特許 6711065 光学フィルム、偏光板、及び表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6711065

(24)【登録日】2020年6月1日

(45)【発行日】2020年6月17日

(54)【発明の名称】光学フィルム、偏光板、及び表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/30 20060101AFI20200608BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20200608BHJP

   H05B 33/02 20060101ALI20200608BHJP

   G02F 1/1335 20060101ALI20200608BHJP

   B32B 7/023 20190101ALI20200608BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20200608BHJP

【ＦＩ】

   G02B5/30

   H05B33/14 A

   H05B33/02

   G02F1/1335 510

   B32B7/023

   H01L27/32

【請求項の数】4

【全頁数】26

(21)【出願番号】特願2016-62557(P2016-62557)

(22)【出願日】2016年3月25日

(65)【公開番号】特開2017-173754(P2017-173754A)

(43)【公開日】2017年9月28日

【審査請求日】2018年9月21日

(73)【特許権者】

【識別番号】000229117

【氏名又は名称】日本ゼオン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】特許業務法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤野 泰秀

【審査官】 山▲崎▼ 和子

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１１−０１３３７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１３７７２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１０／００３５０３５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 中国特許出願公開第１４４０８７２（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開２００８−００３４２６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｂ ５／３０

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｇ０２Ｆ １／１３３５−１／１３３６３

Ｈ０１Ｌ ２７／３２

Ｈ０５Ｂ ３３／００−３３／２８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

樹脂（Ｃ）からなる１層のコア層、並びに樹脂（Ｓ）からなり前記コア層の一方の面側及び他方の面にそれぞれ設けられたスキン層（１）及びスキン層（２）を備え、
前記樹脂（Ｓ）の厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が２５００ＭＰａ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の厚み３０μｍのフィルムの衝撃強度が１６．０×１０^−２Ｊ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の厚み３０μｍのフィルムの屈曲性が１０００００回以上を満たし、
前記コア層、前記スキン層（１）及び前記スキン層（２）の合計の厚みが６０μｍ以下で、前記コア層の厚みｔ_Ｃに対する前記スキン層（１）の厚みｔ_Ｓ１の比ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃ及び前記コア層の厚みｔ_Ｃに対する前記スキン層（２）の厚みｔ_Ｓ２の比ｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃが、いずれも０．０３以上０．２５以下であり、
前記樹脂（Ｃ）が、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体を含む樹脂からなり、（ａ）と（ｂ）の比（ａ）／（ｂ）＝４０／６０〜６０／４０であり、
樹脂（Ｓ）がアクリル系樹脂であり、
前記屈曲性は、
測定対象のフィルムを３０ｍｍ×４００ｍｍの試験片とし、これについて屈曲を繰り返し行い、クラック又は折れ目が入った時点の回数であり、
前記屈曲は、Ｒ＝２．５ｍｍのマンドレルを用いて、フィルムが１６５°屈曲するように試験片をセッティングし、試験片の４００ｍｍの辺の延長上に、５００ｇの錘を吊るし、３０ｍｍの辺と平行に折れ曲げ線が入るように行い、
前記屈曲を行う際の屈曲スピードは、１００ｒｐｍである光学フィルム。

【請求項2】

衝撃強度が５×１０^−２Ｊ以上であり、屈曲性が１万回以上であり、表面硬度がＨＢ以上であり、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、且つ軟化温度が１３５℃以上である、請求項１に記載の光学フィルム。

【請求項3】

請求項１又は２に記載の光学フィルムと、ポリビニルアルコール偏光子層とを備える偏光板。

【請求項4】

請求項３に記載の偏光板、及び液晶表示素子又は有機エレクトロルミネッセンス表示素子を備える、表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学フィルム、偏光板、並びに液晶表示装置及びエレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置及びエレクトロルミネッセンス表示装置等の各種の表示装置には、様々な光学フィルムが設けられる。例えば、液晶表示装置は通常偏光板を備え、かかる偏光板は、通常、ポリビニルアルコール等の樹脂により構成された偏光子と、偏光子を保護するための保護フィルムを備える。保護フィルムの材料としては、様々な材料が提案されている。例えば、芳香族ビニル化合物水素化物のブロックと、ジエン化合物水素化物のブロックとを含むブロック共重合体の使用が提案されている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１１−１３３７８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

