特許6617649被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム

発明の名称　被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 36 位（601件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 20 位（798件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6617649

公報発行日　2019年12月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6617649

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6617649「被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録