特許 6625024 アミノアルキル基含有シロキサン、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサン、及びこれらの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6625024

(24)【登録日】2019年12月6日

(45)【発行日】2019年12月25日

(54)【発明の名称】アミノアルキル基含有シロキサン、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサン、及びこれらの製造方法

(51)【国際特許分類】

   C08G 77/388 20060101AFI20191216BHJP

   C07F 7/10 20060101ALI20191216BHJP

   C08G 77/46 20060101ALI20191216BHJP

   C08G 77/50 20060101ALI20191216BHJP

【ＦＩ】

   C08G77/388

   C07F7/10 XCSP

   C08G77/46

   C08G77/50

【請求項の数】9

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2016-131317(P2016-131317)

(22)【出願日】2016年7月1日

(65)【公開番号】特開2018-2874(P2018-2874A)

(43)【公開日】2018年1月11日

【審査請求日】2018年6月28日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002060

【氏名又は名称】信越化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100085545

【弁理士】

【氏名又は名称】松井 光夫

(72)【発明者】

【氏名】安藤 裕司

【審査官】 中村 英司

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許出願公開第２０１０／０２８０１４８（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１６−０７４８３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０３−０９５２２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−０１７５７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００５−５２３３５９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０８Ｇ ７７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記一般式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンの製造方法であって

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は下記式（２）、下記式（３）、又は下記式（６）で表される基であり、但し、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（２）で表される基であり、且つ、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（３）で表される基であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは、互いに独立に、０以上の整数であり、但し、ｋ＋ｐ＋ｑ＞０であり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない
−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−（ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＨ_２
（２）
（式（２）中、ａは２〜１１の整数であり、ｂは０〜１０の整数であり、Ｒ^２は、互いに独立に、水素原子、又は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（３）
（式（３）中、ｃは２〜１１の整数であり、ｄは０〜１００の整数であり、ｅは０〜１００の整数であり、ｄ＋ｅ＞０であり、Ｒ^２は上記の通りであり、Ｒ^３は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、水素原子、又は−ＣＯＲ^４であり、Ｒ^４は非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３
（６）
（式中、Ｒ^５は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、Ｒ^２は上記の通りであり、ｆは２〜１１の整数であり、ｓは０〜１０００の整数である）］
下記化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）と、任意で化合物（Ｄ）とを付加反応させる工程と
（Ａ）下記一般式（９）で表されるハイドロジェンシロキサン：

（式（９）中、Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、但し、Ｒ^８の少なくとも１つは水素原子であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは上記の通りであり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない）
（Ｂ）下記式（１０）で表される、保護されたアミノ基を有する化合物：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ’−（ＮＱＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＱ_２
（１０）
（式（１０）中、ａ’は（ａ−２）であり、ｂ及びＲ^２は上記の通りであり、Ｑは−ＳｉＲ^９_３で表されるシリル基であり、Ｒ^９は、互いに独立に、非置換の炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
（Ｃ）下記式（１１）で表されるポリエーテル：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ’−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（１１）
（式（１１）中、ｃ’は（ｃ−２）であり、ｄ、ｅ、Ｒ^２、及びＲ^３は上記の通りである）
（Ｄ）下記式（１２）で表される（ポリ）シロキサン：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ’−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３
（１２）
（式中、ｆ’は（ｆ−２）であり、Ｒ^２、Ｒ^５、及びｓは上記の通りである）
次いで、上記保護されたアミノ基からシリル基を除去（以下、脱保護という）させて上記式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンを得る工程
とを含む、前記製造方法。

【請求項2】

前記アミノアルキル基含有シロキサン（１）が下記一般式（５）で表される化合物であり、前記ハイドロジェンシロキサン（Ａ）が下記一般式（１３）で表される化合物（Ａ’）である、請求項１記載の製造方法

（式（５）中、Ｒ^６は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（２）又は式（３）で表される基であり、Ｒ^７は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基であり、
−Ｏ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｔ−ＳｉＲ^５_３ （７）
（式中、Ｒ^５は上記の通りであり、ｔは０〜１０００の整数である）
Ｂは上記式（２）で表される基であり、Ｐは上記式（３）で表される基であり、ｘ、ｙ、及びｚは、互いに独立に、０〜２０００の整数であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＞０であり、ｙ＝０の場合は、Ｒ^６の少なくとも１つは式（２）で表される基であり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない）
（Ａ’） Ｒ^１１−（Ｒ^１０_２ＳｉＯ）_ｖ−ＳｉＲ^１１_３
（１３）
（式（１３）中、Ｒ^１１は、互いに独立に、水素原子、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、Ｒ^１０は、互いに独立に、水素原子、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（７）で示される基であり、但し、Ｒ^１０及びＲ^１１の少なくとも１は水素原子であり、ｖはｘ＋ｙ＋ｚであり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない）。

【請求項3】

前記付加反応が金属触媒存在下で行われ、該金属触媒の量は、前記化合物（Ａ）又は（Ａ’）１００質量部に対し、金属元素換算量として０．０２質量部以下となる量である、請求項１又は２に記載の製造方法。

【請求項4】

請求項１〜３のいずれか１項記載の製造方法であって、脱保護させて得られたアミノアルキル基含有シロキサンに含有される不純物としての下記一般式（４）で表される環状シロキサンの量が、該アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部あたり０〜１質量部である、前記製造方法
（ＳｉＢＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （４）
（式中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数であり、Ｂは上記式（２）で表される基である）。

【請求項5】

脱保護して得られたアミノアルキル基含有シロキサンがシラザンを含有しない、請求項１〜４のいずれか１項記載の製造方法。

【請求項6】

脱保護して得られたアミノアルキル基含有シロキサンがヒドロシリル基を有する化合物を含有しない、請求項１〜５のいずれか１項記載の製造方法。

【請求項7】

上記付加反応に付される式（Ａ）又は（Ａ’）で表されるハイドロジェンシロキサンに含有される下記一般式（８）で表される環状シロキサン
（ＳｉＨＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （８）
（式（８）中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数である）
の量が、前記ハイドロジェンシロキサン１００質量部あたり０〜１質量部である、請求項１〜６のいずれか１項記載の製造方法。

【請求項8】

下記一般式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンであり、

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は下記式（２）、下記式（３）、又は下記式（６）で表される基であり、但し、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（２）で表される基であり、且つ、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（３）で表される基であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは、互いに独立に、０以上の整数であり、但し、ｋ＋ｐ＋ｑ＞０であり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない
−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−（ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＨ_２
（２）
（式（２）中、ａは２〜１１の整数であり、ｂは０〜１０の整数であり、Ｒ^２は、互いに独立に、水素原子、又は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（３）
（式（３）中、ｃは２〜１１の整数であり、ｄは０〜１００の整数であり、ｅは０〜１００の整数であり、ｄ＋ｅ＞０であり、Ｒ^２は上記の通りであり、Ｒ^３は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、水素原子、又は−ＣＯＲ^４であり、Ｒ^４は非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３
（６）
（式中、Ｒ^５は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、Ｒ^２は上記の通りであり、ｆは２〜１１の整数であり、ｓは０〜１０００の整数である）］
該アミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する下記一般式（４）で表される環状シロキサンの量が、該アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部あたり０〜１質量部であることを特徴とする、前記アミノアルキル基含有シロキサン
（ＳｉＢＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （４）
（式中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数であり、Ｂは上記式（２）で表される基である）。