偏光板保護フィルム等の光学フィルムには、高い衝撃強度、高い屈曲性及び高い表面硬度等の、様々な特性が求められる。しかしながら、一般的に、高い衝撃強度及び高い屈曲性を有するフィルムの表面硬度は不十分であることが多い。

【0005】

従って、本発明の目的は、高い衝撃強度、高い屈曲性、高い表面硬度、及びその他の様々な優れた特性を有し、偏光板保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学フィルム；ならびに当該光学フィルムを備え、高い性能を有する偏光板及び表示装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明者は、前記課題を解決するために検討を行い、特に、高い衝撃強度及び高い屈曲性を有するコア層と、その両面に設けられた、高い表面硬度を有するスキン層とを備える、多層フィルムについて検討を行った。一般的に、表面硬度が高い樹脂は、非常に脆く、衝撃強度及び屈曲性が低く、そのような樹脂を表面に設けた多層フィルムの衝撃強度及び屈曲性は、コア層のみの場合に比べて大きく劣る。したがって、そのような多層フィルムを各種の特性に優れた光学フィルムとすることは困難であった。しかしながら、本発明者がさらに検討を行ったところ、そのような多層フィルムにおいて、コア層及びスキン層を構成する樹脂として特定の物性を有するものを採用し、且つ、スキン層の厚みをコア層の厚みに対して極めて薄い特定の範囲とすることにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及び高い表面硬度の全てを備えた光学フィルムを構成することができることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成したものである。
すなわち、本発明は以下の通りである。

【0007】

〔１〕 樹脂（Ｃ）からなる１層のコア層、並びに樹脂（Ｓ）からなり前記コア層の一方の面側及び他方の面にそれぞれ設けられたスキン層（１）及びスキン層（２）を備え、
前記樹脂（Ｓ）の厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が２５００ＭＰａ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の厚み３０μｍのフィルムの衝撃強度が１６．０×１０^−２Ｊ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の厚み３０μｍのフィルムの屈曲性が１０００００回以上を満たし、
前記コア層、前記スキン層（１）及び前記スキン層（２）の合計の厚みが６０μｍ以下で、前記コア層の厚みｔ_Ｃに対する前記スキン層（１）の厚みｔ_Ｓ１の比ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃ及び前記コア層の厚みｔ_Ｃに対する前記スキン層（２）の厚みｔ_Ｓ２の比ｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃが、いずれも０．０３以上０．２５以下である光学フィルム。
〔２〕 前記樹脂（Ｃ）が、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体を含む樹脂からなり、（ａ）と（ｂ）の比（ａ）／（ｂ）＝４０／６０〜６０／４０である、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕 樹脂（Ｓ）がアクリル系樹脂である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕 衝撃強度が５×１０^−２Ｊ以上であり、屈曲性が１万回以上であり、表面硬度がＨＢ以上であり、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、且つ軟化温度が１３５℃以上である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔５〕 〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルムと、ポリビニルアルコール偏光子層とを備える偏光板。
〔６〕 〔５〕に記載の偏光板、及び液晶表示素子又は有機エレクトロルミネッセンス表示素子を備える、表示装置。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、高い衝撃強度、高い屈曲性、高い表面硬度、及びその他の様々な優れた特性を有し、偏光板保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学フィルム；ならびに当該光学フィルムを備え、高い性能を有する偏光板及び表示装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、本発明の光学フィルムの一例を模式的に示す断面図である。

【図2】図２は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する斜視図である。

【図3】図３は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、実施形態及び例示物を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。

【0011】

以下の説明において、フィルムが「長尺」とは、幅に対して、５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。幅に対する長さの倍率の上限は、特に限定されないが、通常１０万倍以下としうる。

【0012】

以下の説明において、「偏光板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。

【0013】

〔１．光学フィルムの概要〕
本発明の光学フィルムは、１層のコア層、並びにコア層の一方の面側及び他方の面にそれぞれ設けられたスキン層（１）及びスキン層（２）を備える。

【0014】

図１は、本発明の光学フィルムの一例を模式的に示す断面図である。図１において、光学フィルム１００は、コア層１１１、及びコア層１１１の一方の面側に設けられたスキン層（１）１２１、及びコア層１１１の他方の面側に設けられたスキン層（２）１２２を備える。

