特許 6656410 カルビノール官能トリシロキサン及びそれを形成する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6656410

(24)【登録日】2020年2月6日

(45)【発行日】2020年3月4日

(54)【発明の名称】カルビノール官能トリシロキサン及びそれを形成する方法

(51)【国際特許分類】

   C07F 7/08 20060101AFI20200220BHJP

   C07F 7/10 20060101ALI20200220BHJP

【ＦＩ】

   C07F7/08 XCSP

   C07F7/10 W

【請求項の数】5

【全頁数】32

(21)【出願番号】特願2018-555530(P2018-555530)

(86)(22)【出願日】2017年4月26日

(65)【公表番号】特表2019-514886(P2019-514886A)

(43)【公表日】2019年6月6日

(86)【国際出願番号】US2017029598

(87)【国際公開番号】WO2017189704

(87)【国際公開日】20171102

【審査請求日】2018年11月2日

(31)【優先権主張番号】62/328,082

(32)【優先日】2016年4月27日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】590001418

【氏名又は名称】ダウ シリコーンズ コーポレーション

(73)【特許権者】

【識別番号】719000328

【氏名又は名称】ダウ・東レ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】エリック・ジェイ・ジョフル

(72)【発明者】

【氏名】レニン・ジェイ・ペトロフ

(72)【発明者】

【氏名】杉浦 常仁

(72)【発明者】

【氏名】田村 誠基

(72)【発明者】

【氏名】ザッカリー・アール・ウェンズリック

【審査官】 神谷 昌克

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第９４／０２９３２４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０５−２３８９１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００２−５３７４５９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００９／０８５３００（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１６／０５７２８８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第９４／０２９３２２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０６−３２１８７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表平０７−５０６５９６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−３１６０８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 APPLIED ORGANOMETALLIC CHEMISTRY，１９９６年，Vol.10，pp.437-450

【文献】 APPLIED ORGANOMETALLIC CHEMISTRY，１９９９年，Vol.13，pp.21-28

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｆ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

以下の一般式（Ｉ）：
（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）（Ｒ^１Ｒ^３ＳｉＯ_２／２）（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２） （Ｉ）
のトリシロキサン（式中、各Ｒ^１が、独立して選択されるヒドロカルビル基であり、Ｒ^３が、以下の基（ｉ）〜（ｉｖ）

【化1】

【化2】

【化3】

【化4】

から選択される）。

【請求項2】

請求項１に記載のトリシロキサン及び少なくとも１つの分散剤、任意選択でプロピレングリコールを含む、組成物。

【請求項3】

請求項１に記載のトリシロキサンを形成する方法であって：
（１）（Ａ）水素原子、エポキシ含有基、エチレン性不飽和基及びアミン基から選択されるペンダントケイ素結合官能基を有する初期トリシロキサンを準備するステップ、
（２）（Ｂ）成分（Ａ）の前記ペンダントケイ素結合官能基と反応性の官能基、及び少なくとも１個のヒドロキシル官能基を有する有機化合物を準備するステップ、並びに
（３）成分（Ａ）及び（Ｂ）を反応させて、前記トリシロキサンを形成するステップを含む、方法。

【請求項4】

ステップ（１）が、
（１ａ）水素トリシロキサンとエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、エポキシ含有基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義され、
成分（Ｂ）が、アミン化合物であり、ステップ（３）が、
（３ａ）成分（Ｂ）及びステップ（１ａ）で形成された前記反応中間体を反応させて、前記トリシロキサンを形成するステップと更に定義され、
任意選択で、
（１ｂ）ステップ（１ａ）後に、未反応のエポキシ化合物を除去するステップ（複数可）、及び／又は、
（３ｂ）ステップ（３ａ）後に、未反応成分（Ｂ）を除去するステップ（複数可）を更に含む、
請求項３に記載の方法。

【請求項5】

ステップ（２）が、
（２ａ）少なくとも１個のヒドロキシル官能基を有するアミン化合物とエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を反応させて、前記エチレン性不飽和基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義され、
成分（Ａ）が、水素トリシロキサンであり、ステップ（３）が、
（３ａ）成分（Ａ）及びステップ２ａ）で形成された前記反応中間体を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、前記トリシロキサンを形成するステップと更に定義され、
任意選択で、
（２ｂ）ステップ（２ａ）後に、未反応の化合物を除去するステップ（複数可）、並びに／又は、
（３ｂ）ステップ（３ａ）後に、未反応成分（Ａ）を除去するステップ（複数可）を更に含む、
請求項３に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、一般的に、トリシロキサン、より具体的には少なくとも１個のカルビノール官能基を有するトリシロキサン、及びトリシロキサンを形成する方法に関する。トリシロキサンは、典型的には、ポリオキシアルキレン基を含まず、例えばトリシロキサンは、ＰＥＧフリーであり、洗剤添加剤としての使用が挙げられるが、それらに限定されない、いくつかの用途で有用である。

【0002】

トリシロキサンポリエーテル材料は、有効な界面活性剤であることが公知である。これらは、低濃度で、水溶液の表面エネルギーをおよそ２０ダイン／ｃｍに低下させることができる。このため、トリシロキサンポリエーテル材料を広範な用途、農薬補助剤、インク及びコーティングで利用することが可能になっている。

【0003】

残念ながら、トリシロキサンポリエーテル材料の化学的構成では、いくつかの問題を提示されている。例えば、大半の商用トリシロキサンポリエーテル材料が、水に可溶性である、又は容易に分散性であるため、トリシロキサンポリエーテル材料の使用は、多くの洗剤用途で限定されている。これにより、トリシロキサンポリエーテル材料は、欧州連合（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｕｎｉｏｎ、ＥＵ）の洗剤に関する指示（すなわち、欧州議会及び洗剤審議会（Ｃｏｕｎｃｉｌ ｏｎ ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ）の法令（ＥＣ）Ｎｏ．６４８／２００４）により、「界面活性剤」として分類される。したがって、トリシロキサンポリエーテル材料は、ＥＵの洗剤に関する指示で定義されている方法により容易に生分解性でなければならない。生分解の一般的方法論に基づいて、ＥＵの洗剤に関する指示を満たすように十分に生分解するトリシロキサンポリエーテル材料は公知ではない。したがって、これらの用途におけるトリシロキサンポリエーテル材料の使用は限定される。

【0004】

先述の観点において、改善したトリシロキサン材料を示す好機は依然ある。そのようなトリシロキサン材料を作る方法を示す好機も依然ある。

【発明の概要】

【0005】

少なくとも１個のカルビノール官能基を有するトリシロキサンが提供される。トリシロキサンは、（Ａ）初期トリシロキサン及び（Ｂ）有機化合物の反応生成物を含む。成分（Ａ）は、ペンダントケイ素結合官能基を有する。ペンダントケイ素結合官能基は、一般的に、水素原子、エポキシ含有基、エチレン性不飽和基及びアミン基から選択される。典型的には、成分（Ａ）は、水素原子、エポキシ含有基、エチレン性不飽和基及びアミン基から選択される末端ケイ素結合官能基を含まない。成分（Ａ）は、典型的には、ポリオキシアルキレン基も含まない。成分（Ｂ）は、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基と反応性の官能基を有する。成分（Ｂ）は、少なくとも１個のヒドロキシル官能基も有する。

【0006】

トリシロキサンは、以下の条件に従う。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基が水素原子である場合、成分（Ｂ）の官能基は、エチレン性不飽和基である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がエポキシ含有基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、アミン基である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がエチレン性不飽和基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、水素原子である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がアミン基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、エポキシ含有基である。

【0007】

様々な実施形態において、トリシロキサンは、以下の一般式（Ｉ）：
（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）（Ｒ^１Ｒ^３ＳｉＯ_２／２）（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２） （Ｉ）
のものである。

【0008】

上式（Ｉ）において、各Ｒ^１は、独立して選択されるヒドロカルビル基である。Ｒ^３は、以下の基（ｉ）〜（ｉｖ）：

【0009】

【化1】

【0010】

【化2】

【0011】

【化3】

【0012】

【化4】

【0013】

から選択され得る。

【0014】

トリシロキサンを形成する方法も提供される。この方法は、１）成分（Ａ）を準備するステップ、及び２）成分（Ｂ）を準備するステップを含む。この方法は、３）成分（Ａ）及び（Ｂ）を反応させて、トリシロキサンを形成するステップを更に含む。トリシロキサンは、洗剤添加剤としての使用が挙げられるが、それらに限定されないいくつかの用途に有用である。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】トリシロキサンを形成する方法を例証する反応スキームであり、

【図2】トリシロキサンを形成する別の方法を例証する反応スキームである。

【発明を実施するための形態】

【0016】

「周囲温度」又は「室温」という用語は、約２０℃〜約３０℃の温度を指す。通常、室温は、約２０℃〜約２５℃の範囲である。本明細書で言及されているすべての粘度測定は、別段指示がない限り２５℃にて測定した。以下の略語は、本明細書において以下の意味を有する：「Ｍｅ」は、メチルを意味し、「Ｅｔ」は、エチルを意味し、「Ｐｒ」はプロピルを意味し、「Ｂｕ」はブチルを意味し、「ｇ」はグラムを意味し、「ｐｐｍ」は１００万分の１部を意味し、「ｈ」は時間を意味し、「ＧＣ／ＭＳ」はガスクロマトグラフィー及び質量分析を意味し、「ＮＭＲ」は核磁気共鳴を意味する。

