８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

長尺の可撓性の基板を長尺方向に搬送して、前記基板の表面に電子デバイスの為のパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板よりも剛性が高い材料で薄板状に形成されると共に、前記基板の裏面を支持する支持面と該支持面の裏面とを貫通する貫通孔が前記長尺方向に沿って所定の間隔で複数形成された列を、前記長尺方向と直交する前記基板の幅方向に所定の間隔で複数列配置して無端状に形成されたベルト部と、
前記ベルト部を支持する複数のローラー部材によって、前記基板の長尺方向に沿って平坦な部分が形成するように前記ベルト部を駆動する駆動部と、
前記ベルト部の平坦な部分の裏面と対向する平坦な案内面を有し、該案内面のうちで前記貫通孔による前記列の複数の各々を含む複数の第一領域の各々に対向して配置される複数の気体吸引部と、前記ベルト部の裏面のうち、前記幅方向に関して前記複数の第一領域の各々と交互に設けられる複数の第二領域に対向して配置される複数の気体供給部とを備え、前記ベルト部の平坦な部分の裏面を前記案内面に対して非接触状態となるように保持するとともに、前記複数の貫通孔を介して前記基板の裏面を前記ベルト部の前記支持面に吸着させる保持機構と、
前記基板上に設定される処理領域に対応して配置されて、前記処理領域に前記パターンを形成する為の投影光学系、又は処理ヘッドを有する処理装置と、
前記ベルト部の表面を洗浄するベルト洗浄部と、
前記ベルト部の静電気を除去する第１の静電気除去部と、を備え、
前記基板の表面の前記複数の処理領域の各々に対応した部分を前記ベルト部の平坦な支持面で吸着支持しつつ、前記ベルト部の裏面を前記保持機構の案内面に沿って非接触で平坦に保持した状態で、前記基板を前記長尺方向に所定の速度で移動させながら、前記処理装置によって前記パターンを形成する、
パターン形成装置。

【請求項2】

請求項１に記載のパターン形成装置であって、
前記ベルト部の平坦な支持面に沿って前記基板を前記長尺方向に搬送すると共に、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の上流側又は下流側で、前記基板に幅方向と前記長尺方向との張力を付与する基板搬送機構を、更に備える
パターン形成装置。

【請求項3】

請求項２に記載のパターン形成装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の上流側に配置されて、前記基板の幅方向の張力を調整する第１の張力調整機構と、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の下流側に配置されて、前記基板の長尺方向の張力を調整する第２の張力調整機構と、を含む、
パターン形成装置。

【請求項4】

請求項３に記載のパターン形成装置であって、
前記基板搬送機構と前記駆動部とを制御し、前記基板の移動速度と前記ベルト部の移動速度とを同期させる制御装置を、更に備える、
パターン形成装置。

【請求項5】

請求項１〜４のいずれか一項に記載のパターン形成装置であって、
前記基板が前記ベルト部の前記支持面に接触して吸着支持される前に、前記基板に帯電した静電気を除去する第２の静電気除去部を、更に備える、
パターン形成装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、パターン形成装置に関する。
本願は、２０１２年４月３日に出願された日本国特願２０１２−０８４８１９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

【背景技術】

【0002】

ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。これらの素子が組み込まれるディスプレーパネル等の電子デバイスを作製する手法の１つとして、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。

【0003】

ロール方式は、基板供給側のローラーに巻かれた１枚のシート状の基板を送り出すと共に、送り出された基板を基板回収側のローラーで巻き取りながら基板を搬送し、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、電子デバイス（表示画素回路、ドライバ回路、配線等など）の為のパターンを基板上に順次形成する手法である。近年では、高精度のパターンを形成する処理装置が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】国際公開第２００６／１００８６８号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、更なるパターンの高精度化や表示パネルの高精細化に対応する場合、基板の搬送精度を高めることが求められる。例えば、処理装置によって処理が行われている間、基板の表面を一定の状態に維持した状態で搬送することが求められている。