【0015】

〔２．コア層：樹脂（Ｃ）〕
コア層は、樹脂（Ｃ）からなる。樹脂（Ｃ）は、その厚み３０μｍのフィルムの衝撃強度が１６．０×１０^−２Ｊ以上であり、且つその厚み３０μｍのフィルムの屈曲性が１０００００回以上、好ましくは１５００００回以上の樹脂である。樹脂（Ｃ）としてこのような樹脂を採用し、特定のスキン層と特定の態様で組み合わせることにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及び高い表面硬度等の様々な優れた特性を有する光学フィルムを得ることができる。衝撃硬度の値の上限は、特に限定されないが例えば３０×１０^−２Ｊ以下としうる。また、屈曲性の上限も特に限定されないが例えば４０００００回以下としうる。

【0016】

本願において、フィルムの衝撃強度は、以下に述べる特定の方法により測定されたものである。即ち、本願におけるフィルムの衝撃強度は、特定の治具により水平に固定された測定対象のフィルムの上面に、様々な高さｈから鋼球を落下させることにより測定され、フィルムが破れなかった場合及びフィルムが破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球の位置エネルギーを衝撃強度とする。

【0017】

図２及び図３は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する斜視図及び側面図である。ここでは、フィルム１００の衝撃強度の測定を説明している。本願における衝撃強度の測定においては、図２及び図３に示す通りの円筒形の形状を有する上側の筒２０１及び下側の筒２０２を備える治具を用いる。筒２０１及び筒２０２の内径（矢印Ａ３で示される）はいずれも４ｃｍとする。上側の筒２０１を下側に付勢し、且つ下側の筒２０２を上側に付勢することにより、フィルム１００を治具に固定する。フィルム１００の上面１００Ｕの、治具内の中央の位置２０Ｐに、鋼球２１１（パチンコ玉、重さ５ｇ、直径１１ｍｍ）を様々な高さｈ（鋼球２１１の最下部の水準Ｈ１とフィルム１００の上面１００Ｕとの距離；矢印Ａ２で示す高さ）から、矢印Ａ１方向に落下させる。フィルム１００が破れなかった場合及びフィルム１００が破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球２１１の位置エネルギー（×１０^−２Ｊ）を衝撃強度とする。

【0018】

本願において、フィルムの屈曲性は、以下に述べる特定の方法により測定されたものである。即ち、本願におけるフィルムの屈曲性は、測定対象のフィルムを切断し、３０ｍｍ×４００ｍｍの試験片とし、これについて、特定の屈曲を繰り返し行い、クラック又は折れ目が入った時点の回数を、屈曲性の指標とする。屈曲は、Ｒ＝２．５ｍｍのマンドレルを用いて、フィルムが１６５°屈曲するように試験片をセッティングし、試験片の４００ｍｍの辺の延長上に、５００ｇの錘を吊るし、３０ｍｍの辺と平行に折れ曲げ線が入るように行う。屈曲スピードは、１００ｒｐｍとする。屈曲のための装置としては、屈曲試験機（商品名「ＴＣＤＭＬＨ−Ｐ１５０」、ユアサシステム機器株式会社製）を用いうる。

【0019】

樹脂（Ｃ）としては、上に述べた特性を有する樹脂であって、光学フィルムの構成要素として用いうるものを適宜選択しうる。好ましい例において、樹脂（Ｃ）は、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体を含む樹脂からなる。かかる重合体は、芳香族ビニル化合物単位及び鎖状共役ジエン化合物単位を有する重合体を水素化することにより得られる。芳香族ビニル化合物単位とは、芳香族ビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位である。鎖状共役ジエン化合物単位とは、鎖状共役ジエン化合物を重合して形成される構造を有する構造単位である。

【0020】

樹脂（Ｃ）を構成する、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体としては、芳香族ビニル化合物単位を主成分とする、共重合体１分子あたり２個以上の重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物単位を主成分とする、共重合体１分子あたり１個以上の重合体ブロック［Ｂ］とを有する特定のブロック共重合体を水素化した水素化物が好ましい。かかる共重合体を水素化することにより、共重合体の芳香族ビニル化合物単位が、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）となり、共重合体の鎖状共役ジエン化合物単位が、鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）となる。これらのブロック共重合体及びその水素化物は、例えばアルコキシシラン、カルボン酸、カルボン酸無水物等で変性されていてもよい。以下、この特定のブロック共重合体を水素化した水素化物について説明する。