【0017】

「ヒドロカルビル」は、置換又は非置換であってよい一価炭化水素基を意味する。ヒドロカルビル基の具体的な例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基などが挙げられる。

【0018】

「アルキル」は、非環状、分岐又は非分岐の飽和一価炭化水素基を意味する。アルキルは、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ（例えばイソ−Ｐｒ及び／又はｎ−Ｐｒ）、Ｂｕ（例えばイソ−Ｂｕ、ｎ−Ｂｕ、ｔｅｒｔ−Ｂｕ及び／又はｓｅｃ−Ｂｕ）、ペンチル（例えばイソ−ペンチル、ネオ−ペンチル及び／又はｔｅｒｔ−ペンチル）、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシル並びに分岐した飽和一価炭化水素基の６〜１２個の炭素原子により例示されるが、それらに限定されない。アルキル基は、１〜３０、あるいは１〜２４、あるいは１〜２０、あるいは１〜１２、あるいは１〜１０、あるいは１〜６個の炭素原子を有し得る。

【0019】

「アルケニル」は、１つ以上の炭素−炭素二重結合を有する非環状、分岐又は非分岐の一価炭化水素基を意味する。アルケニルは、ビニル、アリル、メタリル、プロペニル及びヘキセニルにより例示されるが、それらに限定されない。アルケニル基は、２〜３０、あるいは２〜２４、あるいは２〜２０、あるいは２〜１２、あるいは２〜１０、あるいは２〜６個の炭素原子を有し得る。

【0020】

「アルキニル」は、１つ以上の炭素−炭素三重結合を有する非環状、分岐又は非分岐の一価炭化水素基を意味する。アルキニルは、エチニル、プロピニル及びブチニルにより例示されるが、それらに限定されない。アルキニル基は、２〜３０、あるいは２〜２４、あるいは２〜２０、あるいは２〜１２、あるいは２〜１０、あるいは２〜６個の炭素原子を有し得る。

【0021】

「アリール」は、環状、完全に不飽和の炭化水素基を意味する。アリールは、シクロペンタジエニル、フェニル、アントラセニル及びナフチルにより例示されるが、それらに限定されない。単環式アリール基は、５〜９、あるいは６〜７、あるいは５〜６個の炭素原子を有し得る。多環式アリール基は、１０〜１７、あるいは１０〜１４、あるいは１２〜１４個の炭素原子を有し得る。

【0022】

「アラルキル」は、ペンダント及び／若しくは末端アリール基を有するアルキル基、又はペンダントアルキル基を有するアリール基を意味する。例示的なアラルキル基は、トリル、キシリル、メシチル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル及びフェニルブチルが挙げられる。

【0023】

「アルケニレン」は、１つ以上の炭素−炭素二重結合を有する非環状、分岐又は非分岐の二価炭化水素基を意味する。「アルキレン」は、非環状、分岐又は非分岐の飽和二価炭化水素基を意味する。「アルキニレン」は、１つ以上の炭素−炭素三重結合を有する非環状、分岐又は非分岐の二価炭化水素基を意味する。「アリーレン」は、環状の完全不飽和二価炭化水素基を意味する。

【0024】

「炭素環」及び「炭素環式」は、それぞれ、炭化水素環を意味する。炭素環は、単環式環であってよく、あるいは縮合、架橋又はスピロ多環式環であってよい。単環式炭素環は、３〜９、あるいは４〜７、あるいは５〜６個の炭素原子を有し得る。多環式炭素環は、７〜１７、あるいは７〜１４、あるいは９〜１０個の炭素原子を有し得る。炭素環は、飽和又は部分的に不飽和であってよい。

【0025】

「シクロアルキル」は、飽和炭素環を意味する。単環式シクロアルキル基は、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルにより例示される。「シクロアルキレン」は、二価飽和炭素環を意味する。

【0026】

別の基、例えばヒドロカルビル基に関連して使用されている「置換されている」という用語は、別段指示がない限り、１個以上の水素原子が、ヒドロカルビル基において別の置換基で置き換えられていることを意味する。そのような置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子、例えば塩素、フッ素、臭素及びヨウ素、ハロゲン原子含有基、例えばクロロメチル、ペルフルオロブチル、トリフルオロエチル及びノナフルオロヘキシル、酸素原子、酸素原子含有基、例えば（メタ）アクリル及びカルボキシル、窒素原子、窒素原子含有基、例えばアミン、アミノ官能基、アミド官能基及びシアノ官能基、硫黄原子、並びに硫黄原子を含有する基、例えばメルカプト基が挙げられる。

【0027】

Ｍ、Ｄ、Ｔ及びＱ単位は、一般的に、Ｒ_ｕＳｉＯ（_{４−ｕ）／２}として表されている（式中、ｕは、Ｍ、Ｄ、Ｔ及びＱに対してそれぞれ３、２、１及び０であり、Ｒは、独立して選択されるヒドロカルビル基である）。Ｍ、Ｄ、Ｔ、Ｑは、分子構造の残部に連結するケイ素原子に共有結合した、１個の（モノ）、２個の（ジ）、３個の（トリ）又は４個の（クアッド）酸素原子を指定する。

【0028】

トリシロキサン
少なくとも１個のカルビノール官能基を有するトリシロキサンが準備される。「カルビノール」という用語は、炭素原子に結合しているヒドロキシル基（Ｃ−ＯＨ）を指し、ケイ素原子に結合しているヒドロキシル基（Ｓｉ−ＯＨ）とは区別される。カルビノール官能基は、一般的に、非加水分解性部分によりシロキサン骨格に連結している。トリシロキサンは、カルビノール官能トリシロキサン、ヒドロキシ官能トリシロキサン、いくつかの例において、ポリオール官能トリシロキサンとも呼ばれる。

【0029】

シリコーン業界で理解されているように、トリシロキサンは、一般的に、両側にＭユニット、すなわち、末端Ｍユニットが配置されているＤユニットを含む。更に、トリシロキサンは、一般的に、Ｔ及びＱ単位をいずれも含まない。

【0030】

様々な実施形態において、トリシロキサンは、１〜６個、あるいは２〜５個、あるいは３〜４個のカルビノール官能基を有する。トリシロキサンのカルビノール官能基（複数可）は、遊離したままであってよく、及び／又は、続いて反応に利用してよい。例えば、遊離カルビノール官能基は親水性であるため、水性用途に有用なことがあり、一方シロキサン骨格は、疎水性に有用なことがある。あるいは、カルビノール官能基は、続いて、ポリウレタン、エポキシ、ポリエステル、フェノールなどが挙げられる様々な材料中で／材料と反応させてよい。当業界で理解されるように、カルビノール官能基は、一般的にヒドロキシル基に関連するものと同一の、変換又は反応させる可能性があるものを施すことができる。

【0031】

トリシロキサンは、（Ａ）初期トリシロキサン及び（Ｂ）有機化合物の反応生成物を含む。「初期」という用語は、成分（Ａ）が、成分（Ａ）及び（Ｂ）の反応を経由して形成された本発明のトリシロキサンと異なることを意味する。「有機」という用語は、炭素を含む、あるいは炭素及び水素を含む成分（Ｂ）を意味する。多くの実施形態において、成分（Ｂ）は、ケイ素を含まない。

【0032】

様々な実施形態において、反応生成物は、本質的に、成分（Ａ）及び（Ｂ）からなる。本明細書で使用されているように、「本質的に、〜からなること（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」という語句は、一般的に、詳細な実施形態に対して具体的に列挙されている構成要素／成分を包含する。更に、「本質的に、〜からなること」という語句は、一般的に、その詳細な実施形態の基本的及び／又は新規な特性に著しく影響を及ぼさない追加の又は任意選択の構成要素／成分の存在を包含し、可能にする。ある実施形態において、「本質的に、〜からなること」は、反応生成物の合計重量に基づく追加の、又は任意選択の成分が≦１０、≦５又は≦１重量パーセント（重量％）存在することを可能にする。他の実施形態において、反応生成物は、成分（Ａ）及び（Ｂ）からなる。

【0033】

本明細書で使用されているように、「（Ａ）」及び「（Ｂ）」の指定は、特定の順序を必要とする、又は、ある成分の、他の成分と比較した特別な重要性を指示するとは解釈されない。具体的には、様々な実施形態の説明には、羅列が使用され得る。明示的に別段の定めをした場合を除き、羅列の使用は、任意の特定の順序又は成分の数に関して本発明を限定すると解釈されるべきではない。羅列の使用は、羅列されている成分又はステップと組み合わせられる、又はそれにまとめられる任意の追加の成分又はステップを、本発明の範囲から排除すると解釈されるべきでもない。

