特許第6646953号(P6646953)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6646953半導体基板処理装置での調整可能な対流−拡散ガス流のための中央ガスインジェクタを含むセラミックシャワーヘッド
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