【請求項9】

下記一般式（５）で表される、請求項８記載のアミノアルキル基含有シロキサン。

（式（５）中、Ｒ^６は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（２）又は式（３）で表される基であり、Ｒ^７は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基であり、
−Ｏ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｔ−ＳｉＲ^５_３ （７）
（式中、Ｒ^５は上記の通りであり、ｔは０〜１０００の整数である）
Ｂは上記式（２）で表される基であり、Ｐは上記式（３）で表される基であり、ｘ、ｙ、及びｚは、互いに独立に、０〜２０００の整数であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＞０であり、ｙ＝０の場合は、Ｒ^６の少なくとも１つは式（２）で表される基であり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない）。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、アミノアルキル基含有シロキサン及びその製造方法に関する。より詳細には、本発明は、アミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する環状シロキサンの量を低減できる製造方法、及び、該環状シロキサンの量が低減されたアミノアルキル基含有シロキサンに関する。さらに特には、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサン及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

アミノ基及びポリオキシアルキレン基を有するポリオルガノシロキサンは、ヘアケア組成物、化粧料組成物、及び洗浄剤組成物に使用できる化合物として知られている（特許文献１及び２）。特許文献１には、ハイドロジェンポリジオルガノシロキサンとアリルアミンとを付加反応させ、次いで、残留ＳｉＨ基にアリル基を有するポリエーテル化合物をさらに付加反応させて、アミノ基及びポリオキシアルキレン基を有するポリオルガノシロキサンを得る方法が記載されている。特許文献２には、ポリエーテル変性シロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、および３−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物をＫＯＨ触媒下で平衡化反応させてアミノアルキル基含有シロキサン又はアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンを得る方法が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特公平５−８１６０９号公報

【特許文献2】特表２００８−５３６９５７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかし特許文献１に記載のアリルアミンのようなアルケニル基を有するアミノ化合物を使用すると、アミノ基が付加反応触媒（白金触媒等）を阻害し、それにより未反応のヒドロシリル基が残存する問題や付加反応中にアミノ基とヒドロシリル基が脱水素反応し、シラザンが生成し生成物の純度の低下を招く問題がある。特許文献２に記載のように平衡化反応により製造する方法では、ポリエーテル基の末端が水酸基であるとき、平衡化によりアルコキシシリルが生じる。そのためポリエーテルの末端はアルキル基等で封鎖されている必要があり、得られるアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンの構造が制限される。また、平衡化反応の前に原料であるポリエーテル変性シロキサンを製造する必要があるため工程が多くなり、生産性が低下する問題がある。さらに、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等の環状シロキサンやアミノアルキル基を有する環状シロキサンが生じる問題がある。

【0005】

そのため、ヒドロシリル基やアルコキシシリル基を有さず、環状シロキサンを付随しない、純度の高いアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンが強く求められている。また、得られるアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンの構造が制限されず、付加反応工程のみで調製することができ、さらに付加反応が阻害されることなく未反応のヒドロシリル基が残存しない製造方法が強く求められている。

【0006】

本発明は従って、アミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンであって、不純物として含まれる環状シロキサンの量が低減されたシロキサン、及びその製造方法を提供することを目的とする。また、得られるアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンの構造が制限されず、付加反応工程のみで調製することができ、さらに付加反応が阻害されることなく未反応のヒドロシリル基が残存しない製造方法を提供することを目的とする。特には、少ない触媒量であっても十分反応させることができ、未反応のヒドロシリル基を残存させない製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明者は鋭意検討し、アミノアルキル基含有シロキサンの製造方法であって、下記式（Ａ）で表されるハイドロジェンシロキサンと、下記式（Ｂ）で表される、保護されたアミノ基と不飽和基とを有する化合物とを付加反応させ、次いでアミンから保護基を除く（脱保護）ことにより、上記課題を達成できることを見出した。特に、下記式（Ｂ）で表される、アミノ基がシリル基で保護された化合物を使用することにより、アミノ基による付加反応の阻害を防ぐことができ、低触媒量であっても十分に付加反応を進行させることができることを見出し、本発明を成すに至った。

【0008】

すなわち本発明は、下記一般式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンの製造方法であって

［式中、Ｒ^１は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は下記式（２）、下記式（３）、又は下記式（６）で表される基であり、但し、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（２）で表される基であり、且つ、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（３）で表される基であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは、互いに独立に、０以上の整数であり、但し、ｋ＋ｐ＋ｑ＞０であり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない
−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−（ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＨ_２
（２）
（式（２）中、ａは２〜１１の整数であり、ｂは０〜１０の整数であり、Ｒ^２は、互いに独立に、水素原子、又は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（３）
（式（３）中、ｃは２〜１１の整数であり、ｄは０〜１００の整数であり、ｅは０〜１００の整数であり、ｄ＋ｅ＞０であり、Ｒ^２は上記の通りであり、Ｒ^３は、非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、水素原子、又は−ＣＯＲ^４であり、Ｒ^４は非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３
（６）
（式中、Ｒ^５は、互いに独立に、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、Ｒ^２は上記の通りであり、ｆは２〜１１の整数であり、ｓは０〜１０００の整数である）］
下記化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）と、任意で化合物（Ｄ）とを付加反応させる工程と
（Ａ）下記一般式（９）で表されるハイドロジェンシロキサン：

（式（９）中、Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、水酸基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、但し、Ｒ^８の少なくとも１つは水素原子であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは上記の通りであり、上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は制限されない）
（Ｂ）下記式（１０）で表される、保護されたアミノ基を有する化合物：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ’−（ＮＱＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＱ_２
（１０）
（式（１０）中、ａ’は（ａ−２）であり、ｂ及びＲ^２は上記の通りであり、Ｑは−ＳｉＲ^９_３で表されるシリル基であり、Ｒ^９は、互いに独立に、非置換の炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
（Ｃ）下記式（１１）で表されるポリエーテル：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ’−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（１１）
（式（１１）中、ｃ’は（ｃ−２）であり、ｄ、ｅ、Ｒ^２、及びＲ^３は上記の通りである）
（Ｄ）下記式（１２）で表される（ポリ）シロキサン：
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ’−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３
（１２）
（式中、ｆ’は（ｆ−２）であり、Ｒ^２、Ｒ^５、及びｓは上記の通りである）
次いで、上記保護されたアミノ基からシリル基を除去（以下、脱保護という）させて上記式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンを得る工程
とを含む、前記製造方法を提供する。

【0009】

さらに本発明は、上記式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンであり、該アミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する下記式（４）で表される環状シロキサンの量が、アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部あたり０〜１質量部であることを特徴とする、前記アミノアルキル基含有シロキサンを提供する。
（ＳｉＢＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （４）
（式中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数であり、Ｂは上記式（２）で表される基である）

【0010】

本発明の製造方法において、より好ましくは、上記付加反応に付される式（Ａ）で表されるハイドロジェンシロキサンに不純物として含有する下記式（８）で表される環状シロキサンの量が、該ハイドロジェンシロキサン１００質量部あたり０〜１質量部である。
（ＳｉＨＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （８）
（式（８）中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数である）
このようなハイドロジェンシロキサンを原料化合物として使用することにより、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する上記式（４）で示される環状シロキサン、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンや、アミノアルキル基を有する環状シロキサンの量を、より少なくすることができる。