【0034】

成分（Ａ）
成分（Ａ）は、ペンダントケイ素結合官能基を有する。ペンダントケイ素結合官能基は、一般的に、水素原子、エポキシ含有基、エチレン性不飽和基及びアミン基から選択される。「ペンダント」ケイ素結合官能基は、トリシロキサンのＤユニットに連結する。

【0035】

ある実施形態において、ペンダントケイ素結合官能基は、水素原子である。他の実施形態において、ペンダントケイ素結合官能基は、エポキシ含有基である。エポキシ含有基は、エポキシ基、又は、非加水分解性部分によりシリコーン骨格に連結するエポキシ基であってよい。他の実施形態において、ペンダントケイ素結合官能基は、エチレン性不飽和基である。成分（Ａ）に対する適切なエチレン性不飽和基は、アルケニル基、例えばビニル、アリル、メタリル、プロペニル、ヘキセニルなどが挙げられる。ある実施形態において、成分（Ａ）は、ペンダントケイ素結合アルケニル基、例えばアリル基を有する。更に他の実施形態において、ペンダントケイ素結合官能基は、アミン基である。

【0036】

典型的には、成分（Ａ）は、水素原子、エポキシ含有基、エチレン性不飽和基及びアミン基から選択される末端ケイ素結合官能基を含まない。これらが存在する場合、そのような「末端」ケイ素結合官能基は、トリシロキサンのＭ単位のうちの少なくとも１つに連結するであろう。

【0037】

典型的には、成分（Ａ）は、ポリオキシアルキレン基を含まない。これらが存在する場合、ポリオキシアルキレン基は、例えば、エチレンオキシド（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ、ＥＯ）、プロピレンオキシド（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ、ＰＯ）、ブチレンオキシド（ｂｕｔｙｌｅｎｅ ｏｘｉｄｅ、ＢＯ）、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシオクタンス、及び／又は環状エポキシド、例えばシクロヘキセンオキシド又はエキソ−２，３−エポキシノルボランの重合により付与され得る。当業界で一般的なポリオキシアルキレン部分は、オキシエチレン単位（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）、オキシプロピレン単位（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）、オキシブチレン単位（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）、又はそれらの混合物が挙げられる。ある実施形態において、トリシロキサンは、ポリエーテルフリー、例えばＰＥＧフリー、ＰＥＯフリー、ＰＯＥフリー、ＰＰＧフリー、ＰＰＯＸフリー、ＰＯＰフリー、ＰＴＭＧフリー、ＰＴＭＥＧフリー又はＰＴＨＦフリーと呼ばれることがある。そのような頭字語は、当業界で理解される。多くの実施形態において、トリシロキサンは、ポリオキシアルキレン基を含まない。

【0038】

様々な実施形態において、成分（Ａ）は、以下の一般式（Ａ１）：
（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）（Ｒ^１Ｒ^２ＳｉＯ_２／２）（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２） （Ａ１）
のものである。

【0039】

上式（Ａ１）において、各Ｒ^１は、独立して選択されるヒドロカルビル基である。ある実施形態において、各Ｒ^１は、独立して選択されるＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である。特定の実施形態において、各Ｒ^１は、メチル基である。Ｒ^２は、ペンダントケイ素結合官能基である。

【0040】

ある実施形態において、Ｒ^２は、水素原子であり、その成分（Ａ）は、水素トリシロキサンと呼ばれ得る。他の実施形態において、Ｒ^２は、エポキシ含有基であり、その成分（Ａ）は、エポキシ官能トリシロキサンと呼ばれ得る。他の実施形態において、Ｒ^２は、エチレン性不飽和基であり、その成分（Ａ）は、アルケニル官能トリシロキサンと呼ばれ得る。更に他の実施形態において、Ｒ^２は、アミン基であり、その成分（Ａ）は、アミン官能トリシロキサンと呼ばれ得る。

【0041】

成分（Ｂ）
成分（Ｂ）は、少なくとも１個のヒドロキシル（−ＯＨ）官能基を有する。ヒドロキシル官能基は、成分（Ａ）に関して一般的に不活性である。「一般的に不活性」は、ヒドロキシル官能基（複数可）の反応が意図されていないことを意味する。具体的には、ヒドロキシル官能基は、例えばＳｉ−Ｈ基と反応性であるが、反応は、トリシロキサンの形成中に最小化される、又は一般的に避けられ、その結果、すべてのヒドロキシル基の大多数が遊離したままである。成分（Ｂ）のヒドロキシル官能基（複数可）は、当業界で理解されている方法により、例えば、反応条件の管理、添加の順序、一時的なブロッキング／キャッピングなどにより、トリシロキサンの形成中の副反応から保護され得る。トリシロキサンのカルビノール官能基（複数可）は、典型的には、トリシロキサンのＤユニットに連結し、一般的には、少なくとも成分（Ｂ）のヒドロキシル官能基（複数可）、任意選択で、開いたエポキシ環（エポキシ環は、成分（Ａ）及び（Ｂ）の反応前に提示される）により付与される。ヒドロキシル官能基（複数可）は、末端及び／又はペンダント（トリシロキサンのＤユニットから吊り下がった基／部分に対する）であってよい。

【0042】

成分（Ｂ）は、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基と反応性の官能基も有する。具体的には、トリシロキサンは、以下の条件に従う。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基が水素原子である場合、成分（Ｂ）の官能基は、エチレン性不飽和基である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がエポキシ含有基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、アミン基である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がエチレン性不飽和基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、水素原子である。成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がアミン基である場合、成分（Ｂ）の官能基は、エポキシ含有基である。成分（Ｂ）の官能基は、末端、内部又はペンダントであってよい。様々な実施形態において、成分（Ｂ）の官能基は、末端である。

【0043】

成分（Ｂ）に対する適切なエチレン性不飽和基は、アルケニル基、例えばビニル、アリル、メタリル、プロペニル、ヘキセニルなどが挙げられる。様々な実施形態において、成分（Ｂ）は、アルケニル基、例えばアリル基を有する。成分（Ｂ）として適切なアリル化合物の具体的な例としては、アリルグリセロール、アリルジグリセロール、アリルグリシジルエーテル（ＡＧＥ）、アリルソルビトールなどが挙げられる。アリルグリセロールは、アリルオキシエタノールとも呼ばれ得る。アリルグリセロールは、アリルモノグリセロール又はアリルオキシ１，２−プロパンジオールとも呼ばれ得る。成分（Ｂ）として有用な他の化合物は、エポキシド、例えばグリシドール及び４−ビニル−１−シクロヘキセン１，２−エポキシドが挙げられる。少なくとも１個のエポキシ及び／又は少なくとも１個のエチレン性不飽和基、並びに、一般的には１〜６個のヒドロキシル基（複数可）を有する他の化合物も想定される。

【0044】

他の実施形態において、成分（Ｂ）は、アミン化合物、例えば第二級アミンであってよく、少なくとも１個のヒドロキシル官能基も用いられる。成分（Ｂ）として適切な他のアミン化合物は、アルカノールで修飾したアミン、例えば一般的に：ＨＮＲＲ’（式中、Ｒ及びＲ’は、アルキル及び／又はアルカノール官能基である）が挙げられる。Ｒ又はＲ’の１つは、典型的には、第２級ヒドロキシル官能基を含有して、ヒドロキシル官能基（複数可）を示す。成分（Ｂ）として適切なアルカノールアミンの具体的な例としては、ジイソプロパノールアミン（ｄｉｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ ａｍｉｎｅ、ＤＩＰＡ）、ジエタノールアミン（ｄｉｅｔｈａｎｏｌ ａｍｉｎｅ、ＤＥＡ）などが挙げられる。少なくとも１個のアミン基、及び一般的には１〜６個のヒドロキシル基（複数可）を有する他の化合物も想定される。

【0045】

様々な実施形態において、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基は、水素原子であり、成分（Ｂ）は、以下の成分（Ｂ１）：

【0046】

【化5】

【0047】

である。

【0048】

他の実施形態において、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基は、エポキシ含有基であり、成分（Ｂ）は、以下の成分（Ｂ２）〜（Ｂ４）：

【0049】

【化6】

【0050】

から選択される。

【0051】

更に他の実施形態において、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基は、水素原子であり、成分（Ｂ）は、以下の成分（Ｂ５）〜（Ｂ９）：

【0052】

【化7】

【0053】

【化8】

【0054】

【化9】

【0055】

から選択される。

【0056】

更なる実施形態では、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基は、エポキシ含有基であり、成分（Ｂ）は、以下の成分（Ｂ１０）：

【0057】

【化10】

【0058】

である。

【0059】

ある実施形態において、成分（Ｂ）は、成分：（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）、（Ｂ５）、（Ｂ６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）、（Ｂ９）又は（Ｂ１０）である。成分（Ａ）及び（Ｂ）の組み合わせを利用してよい。

【0060】

他の実施形態において、成分（Ａ）及び（Ｂ）の官能基が入れ替わる場合、例えば、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がアミン基であり、成分（Ｂ）の官能基がエポキシ含有基である場合、成分（Ｂ）がエポキシ化合物であり、少なくとも１個のヒドロキシル官能基も用いられる。これらの実施形態において、成分（Ｂ）は、エポキシ官能ポリオールであってよい。そのようなエポキシポリオールは、（Ｂ２）〜（Ｂ４）又は（Ｂ１０）と同様の成分から選択され得るが、アミン基が、一般的に、エポキシ含有基、例えばエポキシ基（示されていない）で置き換えられる。上で明白に例証されていないが、成分（Ｂ）として適切な他の化合物も利用され得ることは、理解されるべきである。