【0021】

〔３．特定のブロック共重合体〕
前記のように、特定のブロック共重合体が有する重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位を有する。この重合体ブロック［Ａ］が有する芳香族ビニル化合物単位に対応する芳香族ビニル化合物の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、４−モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、４−モノフルオロスチレン、４−フェニルスチレンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましい。更に、工業的入手のし易さ、衝撃強度の観点から、スチレンが特に好ましい。

【0022】

重合体ブロック［Ａ］における芳香族ビニル化合物単位の含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ましくは９５重量％以上、さらにより好ましくは９９重量％以上である。重合体ブロック［Ａ］において芳香族ビニル化合物単位の量を前記のように多くすることにより、樹脂（Ｃ）の耐熱性を高めることができる。

【0023】

重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位以外に、任意の構造単位を含んでいてもよい。任意の構造単位の例としては、鎖状共役ジエン化合物単位、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位、などが挙げられる。

【0024】

鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物の例としては、重合体ブロック［Ｂ］が有する鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物の例として挙げるものと同様の例が挙げられる。また、鎖状共役ジエン化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

【0025】

芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物の例としては、鎖状ビニル化合物；環状ビニル化合物；ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、又はハロゲン基を有するビニル化合物；不飽和の環状酸無水物；不飽和イミド化合物などが挙げられる。中でも、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ドデセン、１−エイコセン、４−メチル−１−ペンテン、４，６−ジメチル−１−ヘプテン等の鎖状オレフィン；ビニルシクロヘキサン等の環状オレフィン；などの、極性基を含有しないものが、吸湿性の面で好ましい。その中でも、鎖状オレフィンがより好ましく、エチレン及びプロピレンが特に好ましい。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

【0026】

重合体ブロック［Ａ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、さらにより好ましくは１重量％以下である。

【0027】

ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ａ］の数は、好ましくは２個以上であり、好ましくは５個以下、より好ましくは４個以下、さらにより好ましくは３個以下である。１分子中に複数個ある重合体ブロック［Ａ］は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。

【0028】

１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ａ］が複数存在する場合、重合体ブロック［Ａ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）との比「Ｍｗ（Ａ１）／Ｍｗ（Ａ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。

【0029】

他方、ブロック共重合体が有する重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物単位を有する。この重合体ブロック［Ｂ］が有する鎖状共役ジエン化合物単位に対応する鎖状共役ジエン化合物の例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましく、１，３−ブタジエン及びイソプレンが特に好ましい。

【0030】

重合体ブロック［Ｂ］における鎖状共役ジエン化合物単位の含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ましくは９５重量％以上、さらにより好ましくは９９重量％以上である。重合体ブロック［Ｂ］において鎖状共役ジエン化合物単位の量を前記のように多くすることにより、樹脂（Ｃ）の低温での衝撃強度を向上させることができる。

【0031】

重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物単位以外に、任意の構造単位を含んでいてもよい。任意の構造単位の例としては、芳香族ビニル化合物単位、並びに、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位などが挙げられる。これらの芳香族ビニル化合物単位、並びに、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位の例としては、重合体ブロック［Ａ］に含まれていてもよいものとして例示したものが挙げられる。

【0032】

重合体ブロック［Ｂ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、さらにより好ましくは１重量％以下である。特に、重合体ブロック［Ｂ］における芳香族ビニル化合物単位の含有率を低くすることにより、樹脂（Ｃ）の低温での柔軟性を向上させて、樹脂（Ｃ）の低温での衝撃強度を向上させることができる。

【0033】

ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ｂ］の数は、通常１個以上であるが、２個以上であってもよい。ブロック共重合体における重合体ブロック［Ｂ］の数が２個以上である場合、重合体ブロック［Ｂ］は、互いに同じでもよく、異なっていてもよい。

【0034】

また、１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ｂ］が複数存在する場合、重合体ブロック［Ｂ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ｂ１）とＭｗ（Ｂ２）との比「Ｍｗ（Ｂ１）／Ｍｗ（Ｂ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。