【0011】

さらに本発明は、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに残存する金属触媒量が金属元素換算量として２００ｐｐｍ以下（アミノアルキル基含有シロキサン１００質量物に対して金属換算量として０．０２質量部以下）である、上記製造方法を提供する。
さらに本発明は、得られるアミノアルキル基含有シロキサンが原料化合物及び副生成物（特には、ヒドロシリル基を含有する化合物）を含有しない、上記製造方法を提供する。

【0012】

さらに本発明は、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに含有する環状シロキサン１種以上の各々の量が、該アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部あたり０〜０．１質量部である、上記製造方法を提供する。

【発明の効果】

【0013】

本発明の製造方法は、含有する不純物量が少なく純度が高いアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンを提供することができる。より詳細には、本発明の製造方法は、得られるアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンに不純物として含有する、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等の環状シロキサンやアミノアルキル基を有する環状シロキサンの量を低減することができる。

【0014】

また、原料としてアミノ基が保護された化合物を用いることで、付加反応時にシラザンを生成しない。また、アミノ基による反応の阻害が無いため低触媒量、例えば、原料であるハイドロジェンシロキサン１００質量部に対し金属換算量で０．０２質量部以下という少ない量であっても、未反応のヒドロシリル基を残存させることなく目的化合物を生成することができる。さらに、本発明の製造方法においては、付加反応に供するポリエーテル化合物の末端はアルキル基で封鎖されている必要はなく水酸基であってよい。そのため、ポリエーテル鎖の末端に水酸基を有するアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンを製造することもできる。また、本発明の製造方法は工程数が少ないため、生産性を向上することもできる。

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明で目的とする化合物は、下記一般式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンである。
一般式：

【0016】

上記式（１）において、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは互いに独立に、０以上の整数である。但し、ｋ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＞０である。ｋは好ましくは、２〜４２の整数であり、より好ましくは、２〜２２の整数であり、特に好ましくは、２〜１３の整数である。ｐは好ましくは、１〜６０００の整数であり、より好ましくは、５〜１５００の整数であり、特に好ましくは１０〜３００の整数である。ｑは好ましくは、０〜２０の整数であり、より好ましくは、０〜１０の整数であり、特に好ましくは、０〜５の整数である。ｒは好ましくは、０〜１０の整数であり、より好ましくは、０〜５の整数であり、特に好ましくは、０〜３の整数である。該アミノアルキル基含有シロキサンは、好ましくは重量平均分子量５００〜２００，０００、特には１，０００〜４０，０００を有する。該重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算による値である。上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は特に制限されず、ランダムに結合していても、ブロック構造を形成していてもよい。

【0017】

上記式（１）において、Ｒ^１は、互いに独立に、水酸基、アルコキシル基、置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は、下記式（２）で表される基、下記式（３）で表される基、又は下記式（６）で表される基であり、但し、Ｒ^１の少なくとも１つは下記式（２）で表される基である。

−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−（ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＨ_２ （２）

−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３ （３）

−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３ （６）

【0018】

本発明において炭素原子数１〜２０の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。非置換の一価炭化水素基としてより詳細には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル、アリル等のアルケニル基；フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のベンジル基等のアラルキル基が挙げられる。また置換された一価炭化水素基としては、上記炭化水素基が有する炭素原子に結合する水素原子の一部又は全部がハロゲン原子、アミノ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、及びヒドロキシル基等で置換されたものが挙げられる。

【0019】

Ｒ^１は、好ましくは、炭素原子数１〜６の、非置換の一価炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、又は、上記式（２）で表される基、又は上記式（３）で表される基、又は上記式（６）で表される基である。更に好ましくは、メチル基、ブチル基、フェニル基、又は上記式（２）で表される基、又は上記式（３）で表される基、又は上記式（６）で表される基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基、又は上記式（２）で表される基、又は上記式（３）で表される基、又は上記式（６）で表される基である。但し、Ｒ^１の少なくとも１つは上記式（２）で表される基である。特に好ましくは、上記アミノアルキル基含有シロキサンは少なくとも１のポリオキシアルキレン基を有する。従って、特に好ましい態様としては、Ｒ^１の少なくとも１が上記式（２）で表される基であり、且つＲ^１の少なくとも１が上記式（３）で表される基である。

【0020】

上記式（２）、（３）及び（６）において、Ｒ^２は互いに独立に、水素原子、又は非置換の炭素数１〜２０の一価炭化水素基である。非置換の炭素数１〜２０の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基が挙げられ、より詳細には上記に例示した通りである。Ｒ^２は好ましくは、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、及びフェニル基等の炭素原子数１〜６の一価炭化水素基であり、中でも特に好ましくは、水素原子又はメチル基である。

【0021】

式（２）において、ａは２〜１１の整数である。好ましくは２又は３であり、特に好ましくは３である。ｂは０〜１０の整数である。好ましくは０〜５の整数であり、特に好ましくは、０又は１である。また特には、式（２）において−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−で表される構造が以下のいずれかであるのが好ましい。
−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−， −ＣＭｅＨＣＨ_２−， −ＣＨ_２ＣＭｅＨＣＨ_２−

−ＣＨ_２ＣＭｅＨ−，−ＣＭｅＨＣＨ_２ＣＨ_２−，−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＭｅＨ−

【0022】

式（３）において、Ｒ^３は、非置換の、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基、水素原子、又は−ＣＯＲ^４である。Ｒ^４は、非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基である。前記一価炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、及びアラルキル基が挙げられ、より詳細には上記に例示したものが挙げられる。Ｒ^４は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基であり、より好ましくはメチル基又はブチル基である。Ｒ^３は、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、又は−ＣＯＲ^４である。特に好ましくは、水素原子、メチル基、ブチル基、−ＣＯＭｅ、又は−ＣＯＢｕである。後述する本発明の製造方法によれば、ポリエーテル鎖の末端（すなわち、Ｒ^３）が水素原子である化合物も製造することができる。

【0023】

式（３）においてｃは２〜１１の整数である。好ましくは２又は３であり、特に好ましくは３である。ｄは０〜１００の整数である。好ましくは０〜５０の整数、特に好ましくは０〜２５の整数である。ｅは０〜１００の整数である。好ましくは０〜５０の整数、特に好ましくは０〜２５の整数である。ただし、ｄ＋ｅ＞０である。また特には、式（３）において、−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ−で表される部分の構造は以下のいずれかであるのが好ましい。
−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−， −ＣＭｅＨＣＨ_２−， −ＣＨ_２ＣＭｅＨＣＨ_２−

−ＣＨ_２ＣＭｅＨ−，−ＣＭｅＨＣＨ_２ＣＨ_２−，−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＭｅＨ−

【0024】

また特に好ましくは、上記式（３）における−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−で表される構造は、以下のいずれかであるのがよい。
−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｅ−
−（ＣＭｅＨＣＨ_２Ｏ）_ｅ−
−（ＣＨ_２ＣＭｅＨＯ）_ｅ−
また、式（３）において−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−と−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−で表される構造の配列は、ブロックでもランダムでもよい。