【0006】

本発明の態様は、基板の表面を一定の状態に維持した状態で搬送することが可能なパターン形成装置を提供することを目的とする。
また、本発明の他の態様は、基板の表面を一定の状態に維持した状態で基板を搬送しつつ、その基板の表面に電子デバイスを形成するパターン形成装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の態様に従えば、長尺の可撓性の基板を長尺方向に搬送して、前記基板の表面に電子デバイスの為のパターンを形成するパターン形成装置であって、前記基板よりも剛性が高い材料で薄板状に形成されると共に、前記基板の裏面を支持する支持面と該支持面の裏面とを貫通する貫通孔が前記長尺方向に沿って所定の間隔で複数形成された列を、前記長尺方向と直交する前記基板の幅方向に所定の間隔で複数列配置して無端状に形成されたベルト部と、前記ベルト部を支持する複数のローラー部材によって、前記基板の長尺方向に沿って平坦な部分が形成するように前記ベルト部を駆動する駆動部と、前記ベルト部の平坦な部分の裏面と対向する平坦な案内面を有し、該案内面のうちで前記貫通孔による前記列の複数の各々を含む複数の第一領域の各々に対向して配置される複数の気体吸引部と、前記ベルト部の裏面のうち、前記幅方向に関して前記複数の第一領域の各々と交互に設けられる複数の第二領域に対向して配置される複数の気体供給部とを備え、前記ベルト部の平坦な部分の裏面を前記案内面に対して非接触状態となるように保持するとともに、前記複数の貫通孔を介して前記基板の裏面を前記ベルト部の前記支持面に吸着させる保持機構と、前記基板上に設定される処理領域に対応して配置されて、前記処理領域に前記パターンを形成する為の投影光学系、又は処理ヘッドを有する処理装置と、前記ベルト部の表面を洗浄するベルト洗浄部と、前記ベルト部の静電気を除去する第１の静電気除去部と、を備え、前記基板の表面の前記複数の処理領域の各々に対応した部分を前記ベルト部の平坦な支持面で吸着支持しつつ、前記ベルト部の裏面を前記保持機構の案内面に沿って非接触で平坦に保持した状態で、前記基板を前記長尺方向に所定の速度で移動させながら、前記処理装置によって前記パターンを形成する、パターン形成装置が提供される。

【発明の効果】

【0008】

本発明の態様によれば、基板を一定の状態に維持して搬送することが可能なパターン形成装置を提供することができる。
また、本発明の他の態様によれば、基板を一定の状態に維持して搬送することで、基板上に高精度、高精細な電子デバイスを形成することが可能なパターン形成装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式図である。

【図2】本実施形態に係る搬送装置の構成を示す斜視図である。

【図3】本実施形態に係る搬送装置の構成を示す平面図である。

【図4】本実施形態に係る搬送装置の構成を示す断面図である。

【図5】本実施形態に係る搬送装置の動作を示す動作図である。

【図6】本実施形態に係る基板処理装置の他の構成を示す図である。

【図7】本実施形態に係る基板処理装置の他の構成を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、図面を参照して、本実施形態の説明をする。
図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置１００の構成を示す模式図である。
図１に示すように、基板処理装置１００は、帯状（長尺状）に形成された基板（例えば、帯状のフィルム部材）Ｓを供給する基板供給部２と、基板Ｓの表面（被処理面）Ｓａに対して処理を行う基板処理部３と、基板Ｓを回収する基板回収部４と、これらの各部を制御する制御部（制御装置）ＣＯＮＴと、を有している。基板処理部（パターン形成装置）３は、基板供給部２から基板Ｓが送り出されてから、基板回収部４によって基板Ｓが回収されるまでの間に、基板Ｓの表面に各種処理を実行する。この基板処理装置１００は、基板Ｓ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等のアクティブ・マトリックス方式の表示パネル（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。

【0011】

なお、本実施形態では、図１に示すようにＸＹＺ座標系を設定し、以下では適宜このＸＹＺ座標系を用いて説明を行う。ＸＹＺ座標系は、例えば、水平面に沿ってＸ軸及びＹ軸が設定され、鉛直方向に沿って上向きにＺ軸が設定される。また、基板処理装置１００は、全体としてＸ軸に沿って、そのマイナス側（−Ｘ軸側）からプラス側（＋Ｘ軸側）へ基板Ｓを搬送する。その際、帯状の基板Ｓの幅方向（短尺方向）は、Ｙ軸方向に設定される。

【0012】

基板処理装置１００において処理対象となる基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。

【0013】

基板Ｓは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。また、基板Ｓはフロート法等で製造された厚さ１００μｍ程度の極薄ガラスの単体、或いはその極薄ガラスに上記樹脂フィルムやアルミ箔を貼り合わせた積層体であっても良い。

【0014】

基板Ｓの幅方向（短尺方向）の寸法は例えば１ｍ〜２ｍ程度に形成されており、長さ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば、基板ＳのＹ軸方向の寸法が１ｍ以下又は５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、基板ＳのＸ軸方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。

【0015】

基板Ｓは、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、前記基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、前記基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。

【0016】

基板供給部２は、例えばロール状に巻かれた基板Ｓを基板処理部３へ送り出して供給する。この場合、基板供給部２には、基板Ｓを巻きつける軸部や前記軸部を回転させる回転駆動装置などが設けられる。この他、例えばロール状に巻かれた状態の基板Ｓを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。なお、基板供給部２は、ロール状に巻かれた基板Ｓを送り出す機構に限定されず、帯状の基板Ｓをその長さ方向に順次送り出す機構（例えばニップ式の駆動ローラー等）を含むものであればよい。