【0061】

更に他の実施形態において、成分（Ｂ）は、水素原子を有し、少なくとも１個のヒドロキシル官能基も用いられる。これらの実施形態において、水素原子は、ケイ素結合水素原子（Ｓｉ−Ｈ）であり、これは、一般的に、成分（Ａ）がエチレン性不飽和基を含む例で必要とされる。成分（Ｂ）のそのようなＳｉ−Ｈ官能基は、最初の、初期有機化合物とシラン、ポリシロキサンなどの反応により付与され得る。そのような反応は、シリコーン業界における当業者により理解される。

【0062】

トリシロキサン
様々な実施形態において、トリシロキサンは、以下の一般式（Ｉ）：
（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）（Ｒ^１Ｒ^３ＳｉＯ_２／２）（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）（Ｉ）
のものである。

【0063】

上式（Ｉ）において、各Ｒ^１は、式（Ａ１）で上に記載されている。Ｒ^３は、典型的には、１〜６個のヒドロキシル基を有する有機基である。様々な実施形態において、Ｒ^３は、以下の基（ｉ）〜（ｉｖ）：

【0064】

【化11】

【0065】

【化12】

【0066】

【化13】

【0067】

【化14】

【0068】

から選択される。

【0069】

他の実施形態において、Ｒ^３は、以下の基（ｖ）〜（ｘ）：

【0070】

【化15】

【0071】

【化16】

【0072】

【化17】

【0073】

から選択される。

【0074】

ある実施形態において、Ｒ^３は、上記一般式（Ｉ）において、基：（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）又は（ｉｖ）である。他の実施形態において、Ｒ^３は、上記一般式（Ｉ）において、基：（ｖ）、（ｖｉ）、（ｖｉｉ）、（ｖｉｉｉ）、（ｉｘ）、又は（ｘ）である。

【0075】

他の実施形態において、成分（Ａ）及び（Ｂ）の官能基が入れ替わる場合、例えば、成分（Ａ）のペンダントケイ素結合官能基がアミン基であり、成分（Ｂ）の官能基がエポキシ含有基である場合、Ｒ^３は、基ｉｉ）からｉｖ）又はｖｉｉ）と同様の基から選択され得るが、アミン及びエポキシ含有基により付与される部分が、一般的に入れ替わる／元に戻る（示されていない）。当業者は、そのような入れ替わった構造、関連した構造、及び他の実施形態のトリシロキサンに適している他の構造を認識するであろう。

【0076】

方法
トリシロキサンを形成する方法も提供される。この方法は、１）成分（Ａ）を準備するステップ、及び２）成分（Ｂ）を準備するステップを含む。この方法は、３）成分（Ａ）及び（Ｂ）を反応させて、トリシロキサンを形成するステップを更に含む。成分（Ａ）及び（Ｂ）は、上に記載されている。成分（Ａ）及び（Ｂ）のそれぞれを、得ることができる、又は形成することができる。例えば、成分（Ａ）及び（Ｂ）の一方又は両方は、化学物質の供給業者、例えばＭｉｄｌａｎｄ、ＭＩのＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇから商業的に得られる。そうでなければ、成分（Ａ）及び（Ｂ）の一方又は両方は、それぞれの出発原料から形成できる。

【0077】

この方法の第１の一般的な実施形態において、ステップ１）は、１ａ）水素トリシロキサンとエチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、エポキシ含有基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義される。反応中間体は、成分（Ａ）、具体的にはエポキシ官能トリシロキサンである。更に、ステップ３）は、３ａ）成分（Ｂ）及びステップ１ａ）で形成された反応中間体を反応させて、トリシロキサンを形成するステップと更に定義される。成分（Ｂ）は、アミン化合物である。任意選択で、この方法は、ステップ１ａ）後に、未反応のエポキシ化合物を除去するステップ１ｂ）（複数可）を、及び／又はステップ３ａ）後に、未反応成分（Ｂ）を除去するステップ３ｂ）を更に含む。そのような除去は、当業界で理解されている方法を経由して、例えばストリッピング、蒸発、真空吸引などを経由して遂行され得る。他の反応物、分散媒及び／又は反応中間体は、同様に要望通りに除去できる。この方法の第１の一般的な実施形態の例は、図１で例証されている。

【0078】

この方法の第２の一般的な実施形態において、ステップ２）は、２ａ）少なくとも１個のヒドロキシル官能基を有するアミン化合物と、エチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を反応させて、エチレン性不飽和基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義される。反応中間体は、成分（Ｂ）である。更に、ステップ３）は、３ａ）成分（Ａ）及びステップ２ａ）で形成された反応中間体を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、トリシロキサンを形成するステップと更に定義される。成分（Ａ）は、水素トリシロキサン（又はシリコーンハイドライド）である。任意選択で、この方法は、２ｂ）ステップ２ａ）後に、未反応の化合物を除去するステップ（複数可）、及び／又は、３ｂ）ステップ３ａ）後に、未反応成分（Ａ）を除去するステップ（複数可）を更に含む。そのような除去は、当業界で理解されている方法を経由して再度遂行されてもよい。他の反応物、分散媒、及び／又は反応中間体は、同様に要望通りに除去できる。この方法の第２の一般的な実施形態の例は、図２で例証されている。

【0079】

この方法の第３の一般的な実施形態（示されていない）において、ステップ１）は、１ａ）水素トリシロキサンとエチレン性不飽和基を有するアミン化合物を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、アミン基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義される。反応中間体は、成分（Ａ）、具体的にアミン官能トリシロキサンである。更に、ステップ３）は、３ａ）成分（Ｂ）、及びステップ１ａ）で形成された反応中間体を反応させて、トリシロキサンを形成するステップと更に定義される。成分（Ｂ）は、エポキシ化合物、例えばグリシドールである。任意選択で、この方法は、１ｂ）ステップ１ａ）後に、未反応のアミン化合物を除去するステップ（複数可）、及び／又は、３ｂ）ステップ３ａ）後に、未反応成分（Ｂ）を除去するステップ（複数可）を更に含む。そのような除去は、当業界で理解されている方法を経由して遂行され得る。他の反応物、分散媒及び／又は反応中間体は、同様に要望通りに除去できる。この方法の関連した実施形態において、アミン官能トリシロキサン（Ａ）は、当業界で理解されている別の手段で作ることができる。例えば、クロロプロピル官能トリシロキサンは、アンモニアと反応させて、成分（Ａ）を形成することができる。当業者は、トリシロキサンを形成するための成分（Ａ）として適切なアミン官能トリシロキサンを得る他の手段を容易に認識できる。

【0080】

この方法の第４の一般的な実施形態（示されていない）において、ステップ２）は、２ａ）少なくとも１個のヒドロキシル官能基を有するエポキシ化合物と、エチレン性不飽和基を有するアミン化合物を反応させ、エチレン性不飽和基を有する反応中間体を形成するステップと更に定義される。反応中間体は、成分（Ｂ）である。更に、ステップ３）は、３ａ）成分（Ａ）及びステップ２ａ）で形成された反応中間体を、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、トリシロキサンを形成するステップと更に定義される。成分（Ａ）は、水素トリシロキサン（又はシリコーンハイドライド）である。任意選択で、この方法は、２ｂ）ステップ２ａ）後に、未反応の化合物を除去するステップ（複数可）、及び／又は、３ｂ）ステップ３ａ）後に、未反応成分（Ａ）を除去するステップ（複数可）を更に含む。そのような除去は、当業界で理解されている方法を経由して、再度遂行され得る。他の反応物、分散媒及び／又は反応中間体は、同様に要望通りに除去できる。

【0081】

成分（Ａ）及び（Ｂ）は、様々な量で反応させて、トリシロキサンを形成できる。それぞれの官能基の数に基づき、成分は、１：１の理論混合比（Ａ：Ｂ）で利用され得る。高い比も低い比も利用してよい。例えば、過剰な成分（Ａ）又は（Ｂ）は、トリシロキサン、又はトリシロキサンを含む組成物のある最終使用／用途に望ましいことがある。反応条件は、特に限定されない。ある実施形態において、反応は、室温から還流温度で１〜２４、あるいは１〜１０時間行われる。

【0082】

成分（Ｃ）
例えばＳｉ−Ｈとエチレン性不飽和基の間のヒドロシリル化（又は添加）反応は、典型的には、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で起こる。ヒドロシリル化触媒は、当技術分野の従来のものであってよい。例えば、ヒドロシリル化触媒は、白金族金属を含有する触媒であってよい。「白金族」は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金、並びにそれらの錯体を意味する。本明細書において有用なヒドロシリル化触媒の非限定的な例は、米国特許第３，１５９，６０１号、第３，２２０，９７２号、第３，２９６，２９１号、第３，４１９，５９３号、第３，５１６，９４６号、第３，７１５，３３４号、第３，８１４，７３０号、第３，９２３，７０５号、第３，９２８，６２９号、第３，９８９，６６８号、第５，０３６，１１７号、第５，１７５，３２５号及び第６，６０５，７３４号に記載されており、そのそれぞれは、開示されているヒドロシリル化触媒に関して参照することにより、本明細書に組み込む。

