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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第158位 55件
(
2025年:第126位 262件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第160位 48件
(
2025年:第136位 215件)
(ランキング更新日:2026年4月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7840155 | 二次電子発生のために様々な平均自由行程を有する介在層または多層積層を用いる極端紫外線(EUV)リソグラフィ | 2026年 4月 3日 | |
| 特許 7840318 | ウエハベベルエッジのプラズマ処理におけるアーキングの低減 | 2026年 4月 3日 | |
| 特許 7839639 | ラメラセラミック構造 | 2026年 4月 2日 | |
| 特許 7839177 | 半導体処理チャンバ構成要素のためのポリマコーティング | 2026年 4月 1日 | |
| 特許 7837948 | 選択的除去帯域非高周波結合タイルならびに関連する方法およびシステム | 2026年 3月31日 | |
| 特許 7836484 | 分散型プラズマ源アレイ | 2026年 3月27日 | |
| 特許 7836664 | ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像 | 2026年 3月27日 | |
| 特許 7833606 | 金属膜の蒸着 | 2026年 3月19日 | |
| 特許 7829792 | 金属膜の蒸着 | 2026年 3月18日 | |
| 特許 7832168 | 金属含有フォトレジストの現像のための金属キレート剤 | 2026年 3月17日 | |
| 特許 7829557 | フェイスレスシャワーヘッド | 2026年 3月13日 | |
| 特許 7828275 | プラズマチャンバコンポーネントの無機コーティング | 2026年 3月11日 | |
| 特許 7827701 | 金属基複合材の半導体処理チャンバ構成部品の陽極酸化 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7826298 | 堅牢なアッシング可能ハードマスク | 2026年 3月 9日 | |
| 特許 7826418 | プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム | 2026年 3月 9日 |
48 件中 1-15 件を表示
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7840155 7840318 7839639 7839177 7837948 7836484 7836664 7833606 7829792 7832168 7829557 7828275 7827701 7826298 7826418
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