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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7840155 二次電子発生のために様々な平均自由行程を有する介在層または多層積層を用いる極端紫外線(EUV)リソグラフィ 2026年 4月 3日
特許 7840318 ウエハベベルエッジのプラズマ処理におけるアーキングの低減 2026年 4月 3日
特許 7839639 ラメラセラミック構造 2026年 4月 2日
特許 7839177 半導体処理チャンバ構成要素のためのポリマコーティング 2026年 4月 1日
特許 7837948 選択的除去帯域非高周波結合タイルならびに関連する方法およびシステム 2026年 3月31日
特許 7836484 分散型プラズマ源アレイ 2026年 3月27日
特許 7836664 ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像 2026年 3月27日
特許 7833606 金属膜の蒸着 2026年 3月19日
特許 7829792 金属膜の蒸着 2026年 3月18日
特許 7832168 金属含有フォトレジストの現像のための金属キレート剤 2026年 3月17日
特許 7829557 フェイスレスシャワーヘッド 2026年 3月13日
特許 7828275 プラズマチャンバコンポーネントの無機コーティング 2026年 3月11日
特許 7827701 金属基複合材の半導体処理チャンバ構成部品の陽極酸化 2026年 3月10日
特許 7826298 堅牢なアッシング可能ハードマスク 2026年 3月 9日
特許 7826418 プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム 2026年 3月 9日

48 件中 1-15 件を表示

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7840155 7840318 7839639 7839177 7837948 7836484 7836664 7833606 7829792 7832168 7829557 7828275 7827701 7826298 7826418

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