特許6609919半導体基板の洗浄方法

発明の名称　半導体基板の洗浄方法

出願人　栗田工業株式会社　（識別番号 1063）

　　　　特許公開件数ランキング 286 位（112件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 324 位（82件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6609919

公報発行日　2019年11月27

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6609919

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