【0035】

ブロック共重合体のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもよく、ラジアル型ブロックでもよい。中でも、鎖状型ブロックが、機械的強度に優れ、好ましい。
ブロック共重合体が鎖状型ブロックの形態を有する場合、その両端が重合体ブロック［Ａ］であることが、樹脂（Ｃ）のベタツキを低減できるので、好ましい。

【0036】

ブロック共重合体の特に好ましいブロックの形態は、重合体ブロック［Ｂ］の両端に重合体ブロック［Ａ］が結合したトリブロック共重合体；重合体ブロック［Ａ］の両端に重合体ブロック［Ｂ］が結合し、更に、該両重合体ブロック［Ｂ］の他端にそれぞれ重合体ブロック［Ａ］が結合したペンタブロック共重合体である。特に、［Ａ］−［Ｂ］−［Ａ］のトリブロック共重合体であることが、製造が容易であり且つ粘度等の物性を所望の範囲とすることができるため、特に好ましい。

【0037】

ブロック共重合体において、全重合体ブロック［Ａ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＡと、全重合体ブロック［Ｂ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、好ましくは２０／８０以上、より好ましくは３０／７０以上であり、好ましくは６０／４０以下、より好ましくは５５／４５以下である。前記の比ｗＡ／ｗＢを前記範囲の下限値以上にすることにより、樹脂（Ｃ）の耐熱性を向上させることができる。また、上限値以下にすることにより、樹脂（Ｃ）の柔軟性を高めて、良好な物性の光学フィルムを得ることができる。

【0038】

前記のブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、さらにより好ましくは５０，０００以上であり、好ましくは２００，０００以下、より好ましくは１５０，０００以下、さらにより好ましくは１００，０００以下である。前記ブロック共重合体の重量平均分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、ポリスチレン換算の値として測定しうる。
また、ブロック共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下であり、好ましくは１．０以上である。ここで、Ｍｎは、数平均分子量を表す。

【0039】

ブロック共重合体の製造方法は、特に限定されず、例えば国際公開第２０１５／０９９０７９号に記載の方法により製造しうる。

【0040】

〔４．特定のブロック共重合体の水素化物〕
ブロック共重合体の水素化物は、前述した特定のブロック共重合体の不飽和結合を水素化して得られるものである。ここで、ブロック共重合体の不飽和結合には、ブロック共重合体の主鎖及び側鎖の、芳香族性及び非芳香族性の炭素−炭素不飽和結合をいずれも含む。水素化率は、ブロック共重合体の全不飽和結合の、好ましくは９０％以上、より好ましくは９７％以上、さらにより好ましくは９９％以上である。水素化率が高いほど、樹脂（Ｃ）の耐熱性及び耐光性を良好にできる。ここで、水素化物の水素化率は、^１Ｈ−ＮＭＲによる測定により求めることができる。

【0041】

特に、非芳香族性の不飽和結合の水素化率は、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上である。非芳香族性の炭素−炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、樹脂（Ｃ）の耐光性及び耐酸化性を更に高くできる。
また、芳香族性の炭素−炭素不飽和結合の水素化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、特に好ましくは９５％以上である。芳香環の炭素−炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、重合体ブロック［Ａ］を水素化して得られる重合体ブロックのガラス転移温度が高くなるので、樹脂（Ｃ）の耐熱性を効果的に高めることができる。さらに、樹脂（Ｃ）の光弾性係数を下げて、レターデーションの発現を低減することができる。

【0042】

ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、さらにより好ましくは４５，０００以上であり、好ましくは２００，０００以下、より好ましくは１５０，０００以下、さらにより好ましくは１００，０００以下である。前記ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリスチレン換算の値で測定しうる。また、ブロック共重合体の水素化物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下であり、好ましくは１．０以上である。ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量Ｍｗ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを前記の範囲に収めることにより、樹脂（Ｃ）の機械強度及び耐熱性を向上させることができる。

【0043】

ブロック共重合体の水素化物における、全重合体ブロック［Ａ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＡと、全重合体ブロック［Ｂ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、通常、水素化する前のブロック共重合体における比ｗＡ／ｗＢと同様の値となる。