【0083】

ヒドロシリル化触媒は、白金金属、担体、例えばシリカゲル若しくは粉末木炭に蒸着した白金金属、又は白金族金属の化合物若しくは錯体である。典型的なヒドロシリル化触媒は、六水和物形態若しくは無水形態でクロロ白金酸、及び／又は、クロロ白金酸と脂肪族不飽和有機ケイ素化合物、例えばジビニルテトラメチルジシロキサン、若しくは米国特許第６，６０５，７３４号に記載されているアルケン−白金−シリル錯体を反応させることを含む方法により得られる白金を含有する触媒が挙げられる。例は：（ＣＯＤ）Ｐｔ（ＳｉＭｅＣｌ_２）_２である（式中、「ＣＯＤ」は、１，５−シクロオクタジエンである）。これらのアルケン−白金−シリル錯体は、例えば０．０１５モルの（ＣＯＤ）ＰｔＣｌ_２と０．０４５モルのＣＯＤ及び０．０６１２モルのＨＭｅＳｉＣｌ２を混合することにより調製され得る。

【0084】

適切な白金触媒の一タイプは、Ｋａｒｓｔｅｄｔの米国特許第３，７１５，３３４号及び第３，８１４，７３０号に記載されているＫａｒｓｔｅｄｔ触媒である。Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒は、典型的には溶媒、例えばトルエン中に約１重量％の白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体である。別の適切な白金触媒のタイプは、末端脂肪族不飽和を含有するクロロ白金酸及び有機ケイ素化合物の反応生成物である（米国特許第３，４１９，５９３号に記載されている）。

【0085】

使用されるヒドロシリル化触媒の量は、特に限定されず、典型的には、特定の触媒に依存する。ヒドロシリル化触媒は、典型的には、成分（Ａ）又は（Ｂ）１００万部を基準として、固体（すべての非溶媒原料）の合計重量パーセントに対して、少なくとも２ｐｐｍ、より典型的には４〜２００ｐｐｍの白金を得るのに十分な量で利用される。様々な実施形態において、ヒドロシリル化触媒は、同基準に基づいて１〜１５０重量ｐｐｍの白金を得るのに十分な量で存在する。ヒドロシリル化触媒は、単一化学種、又は２つ以上の異なる化学種の混合物として添加され得る。

【0086】

成分（Ｄ）
トリシロキサン及び／又はそれらの成分は、典型的には、（Ｄ）分散媒として形成される、及び／又は得られる。適切な分散媒（又は担体、希釈剤、溶媒又はビヒクル）は、直鎖状及び環状両方のケイ素、有機油、有機溶媒並びにそれらの混合物を含む。溶媒の具体的な例は、米国特許第６，２００，５８１号で見出すことができ、これは、この目的のために参照することにより本明細書に組み込む。様々な実施形態において、分散媒は、揮発性シロキサン、有機溶媒又はそれらの組み合わせが挙げられる。

【0087】

ある実施形態において、分散媒は、２５℃にて、１〜１，０００ｍｍ^２／秒の範囲の粘度を有する低粘度シリコーン、揮発性メチルシロキサン、揮発性エチルシロキサン、又は揮発性メチルエチルシロキサンである。適切なケイ素／シロキサンは、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）、デカメチルシクロペンタシロキサン（Ｄ５）、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、ヘプタメチル−３−｛（トリメチルシリポキシ）｝トリシロキサン、ヘキサメチル−３，３，ビス｛（トリメチルシリル）オキシ｝トリシロキサン及びペンタメチル｛（トリメチルシリル）オキシ｝シクロトリシロキサン、並びにポリジメチルシロキサン、ポリエチルシロキサン、ポリメチルエチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン及びポリジフェニルシロキサンが挙げられる。

【0088】

適切な有機溶媒は、芳香族炭化水素（例えばトルエン、キシレンなど）、脂肪族又は脂環式炭化水素（例えばｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンなど）、アルコール（例えばメタノール、イソプロパノールなど）、アルデヒド、ケトン、エステル、エーテル、グリコール、グリコールエーテル、ハロゲン化アルキル及び芳香族ハロゲン化物が挙げられる。適切な炭化水素は、イソドデカン、イソヘキサデカン、Ｉｓｏｐａｒ Ｌ（Ｃ_１１−Ｃ_１３）、Ｉｓｏｐａｒ Ｈ（Ｃ_１１−Ｃ_１２）及び水添ポリデセンが挙げられる。適切なハロゲン化炭化水素は、ジクロロメタン、クロロホルム及び四塩化炭素が挙げられる。適切なエーテル及びエステルは、ネオペンタン酸イソデシル、ヘプタン酸ネオペンチルグリコール、ジステアリン酸グリコール、炭酸ジカプリリル、炭酸ジエチルヘキシル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸プロピレングリコールメチルエーテル、ネオペンタン酸トリデシル、酢酸プロピレングリコールメチルエーテル（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ ａｃｅｔａｔｅ、ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールメチルエーテル（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ、ＰＧＭＥ）、ネオペンタン酸オクチルドデシル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソプロピル、ジカプリル／ジカプリン酸プロピレングリコール及びパルミチン酸オクチルが挙げられる。独立した化合物として、又は分散媒への原料として適切な追加の有機分散媒は、脂肪、油、脂肪酸及び脂肪族アルコールが挙げられる。適切な担体／溶媒の追加の例は、米国特許出願公開第２０１０／０３３００１１号に「分散媒」として記載されており、これは、この目的のために参照することにより本明細書に組み込む。

【0089】

望ましくない副反応／反応生成物を防止するために、分散媒は、トリシロキサンを形成するために利用される反応物／反応中間体に対して、不活性であるべきである。例えば、分散媒は、エポキシ、Ｓｉ−Ｈ、エチレン性不飽和、及び／又はアミン官能基を有するべきではない。使用される分散媒の量は、特に限定されない。分散媒の組み合わせを利用してもよい。

【0090】

組成物
トリシロキサンを含む組成物も提供される。上で紹介されているように、トリシロキサンは、いくつかの用途に有用であり、そのような用途は、特に限定されない。適切な用途は、自動食器洗い用（ａｕｔｏｍａｔｉｃ ｄｉｓｈｗａｓｈｉｎｇ、ＡＤＷ）配合物、家庭用クリーナー、自動車ケア用洗剤、液体及び粉末洗濯洗剤、並びに染着除去製品における使用を含む。トリシロキサンを利用する更なる適切な用途は、顔料処理及び水性配合物に対するテクスチャ変更を含む。トリシロキサンの他の用途は、ウレタンレザー仕上げ用の添加剤、及びポリエステル繊維溶融紡糸方法用の反応性内部潤滑剤としての使用を含む。トリシロキサンは、シリコーン又は他の配合物において粒子を分散させるための界面活性剤及び加工助剤として（又はその代わりに）も利用され得る。

【0091】

ある実施形態において、トリシロキサンは、洗剤添加剤として使用される。多くの実施形態において、トリシロキサンは、欧州議会及び洗剤審議会の法令（ＥＣ）Ｎｏ．６４８／２００４による要件を満たし、これは、ＥＣ Ｎｏ．９０７／２００６及び５５１／２００９を含めた、それに後続するあらゆる修正事項／添付書類と共に、参照により本明細書に組み込む。トリシロキサンは、概して、ＥＣ Ｎｏ．６４８／２００４に従って定義される「界面活性剤」ではない。様々な実施形態において、組成物は、クリーニング組成物、コーティング組成物、農薬組成物又はインク組成物である。

【0092】

ある実施形態において、組成物は、クリーニング組成物である。更なる実施形態では、組成物は、洗剤組成物（単に洗剤と呼ばれることもある）である。洗剤組成物は、例えば、食器洗い用洗剤組成物（例えば自動食器洗い用洗剤組成物）、洗濯洗剤組成物又は硬質表面用洗剤組成物であってよい。トリシロキサンは、そのようなクリーニング組成物にとりわけ有用である。トリシロキサンが利用され得る更なる用途は：化粧品、個人用ケア及び個人用クレンジング製品（例えばボディウォッシュ、シャンプー及びコンディショナー）、食器手洗い用、自動食器洗い用及び食器洗い用添加剤を含む食器洗い用製品、洗濯洗剤（例えば手洗い用／自動洗濯機用洗剤）、織物柔軟剤、カーペットクリーナー及び洗濯助剤（例えばしみ及び染色除去剤）を含む洗濯ケア製品、多目的クリーナー、オーブン、窓／ガラス、金属、台所、床、浴室面のクリーナー、デスケーラー、排水管洗浄剤、精練剤、家庭用殺菌剤／消毒剤、並びに家庭用ケアワイプ及びフロアクリーニングシステムを含む表面ケア製品と、トイレ用ケアのためのシスタン内デバイス、リムブロック及び液体、並びに液体、フォーム、ゲル及びタブレットを含むトイレ用ケア製品が挙げられる。

