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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1458位 4件
(2024年:第1174位 20件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第822位 7件
(2024年:第1048位 21件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7654688 | 半導体ウェハの研削方法 | 2025年 4月 1日 | |
特許 7651725 | 気相のエピタキシャル層を含む半導体ウェハを堆積チャンバ内で製造する方法 | 2025年 3月26日 | |
特許 7642860 | 堆積室において気相から堆積させたエピタキシャル層を有する半導体ウェハを製造するための方法 | 2025年 3月10日 | |
特許 7639168 | ウェハ搬送装置 | 2025年 3月 4日 | |
特許 7639184 | 堆積装置内の半導体材料の基板ウェハ上にエピタキシャル層を堆積させるための方法 | 2025年 3月 4日 | |
特許 7618707 | 半導体ウェハの製造方法 | 2025年 1月21日 | |
特許 7615397 | 基板上に酸化ガリウム層を生成する方法 | 2025年 1月16日 |
7 件中 1-7 件を表示
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7654688 7651725 7642860 7639168 7639184 7618707 7615397
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