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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第127位 253件
(
2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第136位 203件
(
2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7785132 | 半導体処理ツールにおけるRF電流測定 | 2025年12月12日 | |
| 特許 7781229 | 半導体処理における異常プラズマ事象の検出および軽減 | 2025年12月 5日 | |
| 特許 7778898 | RF電力損失を補償するためのシステムおよび方法 | 2025年12月 2日 | |
| 特許 7775353 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2025年11月25日 | |
| 特許 7775354 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2025年11月25日 | |
| 特許 7775355 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2025年11月25日 | |
| 特許 7774604 | 埋め込み温度センサを備えた基板支持体のためのコネクタ | 2025年11月21日 | |
| 特許 7774611 | 被膜を形成するための方法 | 2025年11月21日 | |
| 特許 7774091 | 堆積副生成物の蓄積からの真空ポンプの保護 | 2025年11月20日 | |
| 特許 7772704 | 3端子垂直メモリ構造におけるチャネル層の保護 | 2025年11月18日 | |
| 特許 7771022 | 金属膜の蒸着 | 2025年11月17日 | |
| 特許 7771082 | 分流レスガス投与 | 2025年11月17日 | |
| 特許 7770441 | 半導体基板処理におけるペデスタルへの蒸着の防止 | 2025年11月14日 | |
| 特許 7769609 | システム、方法、機械可読媒体、及び、基板処理システム | 2025年11月13日 | |
| 特許 7768883 | 半導体金属配線の高速3D金属印刷 | 2025年11月12日 |
203 件中 1-15 件を表示
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7785132 7781229 7778898 7775353 7775354 7775355 7774604 7774611 7774091 7772704 7771022 7771082 7770441 7769609 7768883
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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