【0093】

様々な実施形態において、クリーニング組成物は、水溶液、ゲル又は粉末であってよい。クリーニング組成物は、洗いプロセスの前に、それ自体を洗濯物に直接小分けしてよく、又はスプレー、ロールオン及び／又は接着パッチを経由して（やはり洗濯物に直接）小分けしてよい。そのようなクリーニング組成物は、自動又は手洗いプロセスの洗い及び／又はすすぎ段階内にも送達してもよい。

【0094】

トリシロキサンは、組成物中に様々な量で利用され得る。具体的な最終使用／用途のための適切な量は、慣例的実験により容易に決定できる。トリシロキサンの組み合わせを利用してもよい。

【0095】

組成物が洗剤組成物である、ある実施形態において、トリシロキサンは、洗剤組成物の１００重量部を基準として、約０．００１〜約２０、あるいは約０．００１〜約１５、あるいは約０．００１〜約１０、あるいは約０．０１〜約５、あるいは約０．０１〜約１重量部の量で存在する。そのような範囲は、一般的に、「最終」又は「消費者向け」洗剤組成物に関連する。上記量は、それ自体を大幅に増加又は減少させて、濃度及び／又は形態における変化の原因とすることができる。例えば、洗剤組成物が濃縮物、ゲル又は粉末の形態である実施形態において、上記量は、約１０％、２５％、５０％、１００％、２００％、３００％、４００％、５００％以上に増加させてよい。洗剤組成物が希釈される場合、上記量は、類似した手段で減少させてよい。これらの量は、他のタイプの組成物でも利用され得る。

【0096】

様々な実施形態において、組成物は、少なくとも１つの分散剤を更に含む。クリーニング組成物に関連する様々なタイプの従来の分散剤を利用してよい。特定の実施形態において、分散剤は、プロピレングリコールを含む。分散剤は、ある実施形態のトリシロキサンの適合性の向上させること、及び／又は組成物におけるその量を増加させることに有用である。

【0097】

組成物が洗剤組成物である、ある実施形態において、分散剤は、洗剤組成物の１００重量部を基準として、約０．０１〜約５０、あるいは約０．１〜約４０、あるいは約０．１〜約３０、あるいは約０．１〜約２５、あるいは約１〜約２０、あるいは約２〜約１５、あるいは約２〜約１０、あるいは約２〜約５重量部（複数可）の量で存在する。そのような範囲は、一般的に、「最終」又は「消費者向け」の洗剤組成物に関連する。上記量は、それ自体を大幅に増加又は減少させて、濃度及び／又は形態における変化の原因とすることができる。例えば、洗剤組成物が濃縮物、ゲル又は粉末の形態である実施形態において、上記量は、約１０％、２５％、５０％、１００％、２００％、３００％、４００％、５００％以上に増加させてよい。洗剤組成物が希釈される場合、上記量は、類似した手段で減少させてよい。これらの量は、他のタイプの組成物でも利用され得る。

【0098】

組成物、例えば洗剤組成物は、当業界で理解されている任意の数の従来の化合物、又は添加剤を更に含み得、そのような成分は、様々な量で利用され得る。例えば、組成物は、様々な量の水を含む水性洗剤組成物であってよい。更に、クリーニング組成物は、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、双性イオン（両性）界面活性剤、非イオン性界面活性剤又はそれらの組み合わせを含む、少なくとも１つの界面活性剤を含み得る。クリーニング／洗剤組成物に適している更なる成分は、研磨剤、酸、アルカリ／塩基、抗微生物剤、再付着防止剤、スケール防止剤、ブリーチ、ビルダー、キレート剤、着色剤、錯化剤、腐食防止剤、電解質、酵素、増量剤、抽出物、柔軟剤、フィラー、蛍光性白色化剤、香料／芳香剤、発泡防止剤、製剤補助剤、ヒドロトロープ、乳白剤、防腐剤、加工助剤、塩、石鹸、汚れ放出ポリマー、溶媒、溶解性改良剤、泡調整剤、油、酸化剤又はそれらの組み合わせが挙げられる。他の洗剤組成物及びそれらの成分は、米国特許出願第６２／３２８，０７２号（代理人整理番号：ＤＣ１６００４）への言及で、より適正に認識され、これは、この目的のために参照することにより本明細書に組み込む。

【0099】

様々なトリシロキサン及び関連した形成方法を例証する以下の実施例は、本発明を例証し、限定しないように意図されている。

【0100】

実施例１：ヘプタメチルトリシロキサン及び２−アリルオキシエタノールのヒドロシリル化
１３．２９ｇのヘプタメチルトリシロキサン（９８％、ＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ）及び２０ｇのトルエン（≧９９．５％、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を、窒素パージ下で反応フラスコに添加し、電磁撹拌機で混合した。混合物を、窒素パージ下で保持し、４０℃に加熱した。シリンジに、７．８７ｇの２−アリルオキシエタノール（９８％、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填し、シリンジポンプに入れた。一旦４０℃にて、２−アリルオキシエタノールを、〜２５０μＬ／分で反応に計量供給した。〜５％の２−アリルオキシエタノールを添加した後で、ヘキサメチルジシロキサン中の１０８．８μＬの１％白金錯体を添加した。反応を最初に発熱させ、残りの２−アリルオキシエタノールを添加する際に、５９．５℃の最高温度に到達させた。合計６．８２ｇの２−アリルオキシエタノールを添加した。反応を６０℃にて３時間保ち、次いで冷却した。

【0101】

生じた試料を、活性炭で処理し、濾過した。未反応のヘプタメチルトリシロキサン（ビスＨ）及びトルエンを、ロータリーエバポレーター（Ｒｏｔｏｖａｐ）を使用して３時間ストリッピングした（７５℃、＜１０ｍｂａｒ）。次いで、試料を室温にて０．１５ｔｏｒｒで２４時間保った。１Ｈ、２９Ｓｉ及び１３Ｃで、標的のヒドロシリル化反応生成物を確認し、ごく微量の異性体が留まった。具体的には、ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−２−アリルオキシエタノール、９９．４６重量％、及び２−アリルオキシエタノール異性体、０．５４重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、１個のヒドロキシル官能（−ＯＨ）基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0102】

【化18】

【0103】

実施例２：ヘプタメチルトリシロキサン及びトリメチロールプロパンアリルエーテルのヒドロシリル化
１０．７５ｇのヘプタメチルトリシロキサン（９８％、ＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ）及び２０ｇのトルエン（≧９９．５％、Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）を、窒素パージ下で反応フラスコに添加し、電磁撹拌機で混合した。混合物を、窒素パージ下で保持し、４０℃に加熱した。シリンジに、１１．３７ｇのトリメチロールプロパンアリルエーテル（９８％、Ａｌｄｒｉｃｈ）を充填し、シリンジポンプに入れた。一旦４０℃にて、トリメチロールプロパンアリルエーテルを、〜２５０μＬ／分で反応に計量供給した。〜５％のトリメチロールプロパンアリルエーテルを添加した後で、８７．９μＬのヘキサメチルジシロキサン中の１％白金錯体を添加した。反応を最初に発熱させ、残りのトリメチロールプロパンアリルエーテルを添加した際に５８．９℃の最高温度に到達させた。合計９．４４ｇのトリメチロールプロパンアリルエーテルを添加した。反応を６０℃にて３時間保ち、次いで冷却した。

【0104】

生じた試料を、活性炭で処理し、濾過した。未反応のビスＨ及びトルエンは、ロータリーエバポレーターを使用して１時間ストリッピングした（６０℃、＜１０ｍｂａｒ）。次いで、試料を室温にて０．２ｔｏｒｒで２４時間保った。１Ｈ、２９Ｓｉ及び１３Ｃで、標的のヒドロシリル化反応生成物、並びに〜４．３７重量％の異性体、及び０．１重量％未満の溶媒が留まったことを確認した。具体的には、ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−トリメチロールプロパンアリルエーテル、９５．５８重量％、トリメチロールプロパンアリルエーテル異性体、４．３７重量％、及びトルエン、０．０５重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、２個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0105】

【化19】

【0106】

実施例３：トリシロキサンモノグリセロールの調製
１２５．５８ｇの１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン（ビスＨ）、２２．５ｇのアリルグリセロール及び１６８ｇのイソプロピルアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）を、窒素パージ下で反応フラスコに添加し、かき混ぜ機で混合した。混合物を、窒素パージ下で保持し、７０℃に加熱した。０．３ｇのヘキサメチルジシロキサン／ＩＰＡ中の１．１％白金錯体を添加した。反応を最初に発熱させた。２５．２ｇのアリルグリセロール、１６．８ｇのＩＰＡ、及び０．３ｇのヘキサメチルジシロキサン／ＩＰＡ中の１．１％白金錯体を、第２のステップとして添加した。２５．２ｇのアリルグリセロール、１２．６ｇのＩＰＡ、及び０．３ｇのヘキサメチルジシロキサン／ＩＰＡ中の１．１％白金錯体を、第３のステップとして添加した。１６．８ｇのアリルグリセロール、１２．６ｇのＩＰＡ、及び０．２０９ｇのヘキサメチルジシロキサン／ＩＰＡ中の１．１％白金錯体を、第４のステップとして添加した。合計８９．７ｇのアリルグリセロールを合計１２５．５８ｇのビスＨに対して添加した。反応を７０℃にて６時間保ち、次いで冷却した。