【0017】

基板回収部４は、基板処理装置１００を通過した基板Ｓを、例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部４には、基板供給部２と同様に、基板Ｓを巻きつけるための軸部や前記軸部を回転させる回転駆動源、回収した基板Ｓを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部３において基板Ｓがパネル状に切断される場合などには、例えば基板Ｓを重ねた状態で回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態で基板Ｓを回収する構成であっても構わない。

【0018】

基板処理部３は、基板供給部２から供給される基板Ｓを基板回収部４へ搬送すると共に、搬送の過程で基板Ｓの被処理面Ｓａに対して処理を行う。基板処理部３は、処理装置１０及び搬送装置２０を有している。

【0019】

処理装置１０は、基板Ｓの被処理面Ｓａに対して、例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｓａ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。

【0020】

より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置など）、成膜装置（例えば鍍金装置、蒸着装置、スパッタリング装置など）、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、基板Ｓの搬送経路に沿って適宜設けられる。

【0021】

搬送装置２０は、基板処理部３内において基板Ｓを案内する複数の案内ローラー（搬送機構、図１では、２つのローラー５、６のみを例示）と、基板Ｓを支持する基板支持機構（保持機構）３０とを有している。案内ローラー５（搬送機構）は、基板Ｓの搬送経路に関し、処理装置１０の上流側に配置され、案内ローラー（搬送機構）６は、基板Ｓの搬送経路に関して、処理装置１０の下流側に配置されている。複数の案内ローラー（搬送機構）のうち少なくとも一部の案内ローラーには、回転駆動機構（不図示）が取り付けられている。本実施形態において、搬送装置２０における基板Ｓの搬送経路の長さは、例えば全長数百メートル程度となっている。

【0022】

図２は、搬送装置２０の一部の構成を示す図である。
図２に示すように、搬送装置２０は、長尺状の基板Ｓの搬送方向の上流側から順に、案内ローラー５（図１参照）、ニップローラー（搬送機構）Ｒ１並びにＲ２、基板洗浄部２１、張力調整ローラー（搬送機構）Ｒ３、静電気除去部（除去装置）２２、基板支持機構３０、静電気除去部（除去装置）２３、基板吸着ローラー（搬送機構）Ｒ４、ニップローラー（搬送機構）Ｒ５並びにＲ６、案内ローラー６（図１参照）を有している。このうち、案内ローラー５、ニップローラーＲ１並びにＲ２、張力調整ローラーＲ３、基板吸着ローラーＲ４、ニップローラーＲ５並びにＲ６、案内ローラー６は、基板Ｓの搬送経路に沿って設けられており、上記複数の案内ローラーに含まれる構成である。

【0023】

まず、基板Ｓを搬送するニップローラーＲ１並びにＲ２、張力調整ローラーＲ３、基板吸着ローラーＲ４、ニップローラーＲ５並びにＲ６について説明する。各ローラーＲ１〜Ｒ６の中心軸（回転可能なローラーの場合には、回転軸）は、互いにＹ軸方向に平行に配置されている。

【0024】

ニップローラーＲ１及びＲ２は、図１における案内ローラー５を介して搬送されてきた基板Ｓを挟んだ状態で回転し、前記基板Ｓを搬送方向の下流側（＋Ｚ軸側）へと送る。ニップローラーＲ１及びＲ２が基板Ｓを挟むことにより、前記ニップローラーＲ１及びＲ２の上流側から基板Ｓを介して伝わる振動を抑制することができる。

【0025】

張力調整ローラーＲ３は、基板Ｓの短手方向（幅方向）の張力を調整しつつ回転し、基板Ｓを搬送方向の下流側へ送る。張力調整ローラーＲ３は、例えば中心軸方向の両端部から中央部に向けて徐々に径が小さくなるように形成されている。張力調整ローラーＲ３によって、基板Ｓの短手方向の長さが調整される。なお、張力調整ローラーＲ３は、＋Ｚ軸方向に搬送されてくる基板Ｓの搬送方向を＋Ｘ軸方向に変換する。

