発明の名称 半導体ウェハをエピタキシャル被覆するための方法
出願人 ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト (識別番号 599119503)
特許公開件数ランキング 1241 位(17件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 1111 位(17件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6697558
公報発行日 2020年5月20
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6697558
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