【0025】

式（６）において、Ｒ^５は、互いに独立に、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基である。炭素原子数１〜２０の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。より詳細には上記に例示したものが挙げられる。Ｒ^５は、好ましくは、炭素原子数１〜６の、非置換の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、又はフェニル基である。更に好ましくは、メチル基、ブチル基、又はフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、又はフェニル基である。

【0026】

式（６）において、ｆは２〜１１の整数である。好ましくは２又は３であり、特に好ましくは３である。ｓは０〜１０００の整数である。好ましくは４〜１００の整数であり、特に好ましくは４〜３０の整数である。特には、式（６）において−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ−で表される構造は以下のいずれかであるのが好ましい。
−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−， −ＣＭｅＨＣＨ_２−， −ＣＨ_２ＣＭｅＨＣＨ_２−

−ＣＨ_２ＣＭｅＨ−，−ＣＭｅＨＣＨ_２ＣＨ_２−，−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＭｅＨ−

【0027】

上述した通り従来の製造方法によりアミノアルキル基含有シロキサンを製造すると、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、及びアミノアルキル基含有環状シロキサン等の副生成物が生じ、高純度を有するアミノアルキル基含有シロキサンが得られない。これに対し、後述する本発明の製造方法に従えば、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する環状シロキサンの量を低減することできる。すなわち、本発明の製造方法によれば、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに不純物として含有する下記式（４）で示される環状シロキサンの量を該アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部に対し１質量部以下、好ましくは０．５質量部以下、特に好ましくは０．１質量部以下、さらに好ましくは０．０１質量部以下とすることができる。下限値は０質量部である。
（ＳｉＢＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （４）
式（４）において、ｍは０〜４の整数であり、さらには０〜３の整数であり、さらには１又は２であり、特には１である。ｎは３〜２０の整数であり、さらにはは３〜１０の整数であり、さらには３〜８の整数であり、特には３〜６の整数である。Ｂは上記式（２）で表される基である。該環状シロキサンは１種単独又は２種以上である。2種以上の場合は、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに含有する環状シロキサンの合計量が、アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部に対し１質量部以下、好ましくは０．５質量部以下、特に好ましくは０．１質量部以下、さらに好ましくは０．０１質量部以下とすることができる。特には、環状シロキサン２種以上の各々の量が、アミノアルキル基含有シロキサン１００質量部あたり０．１質量部以下、更には０．０１質量部以下とすることができる。これらの下限値は０質量部である。

【0028】

上記一般式（１）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンは、直鎖状、分岐状、環状、又は三次元網目状のいずれを有するものであってもよい。特に好ましくは直鎖状または分岐状のシロキサンである。該直鎖又は分岐状のシロキサンは、下記一般式（５）で表される。

上記式（５）において、Ｒ^６は、互いに独立に、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基、又は上記式（２）又は式（３）で表される基である。置換又は非置換の一価炭化水素基としては上述したものが挙げられる。Ｒ^６は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、上記式（２）で表される基、又は式（３）で表される基であり、特に好ましくは、メチル基、フェニル基、上記式（２）で表される基、又は式（３）で表される基である。Ｂは上記式（２）で表される基であり、Ｐは上記式（３）で表される基である。該アミノアルキル基含有シロキサンは上記式（２）で表される基を少なくとも１つ有する。特に好ましくは、上記式（２）で表される基を少なくとも１つ有し、且つ、上記式（３）で表されるポリオキシアルキレン基を少なくとも１つ有する。上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は特に制限されず、ランダムに結合していても、ブロック構造を形成していてもよい。

【0029】

式（５）において、Ｒ^７は、互いに独立に、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基、上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基である。置換又は非置換の一価炭化水素基としては上述したものが挙げられる。Ｒ^７は、好ましくは、炭素原子数１〜６の炭化水素基、上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基である。更に好ましくは、メチル基、ブチル基、フェニル基、上記式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基、特に好ましくは、メチル基、フェニル基、式（６）で表される基、又は下記式（７）で表される基である。

【0030】

−Ｏ−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｔ−ＳｉＲ^５_３ （７）
式（７）中、Ｒ^５は上記の通りであり、ｔは０〜１０００の整数である。好ましくは、ｔは０〜１００の整数であり、特に好ましくは４〜３０の整数である。

【0031】

式（５）において、ｘは０〜２０００の整数である。好ましくは０〜５００の整数、特に好ましくは５〜１００の整数、更に好ましくは５〜５０の整数である。ｙは０〜２０００の整数である。好ましくは０〜５００の整数、特に好ましくは１〜１００の整数、更に好ましくは２〜２０の整数である。ｚは０〜２０００の整数である。好ましくは０〜５００の整数、特に好ましくは１〜１００の整数、更に好ましくは２〜２０の整数である。但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＞０を満たす。好ましくはｘ＋ｙ＋ｚ≧１０である。また、ｙが０の場合、Ｒ^６の少なくとも１つは上記式（２）で表される基である。さらに好ましい態様としては、ｙが０の場合、Ｒ^６の少なくとも１つは上記式（２）で表される基であり、且つ、ｚが０の場合、Ｒ^６の少なくとも１つは上記式（３）で表される基である。該アミノアルキル基含有シロキサンは、好ましくは重量平均分子量５００〜２００，０００、特には１，０００〜４０，０００を有する。該重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算による値である。

【0032】

本発明の製造方法は、ｉ）付加反応工程とｉｉ）脱保護工程を含む。以下、詳細に説明する。

【0033】

ｉ）付加反応工程
該工程は、下記化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）と、任意で化合物（Ｃ）及び／又は化合物（Ｄ）とを付加反応させる工程である。
化合物（Ａ）：下記一般式（９）で表されるハイドロジェンシロキサン

（式中、Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、但し、Ｒ^８の少なくとも１つは水素原子であり、ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは上記の通りである。上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は特に制限されず、ランダムに結合していても、ブロック構造を形成していてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記式（１０）で表される、保護されたアミノ基を有する化合物
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ’−（ＮＱＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＱ_２
（１０）
（式中、ａ’は（ａー２）であり、すなわち０〜９の整数であり、ｂ及びＲ^２は上記の通りであり、Ｑは−ＳｉＲ^９_３で表されるシリル基であり、Ｒ^９は、互いに独立に、非置換の炭素数１〜２０の一価炭化水素基である）
化合物（Ｃ）：下記式（１１）で表されるポリエーテル
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ’−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｄ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｅ−Ｒ^３
（１１）
（式中、ｃ’は（ｃ−２）であり、すなわち０〜９の整数であり、ｄ、ｅ、Ｒ^２、及びＲ^３は上記の通りである）
化合物（Ｄ）：下記式（１２）で表される（ポリ）シロキサン
ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｆ’−（Ｒ^５_２ＳｉＯ）_ｓ−ＳｉＲ^５_３ （１２）
（式中、Ｒ^２、Ｒ^５、及びｓは上記の通りであり、ｆ’は（ｆ−２）であり、すなわち０〜９の整数である）

【0034】

上記化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを付加反応させることによりアミノアルキル基を有するシロキサンを得る。本発明の製造方法において、上記化合物（Ｃ）及び（Ｄ）は任意成分である。化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）とを付加反応させることにより、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基を有するシロキサンを得る。また、化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）及び化合物（Ｄ）とを付加反応させることにより、アミノアルキル基及び上記式（６）で表される分岐鎖を有するシロキサンを得る。特に好ましい態様としては、化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）及び（Ｃ）と任意で化合物（Ｄ）とを付加反応させて、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基を有し、任意で上記式（６）で表される分岐鎖を有するシロキサンを製造する。