【0026】

基板吸着ローラーＲ４は、気体が通過可能な多孔質材料によって形成されている。基板吸着ローラーＲ４の外周面は、基板Ｓの裏面を案内する案内面Ｒ４ａとして機能する。基板吸着ローラーＲ４は、案内面Ｒ４ａからローラー内部側へ気体を吸引する吸引部２５を有している。吸引部２５は、基板吸着ローラーＲ４の内部に接続された吸引経路２５ｂを有している。吸引経路２５ｂには、吸引ポンプ２５ａが設けられている。吸引ポンプ２５ａの吸引動作により、基板吸着ローラーＲ４の内部の圧力が低下し、これにより基板吸着ローラーＲ４の周囲の気体が案内面Ｒ４ａから内部に吸引されるようになっている。基板吸着ローラーＲ４は、この吸引力により、例えば基板Ｓを案内面Ｒ４ａに吸着することができるようになっている。

【0027】

基板吸着ローラーＲ４は、駆動部２６を有している。駆動部２６は、制御部ＣＯＮＴの制御により、基板吸着ローラーＲ４を回転駆動させる。制御部ＣＯＮＴは、駆動部２６による駆動のタイミングや、駆動力などを制御可能である。基板吸着ローラーＲ４は、基板Ｓを案内面Ｒ４ａに吸着させた状態で、図中時計回りに回転することにより、基板Ｓを＋Ｘ軸側に搬送することができるようになっている。このように、基板吸着ローラーＲ４は、吸引部２５及び駆動部２６を作動させることにより、基板Ｓに所定の張力を付与する張力付与機構として機能する。なお、制御部ＣＯＮＴが駆動部２６の駆動力を調整することにより、基板Ｓに付与する張力を調整することができるようになっている。このため、基板吸着ローラー（第一ローラー）Ｒ４、吸引部２５、駆動部２６及び制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓに付与する張力を調整する調整部として機能する。

【0028】

ニップローラーＲ５及びＲ６は、基板吸着ローラーＲ４を介して搬送されてきた基板Ｓを挟んだ状態で回転し、前記基板Ｓを搬送方向の下流側へと送る。ニップローラーＲ５及びＲ６が基板Ｓを挟むことにより、前記ニップローラーＲ５及びＲ６の下流側から基板Ｓを介して伝わる振動を抑制することができる。なお、基板吸着ローラーＲ４、ニップローラーＲ５及びＲ６は、基板Ｓのうち前記基板吸着ローラーＲ４とニップローラーＲ５及びＲ６との間の部分が弛んだ状態となるように基板Ｓを搬送する。このため、ニップローラー（第二ローラー）Ｒ５及びＲ６は、基板Ｓに付与する張力を調整する調整部の一部として機能する。

【0029】

また、基板洗浄部２１は、ニップローラーＲ１及びＲ２と張力調整ローラーＲ３との間の位置に設けられている。基板洗浄部２１は、例えば不図示の超音波発生装置及び吸引装置などを有している。基板洗浄部２１は、ニップローラーＲ１及びＲ２から張力調整ローラーＲ３へと搬送される基板Ｓの被処理面Ｓａを、超音波を用いたドライクリーナ等で前記基板Ｓ上の異物を除去することが可能である。なお、基板洗浄部２１としては、液体吹付及び乾燥機能を備えた洗浄装置を用いることもできる。

【0030】

静電気除去部２２は、張力調整ローラーＲ３の基板Ｓの搬送方向の下流側、例えば、張力調整ローラーＲ３と基板支持機構３０との間であって、基板Ｓを挟んだ上方に設けられている。静電気除去部２２は、基板支持機構３０に搬送される基板Ｓに帯電する静電気（電荷）を除去する。また、静電気除去部２３は、基板吸着ローラーＲ４の上流側、例えば、基板支持機構３０と基板吸着ローラーＲ４との間であって、基板Ｓを挟んだ上方に設けられている。静電気除去部２３は、基板支持機構３０から下流側に搬送される基板Ｓに帯電する静電気（電荷）を除去する。

【0031】

基板支持機構３０は、張力調整ローラーＲ３と基板吸着ローラーＲ４との間に配置されている。なお、基板Ｓのうち前記張力調整ローラーＲ３と基板吸着ローラーＲ４との間の部分には、処理装置１０による処理領域１０ｐが設定される。基板支持機構３０は、基板Ｓのうち処理領域１０ｐを通過する部分を支持しつつ、張力調整ローラーＲ３と基板吸着ローラーＲ４との間における基板Ｓの搬送速度と同期した速度で、前記基板Ｓの裏面を支持する。
基板支持機構３０は、ベルト部（支持部材）３１、ベルト搬送部３２及び案内ステージ３３を有している。また、基板支持機構３０は、ベルト部３１の表面を洗浄するベルト洗浄部３７と、ベルト部３１に帯電する静電気を除去する静電気除去部３８とを有している。

