特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2026年出願公開件数ランキング　　　第10421位　1件（2025年：第1654位　13件）

　■　2026年特許取得件数ランキング　　　第1120位　14件（2025年：第1629位　11件）

（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7929913	酸化ケイ素、窒化ケイ素及びポリシリコンの選択的及び非選択的ＣＭＰ用のセリア系スラリー組成物	2026年10月 5日
特許 7922144	誘電体のＣＭＰに使用される高分子量ポリマーを含むシリカ系スラリー組成物	2026年 9月15日
特許 7920448	硫黄含有アニオン性界面活性剤を含むタングステンＣＭＰ組成物	2026年 9月14日
特許 7909565	ＣＭＰスラリーの粒子分散を改善するための添加剤	2026年 8月21日
特許 7906942	ホウ素ドープポリシリコンを研磨するための組成物及び方法	2026年 8月18日
特許 7902929	アニオン性研磨剤を含むＣＭＰ組成物	2026年 8月10日
特許 7864687	二酸化チタン含有ルテニウム化学機械研磨スラリー	2026年 5月25日
特許 7864723	炭窒化ケイ素研磨組成物及び方法	2026年 5月25日
特許 7851243	酸化ケイ素及び炭素ドープ酸化ケイ素ＣＭＰのための組成物並びに方法	2026年 4月24日
特許 7839885	酸化ケイ素、窒化ケイ素及びポリシリコンの選択的及び非選択的ＣＭＰ用のセリア系スラリー組成物	2026年 4月 2日
特許 7832212	高トポロジカル選択比のための自己停止ポリッシング組成物及び方法	2026年 3月17日
特許 7830317	選択的酸化物ＣＭＰのための組成物及び方法	2026年 3月16日
特許 7815420	ポリマー粒子を含むテクスチャ加工ＣＭＰパッド	2026年 2月17日
特許 7803851	ポリシリコンＣＭＰ用組成物および方法	2026年 1月21日

14 件中 1-14 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7929913 7922144 7920448 7909565 7906942 7902929 7864687 7864723 7851243 7839885 7832212 7830317 7815420 7803851

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数