【0035】

上記式（９）で表されるハイドロジェンシロキサン（Ａ）は、好ましくは下記一般式（１３）で表される直鎖状又は分岐を有するハイドロジェンシロキサン（Ａ’）である。該ハイドロジェンシロキサン（Ａ’）を原料として使用することにより、上記一般式（５）で表される、直鎖状又は分岐を有するアミノアルキル基含有シロキサンが得られる。
（Ａ’） Ｒ^１１−（Ｒ^１０_２ＳｉＯ）_ｖ−ＳｉＲ^１１_３
（１３）
式（１３）中、Ｒ^１１は、互いに独立に、水素原子、水酸基、アルコキシル基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基であり、Ｒ^１０は、互いに独立に、水素原子、水酸基、アルコキシル基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、又は上記式（７）で示される基であり、但し、Ｒ^１０及びＲ^１１の少なくとも１は水素原子であり、ｖはｘ＋ｙ＋ｚであり、すなわち１〜６０００の整数であり、好ましくは１〜１５００の整数であり、特に好ましくは７〜３００の整数であり、更に好ましくは９〜９０の整数である。上記括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は特に制限されず、ランダムに結合していても、ブロック構造を形成していてもよい。

【0036】

上記ハイドロジェンシロキサン（Ａ）及び（Ａ’）は、少なくとも１つのＳｉＨ基を有する。上記式（９）及び（１３）において、Ｒ^８及びＲ^１１は、互いに独立に、水素原子、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基である。Ｒ^１０は、互いに独立に、水素原子、水酸基、アルコキシル基、置換又は非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基、又は上記式（７）で示される基である。置換又は非置換の一価炭化水素基としては上記に例示したものが挙げられる。好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、又はフェニル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、又はフェニル基である。但し、Ｒ^８の少なくとも１つ、好ましくは２つ以上、特に好ましくは、５つ以上が水素原子であり、Ｒ^１０及びＲ^１１の少なくとも１、好ましくは２つ以上、特に好ましくは、５つ以上が水素原子である。

【0037】

上記ハイドロジェンシロキサン（Ａ）及び（Ａ’）は、これらの化合物の製造過程で生じる下記式（８）で示される環状シロキサンが含有されていてもよい。
（ＳｉＨＭｅＯ）_ｍ（ＳｉＭｅ_２Ｏ）_ｎ （８）
（式（８）中、ｍは０〜４の整数であり、ｎは３〜２０の整数である）
但し、本発明の製造方法における特に好ましい態様としては、上記化合物（Ａ）及び（Ａ’）に付随する該環状シロキサンの量が、ハイドロジェンシロキサン（Ａ）又は（Ａ’）１００質量部あたり１質量部以下、好ましくは０．５質量部以下、特に好ましくは０．１質量部以下、さらに好ましくは０．０１質量部以下である。下限値は０質量部である。このようなハイドロジェンシロキサン（Ａ）及び（Ａ’）を原料として使用することにより、得られるアミノアルキル基含有シロキサンに付随する環状シロキサンの量をより少なくすることができる。

【0038】

化合物（Ｂ）は、−ＳｉＲ^９_３で表されるシリル基で保護されたアミノ基と、不飽和基を持つ化合物である。上記式（１０）において、Ｒ^２は上記の通りであり、Ｑは−ＳｉＲ^９_３である。Ｒ^９は、互いに独立に、非置換の、炭素数１〜２０の、好ましくは炭素数１〜６の一価炭化水素基である。該非置換の一価炭化水素基としては上記に例示したものが挙げられる。Ｒ^９は、好ましくは炭素原子数１〜６の炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、又はフェニル基が好ましく、より好ましくはメチル基又はブチル基である。このようなシリル基としては、より詳細には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、及びトリイソプロピルシリル基等が挙げられる。特に好ましくはトリメチルシリル基である。
上記式（１０）においてａ’は（ａ−２）であり、すなわち０〜９の整数であり、好ましくは１又は０であり、特に好ましくは１である。ｂは０〜１０の整数であり、好ましくは０〜５の整数、特に好ましくは０又は１である。

【0039】

特には上記式（１０）において「ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ’−」で表される構造は下記のいずれかが好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＭｅＨ＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＨ_２＝ＣＭｅＣＨ_２−
該構造を有する化合物としては、例えばビストリメチルシリルアリルアミンが好ましい。

【0040】

化合物（Ｃ）は、不飽和基を持つポリエーテル化合物である。上記式（１１）において、Ｒ^２及びＲ^３は上記の通りである。ｃ’は（ｃ−２）であり、すなわち０〜９の整数であり、好ましくは１又は０であり、特に好ましくは１である。ｄは０〜１００の整数であり、好ましくは０〜５０の整数であり、特に好ましくは０〜２５の整数である。ｅは０〜１００の整数であり、好ましくは０〜５０の整数であり、特に好ましくは０〜２５の整数である。ただし、ｄ＋ｅ＞０である。

【0041】

特には上記式（１１）において「ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ’−」で表される構造は下記のいずれかが好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＭｅＨ＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＨ_２＝ＣＭｅＣＨ_２−

【0042】

化合物（Ｄ）は、不飽和基を持つ（ポリ）シロキサンである。上記式（１２）において、Ｒ^２及びＲ^５は上記の通りである。ｆ’は（ｆ−２）であり、すなわち０〜９の整数であり、好ましくは１又は０であり、特に好ましくは１である。ｓは上記の通りであり、０〜１０００の整数であり、好ましくは０〜１００の整数であり、特に好ましくは４〜３０の整数である。

【0043】

特には上記式（１２）において「ＣＨＲ^２＝ＣＲ^２−（ＣＲ^２Ｈ）_ｃ’−」で表される構造は下記のいずれかが好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＭｅＨ＝ＣＨＣＨ_２−， ＣＨ_２＝ＣＭｅＣＨ_２−

【0044】

付加反応は触媒下で行われるのがよく、公知の付加反応触媒を使用することができる。例えば、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、金、ニッケル等を有する金属触媒が挙げられる。特には、白金、パラジウム、又はロジウムを有する触媒が好ましい。さらに好ましくは白金を有する触媒であり、より詳細には、ＰｔＣｌ_４、Ｈ_２ＰｔＣｌ_６・６Ｈ_２Ｏ、Ｐｔ−エーテル錯体、Ｐｔ−オレフィン錯体、ＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２、ＰｄＣｌ_２（ＰｈＣＮ）_２、ＲｈＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_３（前記式中、Ｐｈはフェニル基である）が使用できる。触媒は１種単独でも２種以上の混合物であってもよい。触媒は必要に応じて、アルコール類、芳香族類、炭化水素類、ケトン類、又は塩基性溶媒などの溶媒で希釈して用いることができる。特には、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体（カルステッド触媒）が、付加反応触媒として最も好適である。

