特許6662337半導体装置及びその製造方法、並びに積層体

発明の名称　半導体装置及びその製造方法、並びに積層体

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（373件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（361件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6662337

公報発行日　2020年3月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6662337

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