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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第157位 33件
(2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第129位 32件
(2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7634528 | 変圧器および/または変圧器結合コンバイナを含む無線周波数分配回路 | 2025年 2月21日 | |
特許 7631186 | プラズマベースの堆積のための表面改質深さ制御堆積 | 2025年 2月18日 | |
特許 7631328 | 二重プレナムフラクタルシャワーヘッド | 2025年 2月18日 | |
特許 7628954 | 陽極酸化およびコーティングされた表面の巨視的なテクスチャ | 2025年 2月12日 | |
特許 7628167 | ヒータアレイにおける故障の特定および補償 | 2025年 2月 7日 | |
特許 7626628 | プラズマプルーム用のフィルタ | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626705 | 差圧ベースの流量計 | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626818 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626846 | 高温プロセスのための軸方向に冷却される金属シャワーヘッド | 2025年 2月 4日 | |
特許 7625540 | マルチステーション半導体処理における独立して調整可能な流路コンダクタンス | 2025年 2月 3日 | |
特許 7625571 | 基板処理システム用の熱電冷却台座 | 2025年 2月 3日 | |
特許 7624460 | 裏面処理のためのステーション可変支持フィーチャを備えたマルチステーション処理ツール | 2025年 1月30日 | |
特許 7624464 | 処理均一性を改善した基板支持体 | 2025年 1月30日 | |
特許 7623300 | 基板処理システムの静電チャックの温度を監視するためのRF免疫センサプローブ | 2025年 1月28日 | |
特許 7623305 | 基板表面の蒸気洗浄 | 2025年 1月28日 |
32 件中 1-15 件を表示
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7634528 7631186 7631328 7628954 7628167 7626628 7626705 7626818 7626846 7625540 7625571 7624460 7624464 7623300 7623305
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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