【0032】

ベルト部３１は、基板Ｓよりも剛性が高い材料、例えばステンレスなどの金属材料を薄板状に加工した部材を用いて無端状に形成されている。ベルト部３１は、外周面に設けられた支持面３１ａによって基板Ｓの被支持面（処理面に対して裏面）Ｓｂを支持する。ベルト部３１には、周方向に並んで配置される複数の貫通孔３１ｈが一周に亘って設けられている。各貫通孔３１ｈは、ベルト部３１の支持面３１ａと、前記支持面３１ａの裏側に設けられる裏面３１ｂとの間を貫通して形成されている。本実施形態において、この複数の貫通孔３１ｈは、Ｙ軸方向に５列形成されている。ベルト部３１の一部は、基板Ｓの被支持面Ｓｂに対向して配置されている。
ベルト部３１は、基板Ｓの被支持面Ｓｂを支持する。なお、Ｙ軸方向のおける複数の貫通孔３１ｈの列の数は、５列に限らず、何列であってもよい。また、一周に亘って設けられる貫通孔３１ｈの数も任意であってよい。

【0033】

ベルト搬送部３２は、４つの搬送ローラー（駆動部）３２ａ〜３２ｄを有している。搬送ローラー３２ａ〜３２ｄには、ベルト部３１が掛け回されている。すなわち、４つの搬送ローラー３２ａ〜３２ｄは、ベルト部３１の内周面に接触している。４つのローラーのうち２つの搬送ローラー３２ａ及び搬送ローラー３２ｂは、案内ステージ３３よりも基板Ｓの搬送方向の上流側（−Ｘ軸側）に配置されている。他の２つの搬送ローラー３２ｃ及び搬送ローラー３２ｄは、案内ステージ３３よりも基板Ｓの搬送方向の下流側（＋Ｘ軸側）に配置されている。このため、処理装置１０による処理領域１０ｐに対して、ベルト部３１がＸ軸方向に横切るように移動する構成となっている。

【0034】

搬送ローラー３２ａ及び搬送ローラー３２ｂは、その軸方向がＹ軸方向に平行に配置される。また、搬送ローラー３２ａ及び搬送ローラー３２ｂは、Ｚ軸方向に並ぶように互いに間隔を空けて配置されている。同様に、搬送ローラー３２ｃ及び搬送ローラー３２ｄは、その軸方向がＹ軸方向に平行に配置される。また、搬送ローラー３２ｃ及び搬送ローラー３２ｄは、Ｚ軸方向に並ぶように互いに間隔を空けて配置されている。

【0035】

搬送ローラー３２ａ〜３２ｄは、ベルト部３１が張力を有する状態で回転移動するように位置が調整されている。また、搬送ローラー３２ｂと搬送ローラー３２ｃとの間、及び、搬送ローラー３２ｄと搬送ローラー３２ａとの間については、ベルト部３１がＸ軸方向に平行に移動するように、Ｘ軸方向の位置が揃った状態で配置されている。

【0036】

搬送ローラー（ローラー部材）３２ａ〜３２ｄのうち少なくとも１つは、ベルト部３１を駆動する駆動ローラーとなる。搬送ローラー３２ｄには、駆動部３２ｅが設けられている。本実施形態では、例えば搬送ローラー（駆動部）３２ｄが駆動ローラーであり、残りの搬送ローラー３２ａ〜３２ｃは従動ローラーである。なお、駆動ローラーである搬送ローラー３２ｄを、例えば多孔質材料によって形成し、そして、不図示の吸引装置に接続し、外周面にベルト部３１を吸着させて、ベルト部３１に動力を伝達してもよい。

【0037】

案内ステージ３３は、例えば気体が通過可能な多孔質材を複数組み合わせることによって形成されている。案内ステージ３３の形状は、矩形の板状である。案内ステージ３３の＋Ｚ軸側の面（案内面）３３ａは、ＸＹ平面に平行に形成されている。案内ステージ３３は、基板Ｓの長手方向及びベルト部３１が移動する方向（Ｘ軸方向）へ移動するように基板Ｓを案内する。

【0038】

案内ステージ３３は、Ｘ軸方向について搬送ローラー３２ｂと搬送ローラー３２ｃとの間に配置されている。また、案内ステージ３３は、Ｙ軸方向についてベルト部３１と重なるように配置されている。案内ステージ３３は、ベルト部３１の内側に配置されている。案内ステージ３３の案内面３３ａは、ベルト部３１の裏面（内周面）３１ｂに対向して設けられている。案内ステージ３３は、不図示の固定機構によって位置が固定されている。

【0039】

図３は、基板支持機構３０を＋Ｚ軸側から見たときの構成を示す図である。図３では、ベルト部３１の下方に案内ステージ３３が配置されている。

【0040】

気体吸引部３３ｓは、Ｘ軸方向に延びる多孔質材によって形成され、ベルト部３１の裏面のうち貫通孔３１ｈの列が形成された第一領域ＡＲ１に対向して配置されている。このため、ベルト部３１が回転移動すると、各列の貫通孔３１ｈは、気体吸引部３３ｓ上を移動するようになっている。

