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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第137位 71件
(2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第151位 58件
(2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年4月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7659032 | 複数のステーションシステムにおいてプラズマを平準化するために使用されるモジュール式レシピ制御較正(MRCC)装置 | 2025年 4月 8日 | |
特許 7657802 | 消耗チャンバ部品におけるカプセル化RFID | 2025年 4月 7日 | |
特許 7657145 | プラズマ処理チャンバ構成要素のための表面コーティング | 2025年 4月 4日 | |
特許 7656619 | ビニングを使用して低周波サイクル中に電力を増加させるシステム及び方法 | 2025年 4月 3日 | |
特許 7653908 | 次世代リソグラフィにおいて有用なハードマスクを作製する方法 | 2025年 3月31日 | |
特許 7653363 | 空間的に調節可能なウエハへのRF結合を有する静電チャック | 2025年 3月28日 | |
特許 7652805 | 基板処理システムのダイレクトドライブ回路内のスイッチの保護システム | 2025年 3月27日 | |
特許 7652956 | 構成可能な分散インターロック-システム | 2025年 3月27日 | |
特許 7649741 | 3D NAND構造上の原子層堆積 | 2025年 3月21日 | |
特許 7649749 | 側壁洗浄によるイオンビームエッチング | 2025年 3月21日 | |
特許 7646929 | ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像 | 2025年 3月17日 | |
特許 7645819 | プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645890 | 磁気を使用するエッチングおよびプラズマ均一性の制御 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645891 | 局所応力調整のためのUV硬化 | 2025年 3月14日 | |
特許 7644019 | プラズマチャンバを洗浄するための装置 | 2025年 3月11日 |
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7659032 7657802 7657145 7656619 7653908 7653363 7652805 7652956 7649741 7649749 7646929 7645819 7645890 7645891 7644019
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