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特許第6595510号(P6595510)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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▶ キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの特許一覧

特許6595510高い除去速度と低欠陥性を有する、ポリシリコン及び窒化物を上回り酸化物に対して選択的なＣＭＰ組成物

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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