【0045】

触媒の量は触媒量であればよい。触媒量とは上記付加反応を進行させるのに十分な量である。化合物（Ａ）又は（Ａ’）１００質量部に対して、上記金属触媒の主金属換算量で０．０２質量部以下、好ましくは０．０００１質量部〜０．０２質量部、好ましくは０．００００３質量部〜０．０１質量部、特に好ましくは０．０００５質量部〜０．００５質量部である。触媒は、反応の初めから添加しても、反応途中に数回に分けて添加しても良い。本発明の製造方法は低触媒量であっても十分に反応を進行することができる。しかし触媒の量が少なすぎると反応速度が遅くなりすぎるため、上記下限値以上とするのが好ましい。また触媒の量が多すぎても反応速度性は格別に向上せず、不経済となるので好ましくない。

【0046】

得られるアミノアルキル基含有シロキサンに残存金属触媒が多く含まれていると、着色の原因となる。そのため、残存金属触媒量は少ない方がよい。本発明の製造方法では、得られるアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンに含有する金属触媒の量を、該シロキサン１００質量部に対して、主金属原子の換算量として０．０２質量部以下、好ましくは０．００５質量部以下、特に好ましくは０．００２質量部以下とすることができる。

【0047】

反応に供する化合物（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の量は、化合物（Ａ）が有するＳｉＨ基の個数に対し化合物（Ｂ）及び任意の（Ｃ）及び（Ｄ）が有するアルケニル基の合計個数が過剰となる量比が好ましい。例えば、ＳｉＨ基１個に対しアルケニル基の合計個数が１〜５個、好ましくは１〜２個、特に好ましくは１〜１．５個となる量比がよい。

【0048】

化合物（Ｂ）及び任意の化合物（Ｃ）及び（Ｄ）を付加させる順序は特に決まりはなく、化合物（Ｂ）の付加が終わった後に化合物（Ｃ）及び（Ｄ）を付加させても、化合物（Ｃ）の付加が終わった後に化合物（Ｂ）及び（Ｄ）を付加させても、化合物（Ｄ）の付加が終わった後に化合物（Ｂ）及び（Ｄ）を付加させても、化合物（Ｂ）と化合物（Ｃ）と化合物（Ｄ）とを同時に付加させても良い。多くの場合、化合物（Ｂ）の未反応物は、後の工程で除去することが可能であるため、化合物（Ｃ）と化合物（Ｄ）を先に付加反応させてから化合物（Ｂ）を付加反応させる方が好ましい。この場合、反応の様子を見ながら化合物（Ｂ）を足し、ヒドロシリル基を完全に反応させることができる。

【0049】

付加反応には溶剤を用いてもよい。溶剤は、トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、ＤＭＦ、アセトニトリル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール等を用いることができる。溶剤は、付加反応終了後に留去しても、しなくても良い。

【0050】

付加反応温度は、２０〜２５０℃、好ましくは、４０℃〜１８０℃、特に好ましくは、８０℃〜１２０℃である。反応時間は、２０時間以内、好ましくは、１２時間以内、特に好ましくは、８時間以内である。

【0051】

上記付加反応により下記式（１４）で表される化合物が得られる。

上記式（１４）において、Ｒ^１は、互いに独立に、水酸基、アルコキシル基、又は置換もしくは非置換の、炭素数１〜２０の一価炭化水素基、下記式（Ｂ’）で表される基、又は上記式（３）で表される基、又は上記式（６）で表される基である。ｋ、ｐ、ｑ、及びｒは上記の通りである。
−（ＣＲ^２Ｈ）_ａ−（ＮＱＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂ−ＮＱ_２ （Ｂ’）
式（Ｂ’）において、Ｑは−ＳｉＲ^９_３で表されるシリル基であり、Ｒ^９は上記の通りである。

【0052】

またハイドロジェンシロキサンが化合物（Ａ’）である場合には、上記付加反応により下記式（１５）で表される化合物が得られる。

上記式（１５）において、Ｒ^６及びＲ^７は上記の通りであり、又は、上記式（Ｂ’）で表される基であり、Ｂ’は上記式（Ｂ’）で表される基である。Ｒ^５、ｘ、ｙ、ｚ、及びＰは上記の通りである。

【0053】

ｉｉ）脱保護工程
上記式（１４）又は（１５）で表される化合物におけるアミンに結合しているシリル基Ｑをアミンから除く（以下、脱保護という）ことで、上記式（１）又は（５）で表されるアミノアルキル基含有シロキサンが得られる。

【0054】

脱保護反応は触媒存在下で行い、公知の触媒が使用できる。好ましくは酸性触媒であり、酢酸又はそのアミン塩、塩酸又はそのアミン塩、硫酸又はそのアミン塩、硝酸又はそのアミン塩、メタンスルホン酸又はそのアミン塩、トリフルオロメタンスルホン酸又はそのアミン塩、ｐ−トルエンスルホン酸又はそのアミン塩、ベンゼンスルホン酸又はそのアミン塩、陽イオン交換樹脂等が使用される。アミン塩としては、アンモニウム塩、トリエチルアミン塩等が例示される。好ましくは酢酸、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、特に好ましくは酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸である。酸触媒の量は、上記式（１４）又は式（１５）で示される化合物が有するアミンに対して、０．０１〜１モル当量使用する。好ましくは０．０５〜０．５モル当量であり、特に好ましくは０．１〜０．３モル当量が良い。

【0055】

脱保護反応は溶剤下で行う。溶剤はプロトン性溶剤が好ましい。例えば、水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、及び２−ブタノール等が使用される。さらに好ましくは、エタノール、１−プロパノール、または２−プロパノールであり、特に好ましくはエタノール、または２−プロパノールである。

【0056】

脱保護の反応温度は適宜選択されればよいが、好ましくは２０〜２００℃であり、さらに好ましくは４０〜１２０℃であり、特に好ましくは６０〜９０℃である。反応時間も適宜選択されればよいが、好ましくは１０時間以内であり、さらに好ましくは７時間以内であり、特に好ましくは４時間以内である。

【0057】

ｉｉｉ）中和工程
本発明の方法はさらに、上記工程ｉｉ）の後に、脱保護に使用した酸性触媒を中和する工程を含む。酸性触媒の中和は、中和剤の添加あるいは水洗により行えばよい。中和剤としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、及び水酸化カリウム等のアルカリ金属塩を用いることができる。また、陰イオン交換樹脂やキョーワード（登録商標）２００、５００、２０００（協和科学工業社製）のような吸着剤も使用することができる。好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、キョーワード２００、５００、２０００であり、特に好ましくはキョーワード（登録商標）２００、５００、２０００である。尚、キョーワード（登録商標）２００は水酸化アルミニウムであり、キョーワード（登録商標）５００とは合成ハイドロタルサイトＭｇ_１−ｘＡｌ_ｘ（ＯＨ）_２（ＣＯ_３）_ｘ／２・ｍＨ_２Ｏであり、キョーワード（登録商標）２０００はマグネシウム・アルミニウム系固溶体である。

【0058】

中和剤の使用温度は、０℃〜１００℃、好ましくは、１０℃〜８０℃、特に好ましくは２０℃〜５０℃である。系に不溶の中和剤を使用した場合や系に不溶の中和塩が出る場合は、濾過によってそれを取り除くことができる。系に中和塩が溶解する場合は、水を入れて水洗を行うことでそれを取り除くことができる。中和塩の除去はしてもしなくてもどちらでもよい。