【0041】

気体供給部３３ｔは、気体吸引部３３ｓと同様、Ｘ軸方向に延びる多孔質材によって形成され、気体吸引部３３ｓと気体供給部３３ｔとは、Ｙ軸方向（幅方向）に交互に設けられている。気体吸引部３３ｓと気体供給部３３ｔとの間は、仕切り部材３４によって区切られている。仕切り部材３４は、案内ステージ３３の−Ｘ軸側の端部から＋Ｘ軸側の端部まで、案内ステージ３３をＸ軸方向に横切るように設けられている。

【0042】

気体供給部３３ｔは、ベルト部３１の裏面のうち第一領域ＡＲ１とは異なる第二領域ＡＲ２に対向して配置されている。すなわち、気体供給部３３ｔは、ベルト部３１の裏面のうち貫通孔３１ｈの列の間に対向して配置されている。なお、第二領域ＡＲ２は、ベルト部３１のＹ軸方向に対して５箇所に形成された各第一領域ＡＲ１の間に形成される。したがって、ベルト部３１には、Ｙ軸方向について第二領域ＡＲ２と第一領域ＡＲ１とが交互に配置されており、ベルト部３１のＹ軸方向の両端には第二領域ＡＲ２が配置されている。

【0043】

図４は、図３におけるＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。
図４に示すように、気体吸引部３３ｓは、吸引系３５に接続されている。吸引系３５は、吸引ポンプ３５ａ及び吸引経路３５ｂを有する。気体吸引部３３ｓは、吸引経路３５ｂを介して吸引ポンプ３５ａに接続されている。吸引経路３５ｂは、案内ステージ３３の底面（−Ｚ軸側の面）３３ｂ側に接続されている。このため、気体吸引部３３ｓでは、案内面３３ａから気体吸引部３３ｓを通過して底面３３ｂへ抜ける方向に気体が吸引される。

【0044】

また、気体供給部３３ｔは、供給系３６に接続されている。供給系３６は、気体供給源３６ａ及び供給経路３６ｂを有する。気体供給部３３ｔは、供給経路３６ｂを介して気体供給源３６ａに接続されている。供給経路３６ｂは、案内ステージ３３の底面３３ｂ側に接続されている。このため、気体供給部３３ｔでは、底面３３ｂから気体供給部３３ｔを通過して案内面３３ａへ抜ける方向に気体が供給される。

【0045】

なお、図３に示すように、上記のベルト部３１には位置基準部３１ｃが形成されている。位置基準部３１ｃは、例えばベルト部３１の−Ｙ軸側の端部に周方向に形成されている。
位置基準部３１ｃは、基板ＳのＸ軸方向又はＹ軸方向の位置を検出するための基準を示している。ベルト部３１の＋Ｚ軸側には、位置基準部３１ｃを検出するエンコーダＥＣが設けられている。エンコーダＥＣの検出結果は、制御部ＣＯＮＴに送信されるようになっている。
制御部ＣＯＮＴの制御により、エンコーダＥＣの検出結果に応じて、例えば搬送ローラー３２ｄの回転速度と、基板Ｓの搬送速度との調整が行われる。

【0046】

上記のように構成された基板処理装置１００は、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。
以下、上記構成の基板処理装置１００を用いて表示素子を製造する工程を説明する。

【0047】

まず、不図示のローラーに巻き付けられた帯状の基板Ｓを基板供給部２に取り付ける。
制御部ＣＯＮＴの制御により、この状態の基板供給部２から前記基板Ｓが送り出されるように、不図示のローラーが回転される。そして、基板処理部３を通過した前記基板Ｓが、基板回収部４に設けられた不図示のローラーで巻き取られる。この基板供給部２及び基板回収部４を制御することによって、基板Ｓの被処理面Ｓａを基板処理部３に対して連続的に搬送することができる。

【0048】

制御部ＣＯＮＴの制御により、基板Ｓが基板供給部２から送り出されてから基板回収部４で巻き取られるまでの間に、基板処理部３の搬送装置２０によって前記基板Ｓが前記基板処理部３内で搬送されつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素が基板Ｓ上に順次形成される。

【0049】

処理装置１０による処理を行う際に、搬送装置２０の基板支持機構３０を用いて基板Ｓを搬送する場合には、制御部ＣＯＮＴの制御により、まず、基板ＳがニップローラーＲ１及びＲ２によって挟まれた状態となるようにする。この動作により、前記ニップローラーＲ１及びＲ２の上流側からの振動が基板Ｓに伝達されにくくなる。

