特許6651965単量体、高分子化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法

発明の名称　単量体、高分子化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（374件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（372件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6651965

公報発行日　2020年2月19

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6651965

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