【0059】

本発明の製造方法は、上記工程ｉ）〜ｉｉｉ）に加え、さらにｉｖ）溶剤の留去工程、ｖ）着色がある場合の脱色工程、ｖｉ）臭気がある場合の脱臭工程、及びｖｉｉ）異物が入っている場合のろ過工程の１以上を含むことができる。これらの工程は必要に応じて行えばよく、その順番は制限されない。

【0060】

ｉｖ）溶剤の留去工程
アミンは酸化されると黄色に着色することがある。そのため溶剤の留去は不活性ガス雰囲気下で行うことが望ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、及びヘリウム等が例示される。また、温度が高くなると着色しやすくなるため、減圧下で行う方が望ましい。温度としては、４０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１５０℃、特に好ましくは７０℃〜１２０℃である。減圧度は３００ｍｍＨｇ以下、好ましくは１００ｍｍＨｇ以下、特に好ましくは１０ｍｍＨｇ以下である。

【0061】

ｖ）脱色工程
得られた生成物が着色を有する場合、吸着剤を用いて脱色することができる。吸着剤としては、活性炭、活性アルミナ、ゼオライト、シリカゲル、陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂、メソポーラスシリカ、及びカーボンナノチューブ等が挙げられる。

【0062】

ｖｉ）脱臭工程
得られた生成物が臭気を有する場合、吸着剤を用いて脱臭することができる。吸着剤としては、活性炭、活性アルミナ、ゼオライト、シリカゲル、陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂、メソポーラスシリカ、及びカーボンナノチューブ等が挙げられる。あるいは、不活性ガスを吹き込むことで脱臭することができる。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等が例示される。加熱、減圧下の方が脱臭されやすく、温度としては２０℃〜１５０℃、好ましくは３０℃〜１００℃、特に好ましくは４０℃〜７０℃である。減圧度は、３００ｍｍＨｇ以下、好ましくは１００ｍｍＨｇ以下、特に好ましくは１０ｍｍＨｇ以下である。

【0063】

ｖｉｉ）ろ過工程
得られた生成物に異物が混在している場合、ろ紙、またはストレーナー等でろ過することで異物を取り除くことができる。

【実施例】

【0064】

以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。下記において^１Ｈ−ＮＭＲ分析は、ＥＣＸ−５００ＩＩ（日本電子株式会社製）を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用して実施した。
尚、下記実施例及び比較例において、付加反応に付したハイドロジェンシロキサンに不純物として含有していた環状シロキサン（（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＨＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＨＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＨＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＨＳｉＯ）_１で表される化合物）の総量は１０ｐｐｍ以下（ハイドロジェンシロキサン１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0065】

［実施例１］
一般式Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_５−ＳｉＭｅ_３で表されるハイドロジェンシロキサン１００質量部に、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈで表されるアリルポリエーテル３２．２７質量部、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）０．０１６７質量部を添加して、１００℃で２時間、加熱撹拌した。その後、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＴＭＳ_２で表されるビストリメチルシリルアリルアミン１６．１６質量部と、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）０．０３３３質量部を添加して、更に１００℃で４時間加熱撹拌した。その後、酢酸を０．９６質量部とイソプロピルアルコールを１００質量部添加し、８０℃で３時間加熱撹拌した。中和剤としてキョーワード５００を８質量部添加し、室温で２時間撹拌した後、１００℃、１０ｍｍＨｇにて溶剤を除去し、濾過板（ＮＡ−５００、アドバンテック社製）でキョーワード（登録商標）５００（協和科学工業株式会社製）を濾過して生成物を得た。上記反応で使用した触媒の総量は、ハイドロジェンシロキサン１００質量部に対し白金金属換算量として０．００１５質量部であった。得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_１−（ＭｅＰＳｉＯ）_４−ＳｉＭｅ_３

式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は、１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0066】

［実施例２］
ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈで表されるアリルポリエーテルの量を２０．１７質量部にし、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＴＭＳ_２で表されるビストリメチルシリルアリルアミンの量を２４．２３質量部にし、酢酸の量を１．４４質量部にし、キョーワード５００の量を１２質量部にした他は上記実施例１を繰り返して生成物を得た。得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_２−（ＭｅＰＳｉＯ）₃−ＳｉＭｅ_３

式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は、１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0067】

［実施例３］
ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈで表されるアリルポリエーテル２０．１７質量部を、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈで表されるアリルポリエーテル４６．８３質量部に変えた他は上記実施例２を繰り返して生成物を得た。得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_２−（ＭｅＰＳｉＯ）₃−ＳｉＭｅ_３

式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は、１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0068】

［実施例４］
ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈで表されるアリルポリエーテルの量を１８．７３質量部にし、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＴＭＳ_２で表されるビストリメチルシリルアリルアミンの量を４０．３９質量部にし、酢酸の量を２．４１質量部にし、キョーワード５００の量を２０質量部にした他は上記実施例３を繰り返して生成物を得た。得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_４−（ＭｅＰＳｉＯ）_１−ＳｉＭｅ_３

式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は、１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0069】

［実施例５］
実施例３の一般式ハイドロジェンシロキサンを一般式（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_３８（ＭｅＨＳｉＯ_２／２）_５（ＭｅＳｉＯ_３／２）_１で表されるハイドロジェンシロキサンにし、アリルポリエーテルを３２．４２質量部、ビストリメチルシリルアリルアミンを１７．２４質量部、酢酸を１．０３質量部、キョーワード５００を８．５質量部にした他は上記実験例３を繰り返して生成物を得た。得られた生成物は、^１Ｈ−ＮＭＲより下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_３（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_３８（ＭｅＢＳｉＯ_２／２）_２（ＭｅＰＳｉＯ_２／２）₃（ＭｅＳｉＯ_３／２）_１
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0070】

［実施例６］
実施例５のハイドロジェンシロキサンを、一般式（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_４（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_４７（ＭｅＨＳｉＯ_２／２）_５（ＳｉＯ_４／２）_１ で表されるハイドロジェンシロキサンにし、アリルポリエーテルを２６．２９質量部、ビストリメチルシリルアリルアミンを１１．６５質量部、酢酸を０．７０質量部、キョーワード５００を５．８質量部にした他は上記実施例５を繰り返して生成物を得た。得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
（Ｍｅ_３ＳｉＯ_１／２）_４（Ｍｅ_２ＳｉＯ_２／２）_４７（ＭｅＢＳｉＯ_２／２）_２（ＭｅＰＳｉＯ_２／２）₃（ＳｉＯ_４／２）_１
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0071】

［実施例７］
一般式Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_５−ＳｉＭｅ_３で表されるハイドロジェンシロキサン１００質量部に、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈのアリルポリエーテル１８．７３質量部、ＣＨ_２＝ＣＨ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_１０Ｂｕの片末端ビニルシロキサン３１．５９質量部、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）を０．０１６７添加して、１００℃で２時間、加熱撹拌した。その後、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＴＭＳ_２のビストリメチルシリルアリルアミンを２７．７５質量部と塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）を０．０３３３質量部添加して、更に１００℃で４時間加熱撹拌した。その後、酢酸を１．６６質量部とイソプロピルアルコールを１００質量部添加し、８０℃で３時間、加熱撹拌した。中和剤として、キョーワード５００を１３．７質量部添加し、室温で２時間撹拌した後、１００℃、１０ｍｍＨｇにて溶剤を除去し、濾過板（ＮＡ−５００、アドバンテック社製）でキョーワード（登録商標）５００（協和科学工業株式会社製）を濾過して生成物を得た。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_３−（ＭｅＰＳｉＯ）_１−（ＭｅＲＳｉＯ）_１−ＳｉＭｅ_３
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_９−Ｈ、Ｒは−Ｃ_２Ｈ_４Ｏ（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_１０Ｂｕである。