【0107】

試料を活性炭で処理し、濾過した。未反応のビスＨ及びＩＰＡは、真空ポンプを使用して２時間ストリッピングした（８０℃、＜１０ｍｍＨｇ）。１Ｈ、２９Ｓｉ及び１３Ｃで、標的のヒドロシリル化反応生成物を確認し、ごく微量の異性体が留まった。具体的には、ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−アリルグリセロール、９６．５０重量％、及びアリルグリセロール異性体、３．５０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、すぐ下で例証されているように、２個のヒドロキシル官能基を有する。

【0108】

【化20】

【0109】

実施例４：ビスＨ及びアリルグリセロールのヒドロシリル化
１２．０９６ｇのビスＨ及び２０．００ｇのＩＰＡを、窒素パージ下で、反応フラスコ中において混合し、４０℃に加熱した。シリンジに、７．９０４ｇのアリルグリセロールを充填し、次いでシリンジポンプに入れた。一旦４０℃にて、アリルグリセロールを、６６９μＬ／分で反応に計量供給した。〜５％のアリルグリセロールを添加した後で、ヘキサメチルジシロキサン中のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒の１％溶液（９８．９８μＬ）を添加して、１８ｐｐｍ Ｐｔ触媒を得た。反応を発熱させ、アリルグリセロールをすべて添加した後で６０℃に冷却した。次いで、反応を６０℃にて３時間保ち、次いで冷却した。

【0110】

未反応のビスＨ及びＩＰＡは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して３時間ストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオール、９５．３６重量％、及び異性体、４．６４重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、２個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0111】

【化21】

【0112】

実施例５：ヘプタメチルトリシロキサン及びアリルグリシジルエーテルのヒドロシリル化
７１．２２ｇのビスＨ及び４３．７８ｇのアリルグリシジルエーテル（ａｌｌｙｌ ｇｌｙｃｉｄｙｌ ｅｔｈｅｒ、ＡＧＥ）を、窒素パージ下で、反応フラスコ中において混合し、６０℃に加熱した。一旦６０℃にて、この溶液（２４．４２μＬ）にＩＰＡ中のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒の１％溶液を添加して、８ｐｐｍ Ｐｔを得た。反応を発熱させ、７５℃に冷却した。反応を、７５℃にて３時間保ち、次いで冷却した。

【0113】

未反応のビスＨ、過剰なＡＧＥ及びＡＧＥ異性体は、単に減圧蒸留のみを使用して３時間ストリッピングした（９０℃、５ｍｍＨｇ）。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ、１００．００重量％。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0114】

【化22】

【0115】

実施例６：ビスＨ−ＡＧＥ及びジエタノールアミンのエポキシ開環反応
実施例５で生成された８３．４３０ｇのエポキシ官能トリシロキサン中間体、２６．０５６ｇのジエタノールアミン（ＤＥＡ）及び３０．０００ｇのＩＰＡを、反応フラスコに添加した。反応は、反応溶液越しに窒素パージを使用して、不活性雰囲気中で行った。次いで、反応を７５℃に加熱し、これらの条件で完了まで保った。

【0116】

ＩＰＡは、単に減圧蒸留のみを３時間使用して除去した（４５℃、〜５ｍｍＨｇ）。反応の進展をＨ１ ＮＭＲにより追跡した。反応は、エポキシのＣＨピークが〜３．１ｐｐｍから〜３．９ｐｐｍに完全にシフトした際に、完了とみなした。減圧蒸留後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ−ＤＥＡ、９９．７０重量％、及びＩＰＡ、０．３０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、３個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0117】

【化23】

【0118】

実施例７：ビスＨ−ＡＧＥ及びジイソプロパノールアミンのエポキシ開環反応
実施例５で生成された、６５．８４９ｇのエポキシ官能トリシロキサン中間体、２６．０５２ｇのジイソプロパノールアミン（ＤＩＰＡ）、及び３０．０００ｇのＩＰＡを、反応フラスコに添加した。反応は、反応溶液越しに窒素パージを使用して、不活性雰囲気中で行った。次いで、反応を７５℃に加熱し、これらの条件で完了まで保った。

【0119】

ＩＰＡは、単に減圧蒸留のみを３時間使用して除去した（４５℃、〜５ｍｍＨｇ）。反応の進展をＨ１ ＮＭＲにより追跡した。反応は、エポキシのＣＨピークが〜３．１ｐｐｍから〜３．９ｐｐｍに完全にシフトした際に、完了とみなした。減圧蒸留後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ−ＤＩＰＡ、９９．７０重量％、及びＩＰＡ、０．３０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、３個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0120】

【化24】

【0121】

実施例８：ビスＨ及びアリルジグリセロールのヒドロシリル化
５６．８１ｇのビスＨ及びアリルジグリセロールの合計（合計７１．１９ｇ）の半分を、窒素パージ下で反応フラスコ中において混合し、４５℃に加熱した。一旦４５℃にて、ＩＰＡ中の１％溶液のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒（２５．４８μＬ）を添加して、８ｐｐｍ Ｐｔを得た。反応を発熱させ、８０℃に冷却した。アリルジグリセロールのもう半分を反応溶液に添加した。一旦、反応を再度発熱し、７０℃に冷却した。次いで、反応を７０℃にて４時間保ち、次いで、冷却した。

【0122】

反応後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−アリルジグリセロール、８８．８８重量％、及び異性体、１１．１２重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、すぐ下で例証されているように３個のヒドロキシル官能基を有する。

【0123】

【化25】

【0124】

実施例９：ビスＨ及びアリルキシリトールのヒドロシリル化
９．７３９ｇのアリルキシリトール及び２０．０１７ｇのＩＰＡを、窒素パージ下で、反応フラスコ中において混合し、５０℃に加熱した。シリンジに、１０．２６１ｇのビスＨを充填し、次いでシリンジポンプに入れた。一旦５０℃にて、ビスＨを８８１μＬ／分で反応に計量供給した。〜５％のビスＨを添加した後で、ヘキサメチルジシロキサン中のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒の１％溶液（８３．９６μＬ）を添加して、１６ｐｐｍ Ｐｔを得た。反応を発熱させ、すべてのビスＨを添加した後で、６０℃に冷却した。次いで、反応を、６０℃にて３時間保ち、次いで冷却した。

【0125】

未反応のビスＨ及びＩＰＡは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して３〜５時間ストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−アリルキシリトール、９７．７４重量％、及び異性体、２．８６重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、４個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0126】

【化26】

【0127】

実施例１０：ビスＨ−ＡＧＥ−トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンのエポキシ開環反応
実施例５で生成された５．５１６ｇのエポキシ官能トリシロキサン中間体、１．９８４ｇのトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（トリス）、５．２５０ｇのメタノール及び１２．２５０ｇのＩＰＡを、反応フラスコに添加した。反応は、反応溶液越しに窒素パージを使用して、不活性雰囲気中で行った。次いで、反応を７５℃に加熱し、反応が完了するまでこれらの条件で保った。

【0128】

ＩＰＡ及びメタノールは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用してストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。反応の進展をＨ１ ＮＭＲにより追跡した。反応は、エポキシのＣＨピークが〜３．１ｐｐｍから〜３．９ｐｐｍに完全にシフトした際に、完了とみなした。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ−トリス、９９．７０重量％、及びＩＰＡ、０．３０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、４個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0129】

【化27】

【0130】

実施例１１：ビスＨ−ＡＧＥ及びｎ−メチルグルカミンのエポキシ開環反応
実施例５で生成された１５．８２４ｇのエポキシ官能トリシロキサン中間体、９．１７６ｇのｎ−メチルグルカミン（ｎ−ｍｅｔｈｙｌｇｌｕｃａｍｉｎｅ、ＮＭＧ）、８．７５０ｇのメタノール及び１６．２５０ｇのＩＰＡを、反応フラスコに添加した。反応は、反応溶液越しに窒素パージを使用して、不活性雰囲気中で行った。次いで、反応を７５℃に加熱し、反応が完了するまでこれらの条件で保った。

【0131】

メタノール及びＩＰＡは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して３時間ストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。反応の進展をＨ１ ＮＭＲにより追跡した。反応は、エポキシのＣＨピークが〜３．１ｐｐｍから〜３．９ｐｐｍに完全にシフトした際に、完了とみなした。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ−ＮＭＧ、９８．２０重量％、及びＩＰＡ、１．８０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、６個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0132】

【化28】

【0133】

実施例１２：ＡＧＥ及びＤＩＰＡのエポキシ開環反応
１２．８５５ｇのＡＧＥ、１２．５００ｇのＤＩＰＡ及び２４．６４５ｇのトルエンを、反応フラスコに添加した。反応は、反応溶液越しに窒素パージを使用して、不活性雰囲気中で行った。次いで、反応を７５℃に加熱し、これらの条件で完了まで保った。