【0050】

制御部ＣＯＮＴの制御により、ニップローラーＲ１及びＲ２によって基板Ｓは張力調整ローラーＲ３へ向けて搬送される。制御部ＣＯＮＴの制御により、基板Ｓが張力調整ローラーＲ３に到達する途中で、基板洗浄部２１を用いた基板Ｓの洗浄が行われる。基板Ｓが張力調整ローラーＲ３に到達し、前記張力調整ローラーＲ３に掛けられることにより、基板ＳにＹ軸方向の張力が付与される。

【0051】

制御部ＣＯＮＴの制御により、張力調整ローラーＲ３によって基板Ｓが基板吸着ローラーＲ４へ向けて搬送される。また、制御部ＣＯＮＴの制御により、ベルト部３１が回転する。このとき、制御部（制御装置）ＣＯＮＴの制御により、基板Ｓの移動速度とベルト部３１の移動速度とが等しくなるように、基板吸着ローラーＲ４の回転と搬送ローラー３２ｄの回転とが同期される。基板Ｓが基板支持機構３０に至る前に、制御部ＣＯＮＴの制御により、静電気除去部２２を用いて基板Ｓに帯電する静電気が除去される。制御部ＣＯＮＴの制御により、基板Ｓが基板支持機構３０の上流側に配置されている間に静電気の除去が行われる。

【0052】

その後、制御部ＣＯＮＴの制御により、基板Ｓが＋Ｘ軸側へ搬送され、基板支持機構３０が＋Ｘ軸方向に通過する。このとき、制御部ＣＯＮＴの制御により、静電気除去部２３を用いて基板Ｓの静電気は除去されている。制御部ＣＯＮＴの制御により、基板吸着ローラーＲ４を用いて基板ＳにＸ軸方向の張力が付与される。

【0053】

基板ＳにＸ軸方向の張力を付与した後、制御部ＣＯＮＴの制御により、気体供給部３３ｔから気体が供給されると共に、気体吸引部３３ｓが気体を吸引することで、基板Ｓがベルト部３１の支持面３１ａに吸着する。なお、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓをベルト部３１の支持面３１ａに吸着させる瞬間には、ベルト部３１の回転速度よりも基板Ｓの搬送速度の方が高くなるように制御する。

【0054】

図５は、図３におけるＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。図５は、気体供給部３３ｔによる気体の供給及び気体吸引部３３ｓによる気体の吸引が行われた場合の態様を示す図である。
図５に示すように、気体供給部３３ｔから気体が供給されると、前記気体は、案内ステージ３３の案内面３３ａとベルト部３１の裏面３１ｂとの間に、気体層を形成する。また、気体吸引部３３ｓによって吸引が行われると、気体層を構成する一部の気体が気体吸引部３３ｓに吸引される。このとき、制御部ＣＯＮＴは、気体の供給量と吸引量とを調整することで、気体層を一定の厚さに保持することができる。このときの制御部ＣＯＮＴによる調整量については、予め実験やシミュレーションなどを行うことで得られたデータなどを用いることができる。

【0055】

また、気体吸引部３３ｓの吸引により、前記気体吸引部３３ｓに対向するベルト部３１の各貫通孔３１ｈを介して、支持面３１ａに基板Ｓの被支持面Ｓｂが吸着される。

【0056】

このように、基板支持機構３０では、案内ステージ３３がベルト部３１の裏面３１ｂを非接触状態で支持すると共に、ベルト部３１が基板Ｓを支持面３１ａに吸着させて支持する。このとき、基板吸着ローラーＲ４によって基板ＳにはＸ軸方向の張力が付与されており、また、張力調整ローラーＲ３によって基板ＳにはＹ軸方向の張力が付与されているため、基板Ｓにシワなどが形成されること無く、平坦な状態で保持されることになる。制御部ＣＯＮＴの制御により、この状態で、処理装置１０を用いた基板Ｓの被処理面Ｓａに対する処理が行われる。

【0057】

また、制御部（制御装置）ＣＯＮＴの制御により、この状態で、基板吸着ローラーＲ４が回転すると共に搬送ローラー３２ｄが回転することにより、基板Ｓの搬送速度とベルト部３１の移動速度とを等速で同期させることができる。そのため、基板Ｓの平坦な状態が維持されつつ、基板Ｓとベルト部３１とが＋Ｘ軸方向へ移動される。また、制御部（位置調整部）ＣＯＮＴの制御により、エンコーダＥＣを用いてベルト部３１の支持面３１ａに形成された位置基準部３１ｃが検出され、その検出結果に基づいて基板Ｓとベルト部３１との間の位置関係が調整される。なお、制御部ＣＯＮＴの制御により、ベルト洗浄部３７を用いて適宜ベルト部３１の洗浄が行われるとともに、静電気除去部３８を用いてベルト部３１の静電気の除去が行われる。