得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0072】

［実施例８］
一般式Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_５−ＳｉＭｅ_３で表されるハイドロジェンシロキサン１００質量部に、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＴＭＳ_２のビストリメチルシリルアリルアミンを５５．５質量部と塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）を０．０３３３質量部添加して、１００℃で４時間加熱撹拌した。その後、酢酸を３．３２質量部とイソプロピルアルコールを１００質量部添加し、８０℃で３時間、加熱撹拌した。中和剤として、キョーワード５００を２７．４質量部添加し、室温で２時間撹拌した後、１００℃、１０ｍｍＨｇにて溶剤を除去し、濾過板（ＮＡ−５００、アドバンテック社製）でキョーワード（登録商標）５００（協和科学工業株式会社製）を濾過して生成物を得た。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＢＳｉＯ）_５−ＳｉＭｅ_３
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２である。
得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析して、ヒドロシリル基が無いこと、また、トリメチルシリル基が完全に脱保護されていることを確認した。また、上記生成物に含有していたオクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンの量は、生成物の総質量に対してそれぞれ検出限界（５ｐｐｍ）以下であり、白金原子の残存量は生成物の総質量に対して１５ｐｐｍ以下であった。
さらに、ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は、１０ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．００１質量部以下）であった。

【0073】

［比較例１］
一般式Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_５−ＳｉＭｅ_３で表されるハイドロジェンシロキサン１００質量部に、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３−Ｈで表されるアリルポリエーテル２０．１７質量部、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）を０．０１６７質量部添加して、１００℃で２時間加熱撹拌した。その後、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＨ_２）−ＮＨ_２で表されるアリルアミンを４．５８質量部と塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）を０．０３３３質量部添加して、更に１００℃で４時間加熱撹拌し生成物を得た。上記反応で使用した触媒の総量は、ハイドロジェンシロキサン１００質量部に対し白金金属換算量として０．００１５質量部であった。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_２−（ＭｅＰＳｉＯ）_３−ＳｉＭｅ_３
しかし、得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析したところ、未反応ヒドロシリル基の存在が確認された。これはアリルアミンにより付加反応が阻害されたことを意味する。

【0074】

［比較例２］
アリルアミン添加時に加える塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のエタノール溶液（白金含有量３．０ｗｔ％）の量０．０３３３質量部を０．６６６７質量部に変えた他は比較例１を繰り返し生成物を得た。当該反応で使用した触媒の総量は、ハイドロジェンシロキサン１００質量部に対し白金金属換算量として０．０２０５質量部であった。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３０−（ＭｅＨＳｉＯ）_１−（ＭｅＢＳｉＯ）_１−（ＭｅＰＳｉＯ）_３−ＳｉＭｅ_３
しかし、得られた生成物を^１Ｈ−ＮＭＲで分析したところ、未反応ヒドロシリル基の存在が確認された。これはアリルアミンにより付加反応が阻害されたことを意味する。
比較例２に示す通り、アリルアミンを使用する方法では、触媒の量を増やしたとしても十分に反応が進まず、未反応のヒドロシリル基が残存する。

【0075】

［比較例３］
オクタメチルシクロテトラシロキサン １４５０質量部、３−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物 ５０質量部、Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_１１−ＳｉＭｅ_３ ５０質量部、水酸化カリウム ０．２質量部を１４５℃で５時間加熱することで、平衡化を行った。その後、８０℃まで冷却後、２−クロロエタノール ２質量部を加えて、８０℃で２時間加熱した。得られた生成物を１２０℃、３５ｍｍＨｇ下で３時間かけて揮発成分を留去し、目的物を得た。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４５０−（ＭｅＢＳｉＯ）_１０−ＳｉＭｅ_３
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２である。

ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は１０，０００ｐｐｍ超（生成物１００質量部に対して１質量部超）であった。

【0076】

［比較例４］
オクタメチルシクロテトラシロキサン ２２２質量部、３−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物 ３５２質量部、Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_２８−（ＭｅＰＳｉＯ）_３−ＳｉＭｅ_３ （Ｐ＝−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_３Ｈ） ５０質量部、テトラ ｎ−ブチルホスホニウムハイドロキサイド １．７質量部を１２０℃で６時間加熱することで、平衡化を行った。その後、１６０℃で３時間加熱し、１２０℃、３５ｍｍＨｇ下で３時間かけて揮発成分を留去したところ、ゲル状物が得られた。そのため、目的物を得ることができなかった。

【0077】

［比較例５］
オクタメチルシクロテトラシロキサン ２００２質量部、３−アミノプロピルメチルジメトキシシランの加水分解物 ４６９質量部、Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４−（ＭｅＰＳｉＯ）−ＳｉＭｅ_３ （Ｐ＝−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_１１Ｍｅ） １００１質量部、テトラ ｎ−ブチルホスホニウムハイドロキサイド １０．４質量部を１２０℃で６時間加熱することで、平衡化を行った。その後、１６０℃で３時間加熱し、１２０℃、３５ｍｍＨｇ下で３時間かけて揮発成分を留去し、目的物を得た。
得られた生成物は^１Ｈ−ＮＭＲより、下記一般式で表される化合物であった（括弧内に示される各シロキサン単位の結合順序は下記に制限されない）。
Ｍｅ−（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３１−（ＭｅＢＳｉＯ）_４−（ＭｅＰＳｉＯ）_１−ＳｉＭｅ_３
式中、Ｂは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２であり、Ｐは−Ｃ_３Ｈ_６Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_１１Ｍｅである。

ＧＣ分析の結果より、該生成物に含有していた（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１で表される環状シロキサン（いずれもＢは−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の総量は１０，０００ｐｐｍ超（生成物１００質量部に対して１質量部超）であった。

【0078】

実施例１〜８に示す通り、本発明の製造方法によれば、付加反応が阻害されることはなく、低触媒量であっても十分に反応が進み、未反応ヒドロシリル基を残存させない。また、得られる生成物に不純物として含有する、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_３（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_４（ＭｅＢＳｉＯ）_１、（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_５（ＭｅＢＳｉＯ）_１、及び（Ｍｅ_２ＳｉＯ）_６（ＭｅＢＳｉＯ）_１（Ｂ＝−Ｃ_３Ｈ_６ＮＨ_２）の量を、それぞれ１０００ｐｐｍ以下（生成物１００質量部に対して０．１質量部以下）に低減することもできる。

【産業上の利用可能性】

【0079】

本発明の製造方法によれば、不純物として含まれる環状シロキサンの量を低減したアミノアルキル基含有シロキサン、特にはアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンを効率よく生成することができる。また、ポリエーテル鎖の末端がアルキル基で封鎖されている構造だけでなく、ポリエーテル鎖の末端に水酸基を有する化合物も製造することができる。本発明の製造方法により得られるアミノアルキル基含有シロキサン及びアミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサンは、例えば化粧料、繊維処理剤、撥水剤、撥油剤、離型剤、塗料添加剤に有用である。