【0134】

トルエンは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して３時間ストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。反応の進展をＨ１ ＮＭＲにより追跡した。反応は、エポキシのＣＨピークが〜３．１ｐｐｍから〜３．９ｐｐｍに完全にシフトした際に、完了とみなした。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ＡＧＥ−ＤＩＰＡ、９９．７０重量％、及びトルエン、０．３０重量％。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている（各Ｒがプロパノール基である場合）。

【0135】

【化29】

【0136】

実施例１３：ビスＨ及びアリルＡＧＥ−ＤＩＰＡのヒドロシリル化
１．２５９４ｇのビスＨ、実施例１２で生成された１．２６６ｇのアリルＡＧＥ−ＤＩＰＡ材料、及び２．０５２ｇのＩＰＡは、窒素パージ下で、反応フラスコ中において混合し、６０℃に加熱した。一旦６０℃にて、この溶液に、ヘキサメチルジシロキサン中のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒の１％溶液（２０．２６μＬ）を添加して、３０ｐｐｍ Ｐｔを得た。反応を発熱させ、７０℃に冷却した。次いで、反応は７０℃にて完了まで保った。

【0137】

反応は、未反応のＳｉ−Ｈピークが、Ｈ１ ＮＭＲスペクトルにおいて〜４．５６ｐｐｍで存在しなくなった場合完了とみなす。ＩＰＡは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して４時間ストリッピングした（７５℃、３ｍｂａｒ）。ストリッピング後の化学組成は、以下の通りであった：ビスＨ−ＡＧＥ−ＤＩＰＡ、８９．７７重量％、ＡＧＥ−ＤＩＰＡ異性体、９．９９重量％、及びＩＰＡ、０．２４重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、３個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0138】

【化30】

【0139】

実施例１４（予想）：ビスＨ及びアリルソルビトールのヒドロシリル化
１０．３ｇのアリルソルビトール及び２０．０１７ｇのＩＰＡは、窒素パージ下で、反応フラスコ中において混合し、５０℃に加熱する。シリンジに、１０．３ｇのビスＨを充填し、次いでシリンジポンプに入れる。一旦５０℃にて、ビスＨを反応容器に８８１μＬ／分で計量供給する。〜５％のビスＨを添加した後で、ヘキサメチルジシロキサン（８３．９６μＬ）中のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒の１％溶液を添加して、１６ｐｐｍ Ｐｔを得る。反応を発熱させ、ビスＨのすべてを添加した後で、６０℃に冷却する。次いで、反応を６０℃にて３時間保ち、次いで冷却する。

【0140】

未反応のビスＨ及びＩＰＡは、Ｒｏｔｏｖａｐを使用して５時間ストリッピングする（７５℃、３ｍｂａｒ）。ストリッピング後の化学組成は、以下のように評価される：ビスＨ−アリルソルビトール、９６．０重量％、及び異性体、４．０重量％。この実施例で形成されたトリシロキサンは、５個のヒドロキシル官能基を有する。この実施例の反応スキームは、すぐ下で例証されている。

【0141】

【化31】

【0142】

「含むこと（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」又は「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」という用語は、本明細書において、それらの最も広い意味で、「含むこと（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ）」、「から本質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔ（ｉｎｇ）ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」、及び「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔ（ｉｎｇ）ｏｆ）」）という見解を意味し、包含するように使用されている。実例を列記する「例えば（ｆｏｒ ｅｘａｍｐｌｅ）」「例えば（ｅ．ｇ．，）」、「例えば（ｓｕｃｈ ａｓ）」及び「が挙げられる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」の使用は、列記されている例のみに限定しない。したがって、「例えば（ｆｏｒ ｅｘａｍｐｌｅ）」又は「例えば（ｓｕｃｈ ａｓ）」は、「例えば、それらに限定されないが（ｆｏｒ ｅｘａｍｐｌｅ， ｂｕｔ ｎｏｔ ｌｉｍｉｔｅｄ ｔｏ）」又は「例えば、それらに限定されないが（ｓｕｃｈ ａｓ， ｂｕｔ ｎｏｔ ｌｉｍｉｔｅｄ ｔｏ）」を意味し、他の類似した、又は同等の例を包含する。本明細書で使用されている「約（ａｂｏｕｔ）」という用語は、機器分析により測定した、又は試料を取り扱った結果としての数値のわずかなバリエーションを、合理的に包含若しくは説明する働きをする。そのようなわずかなバリエーションは、±０〜１０、±０〜５又は±０〜２．５％の規模であってよい。更に、「約」という用語は、ある範囲の値に関連する場合、数値の両方に当てはまる。更に、「約」という用語は、明確に記載されていない場合でも、数値に当てはまることがある。

【0143】

一般的に、本明細書で使用されている、ある範囲の値におけるハイフン「−」又はダッシュ「−」は、「〜へ（ｔｏ）」又は「から（ｔｈｒｏｕｇｈ）」であり、「＞」は「〜を上回る（ａｂｏｖｅ）」又は「超（ｇｒｅａｔｅｒ−ｔｈａｎ）」であり、「≧」は「少なくとも（ａｔ ｌｅａｓｔ）」又は「以上（ｇｒｅａｔｅｒ−ｔｈａｎ ｏｒ ｅｑｕａｌ ｔｏ）」であり、「＜」は「〜を下回る（ｂｅｌｏｗ）」又は「未満（ｌｅｓｓ−ｔｈａｎ）」であり、「≦」は「多くとも（ａｔ ｍｏｓｔ）」又は「以下（ｌｅｓｓ−ｔｈａｎ ｏｒ ｅｑｕａｌ ｔｏ）」である。前述の特許出願、特許、及び／又は特許出願公開のそれぞれは、個別の基準で、特に１つ以上の非限定的な実施形態における参照によりその全体を本明細書に組み込む。

【0144】

添付の特許請求の範囲は、詳細な説明に記載されている表現、及び特定の化合物、組成物又は方法に限定されず、これらは、添付の特許請求の範囲内にある詳細な実施形態の間で変化し得ることが、理解されるべきである。様々な実施形の詳細な特徴又は態様について記載している、本明細書で依拠とされたいずれかのマーカッシュグループに関しては、異なる、特別な、及び／又は想定外の結果が、他の全マーカッシュメンバーとは無関係のそれぞれのマーカッシュグループの各メンバーから得られることは理解されるべきである。マーカッシュグループの各メンバーは、個々に、及び、又は組み合わされて依拠とされ得、添付の特許請求の範囲内で、特定の実施形態を十分に裏付けることができる。

【0145】

本発明の様々な実施形態の記載を依拠とする任意の範囲及び部分的範囲は、独立して、及び包括的に、添付の特許請求の範囲内にあることも理解されるべきであり、全体値及び／又は小数値を含むすべての範囲を、そのような値が本明細書で明確に書かれていなくても、説明し、想定することが理解される。当業者は、列挙された範囲及び部分的範囲が、本発明の様々な実施形態を十分に説明し、可能にし、そのような範囲及び部分的範囲は、更に関連性がある２等分、３等分、４等分、５等分などに描かれ得ることを容易に認識する。単なる一例として、「０．１〜０．９」の範囲は、更に、下方の３分の１、すなわち、０．１〜０．３、中央の３分の１、すなわち、０．４〜０．６、及び上方の３分の１、すなわち、０．７〜０．９に描かれ得、これらは、個々に、及び包括的に、添付の特許請求の範囲内であり、個々に、及び／又は包括的に依拠とされ得、添付の特許請求の範囲内で、特定の実施形態を十分に裏付けることができる。更に、範囲を定義する、又は修飾する言葉、例えば「少なくとも」、「超」「未満」「わずか」などに関して、そのような言葉は、部分範囲及び／又は上限若しくは下限を含むと理解されるべきである。別の例として、「少なくとも１０」の範囲は、少なくとも１０〜３５の部分範囲、少なくとも１０〜２５の部分範囲、２５〜３５の部分範囲などを本質的に含み、各部分範囲は、個々に、及び／又は包括的に依拠とされ得、添付の特許請求の範囲内で、特定の実施形態を十分に裏付けることができる。最終的に、開示した範囲の範囲内の個々の数が依拠とされ得、添付の特許請求の範囲内で、特定の実施形態を十分に裏付けることができる。例えば、「１〜９」の範囲は、様々な個々の整数、例えば３、並びに、小数点を含む個々の数（又は分数）、例えば４．１を含み、これは、依拠とされ得、添付の特許請求の範囲内で、特定の実施形態を十分に裏付けることができる。

【0146】

本発明は、実例となる手段で本明細書に記載されており、使用されている用語は、限定せずに説明する文言の性質であることが意図されていると理解されるべきである。本発明の多くの修飾及びバリエーションは、上記指示を踏まえ、実行できる。本発明は、添付の特許請求の範囲内に具体的に記載されているもの以外に、別の方法で実践してもよい。独立請求項及び従属請求項、単一及び複数の従属請求項の両方の、主題のすべての組み合わせが、本明細書において明確に想定されている。

【図1】

【図2】