【0058】

以上のように、本実施形態に係る搬送装置２０は、基板Ｓの被支持面Ｓｂを支持する支持面３１ａを有し、支持面３１ａと前記支持面３１ａの裏面３１ｂとを貫通する複数の貫通孔３１ｈが形成されたベルト部３１と、ベルト部３１の裏面３１ｂのうち、複数の貫通孔３１ｈを含む第一領域ＡＲ１に対向して配置される気体吸引部３３ｓと、ベルト部３１の裏面３１ｂのうち、第一領域ＡＲ１とは異なる第二領域ＡＲ２に対向して配置される気体供給部３３ｔとを備え、ベルト部３１の裏面３１ｂに対して気体の供給及び吸引を行うことによって、ベルト部３１の裏面３１ｂを非接触状態で保持するとともに、複数の貫通孔３１ｈを介して基板Ｓを支持面３１ａに吸着させる基板支持機構３０とを備えるので、基板Ｓを平坦な状態で保持することができると共に、前記基板Ｓを平坦な状態で搬送することができる。

【0059】

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態においては、処理装置１０による処理領域１０ｐの形状が、矩形の形状である構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
例えば、図６に示すように、処理装置１０として複数の投影光学系（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する露光装置ＥＸが設けられている場合には、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５による投影領域が処理領域１０ｐとなる。

【0060】

図６には、投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３及びＰＬ５が基板Ｓの搬送方向の上流側にＹ軸方向に沿って一列に配置されており、投影光学系ＰＬ２及びＰＬ４が基板Ｓの搬送方向の下流側にＹ軸方向に沿って一列に配置されている。このように、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３及びＰＬ５と、投影光学系ＰＬ２及びＰＬ４とが、Ｘ軸方向にずれて配置された構成となっている。なお、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５による各投影領域１０ｐは、Ｘ軸方向視において、互いに隣接する投影領域１０ｐとの間でＹ軸方向の一部が重なるように配置されている。

【0061】

なお、投影光学系の数及び配置については、図６に示す例に限られることは無い。例えば、投影光学系が４つ以下、若しくは６つ以上配置された構成であっても構わない。また、複数の投影光学系が一列に配置された構成、又は、複数の投影光学系が三列以上に配置された構成であっても構わない。

【0062】

また、図７に示すように、複数の処理ヘッドＨが並んで配置された構成であっても構わない。この場合、基板Ｓの搬送方向の上流側に１つの処理ヘッドＨが設けられており、基板Ｓの搬送方向の下流側には２つの処理ヘッドＨが設けられている。このため、処理領域１０ｐが基板Ｓ上の３箇所に形成される。この場合においても、処理ヘッドＨが２つあるいは４つ以上配置された構成であっても構わないし、図７の配置とは異なる配置で設けられていても構わない。

【0063】

また、上記実施形態では、案内ステージ３３において、気体吸引部３３ｓと気体供給部３３ｔとの間に、気体を遮断する仕切り部材３４が設けられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば仕切り部材３４が設けられていない構成であっても構わない。

【0064】

また、本実施形態において、静電気除去部２２、２３、及び基板洗浄部２１を設ける構成について説明したが、静電気除去部２２、２３、及び基板洗浄部２１の両方又はいずれか一方を省略してもよい。

【符号の説明】

【0065】

Ｓ…基板 ＣＯＮＴ…制御部 ＥＬ…有機 Ｓａ…被処理面 Ｓｂ…被支持面 Ｒ…案内ローラー Ｒ１、Ｒ２…ニップローラー Ｒ３…張力調整ローラー Ｒ４…基板吸着ローラー Ｒ５、Ｒ６…ニップローラー Ｒ４ａ…外周面 ＥＣ…エンコーダ ＡＲ１…第一領域 ＡＲ２…第二領域 １０…処理装置 ２０…搬送装置 ２１…基板洗浄部 ２２、２３…静電気除去部 ２５…吸引部 ２６…駆動部 ３０…基板支持機構 ３１…ベルト部 ３１ａ…支持面 ３１ｂ…裏面 ３１ｃ…位置基準部 ３１ｈ…貫通孔 ３２…ベルト搬送部 ３２ａ〜３２ｄ…搬送ローラー ３３…案内ステージ ３３ａ…案内面 ３３ｂ…底面 ３３ｓ…気体吸引部 ３３ｔ…気体供給部 ３５…吸引系 ３６…供給系

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】