【0044】

ブロック共重合体の水素化物は、その分子構造にアルコキシシリル基を有しうる。このアルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物は、例えば、アルコキシシリル基を有さないブロック共重合体の水素化物に、アルコキシシリル基を結合させることにより得られる。この際、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を直接結合させてもよく、例えばアルキレン基などの２価の有機基を介して結合させてもよい。

【0045】

ブロック共重合体の水素化物の製造方法は、通常、前述した特定のブロック共重合体を水素化することを含む。具体的な水素化の方法及び必要に応じて行われるアルコキシシリル基の導入の具体的な方法は、特に限定されず、例えば国際公開第２０１５／０９９０７９号に記載の方法により行いうる。得られたブロック共重合体の水素化物は、ペレット形状などの任意の形状とし、その後の操作に用いうる。

【0046】

樹脂（Ｃ）を構成する重合体が、上に述べたブロック共重合体の水素化物等の、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体である場合、かかる重合体においては、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）と、鎖状共役ジエン化合物水素化物単位（ｂ）との重量比（ａ）／（ｂ）が、特定の範囲内であることが好ましい。（ａ）／（ｂ）は、好ましくは４０／６０以上、より好ましくは４５／５５以上であり、一方好ましくは６０／４０以下、より好ましくは５５／４５である。（ａ）／（ｂ）がかかる範囲内であることにより、上記各種の特性において優れた光学フィルムを容易に得ることができる。

【0047】

〔５．任意の成分〕
樹脂（Ｃ）は、上に述べた重合体に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分の例としては、ガラス転移温度及び弾性率を調整するための可塑剤、耐候性及び耐熱性を向上させるための光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、無機フィラーなどが挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

【0048】

ガラス転移温度及び柔軟性を調整するための可塑剤の例としては、ポリイソブテン、水素化ポリイソブテン、水素化ポリイソプレン、水素化１，３−ペンタジエン系石油樹脂、水素化シクロペンタジエン系石油樹脂、水素化スチレン・インデン系石油樹脂などが挙げられる。これらの可塑剤の配合量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、通常４０重量部以下で、樹脂特性を調整する目的に合わせて適宜選択される。

【0049】

光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましく、構造中に例えば３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル基、２，２，６，６−テトラメチルピペリジル基、又は、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基などを有している化合物が特に好ましい。

【0050】

光安定剤の具体例としては、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−Ｎ−メチルピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ジホルミル−アルキレンジアミン類、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ジホルミルアルキレンジアミン類、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ビスアルキレン脂肪酸アミド類、ポリ〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、及びＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重合体とＮ−ブチル−１−ブタンアミンとＮ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミンとの反応生成物が、耐光性に優れるため好ましく、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ’−ジホルミルアルキレンジアミン類、及びＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重合体とＮ−ブチル−１−ブタンアミンとＮ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミンとの反応生成物が特に好ましい。

【0051】

光安定剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０２重量部以上、さらにより好ましくは０．０３重量部以上であり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下、さらにより好ましくは１重量部以下である。光安定剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより、樹脂（Ｃ）の耐候性を高くできる。また、上限値以下とすることにより、樹脂（Ｃ）を成形して光学フィルムを製造する際に、押出し機のＴダイ及び冷却ロールの汚れを防止でき、加工性を高めることができる。

【0052】

紫外線吸収剤の例としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤などが挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸３水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−ドデカロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。

【0053】

また、サリチル酸系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。

【0054】

また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタリミジルメチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］などが挙げられる。

【0055】

紫外線吸収剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０２重量部以上、さらにより好ましくは０．０４重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下、さらにより好ましくは０．３重量部以下である。紫外線吸収剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、樹脂（Ｃ）の耐光性を改善することができるが、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。

【0056】

酸化防止剤の例としては、リン系酸化防止剤、フェノ−ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられ、着色がより少ないリン系酸化防止剤が好ましい。
リン系酸化防止剤の例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４’−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物；６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン、６−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピンなどの化合物を挙げることができる。

【0057】

フェノ−ル系酸化防止剤の例としては、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンなどの化合物を挙げることができる。

【0058】

硫黄系酸化防止剤の例としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどの化合物を挙げることができる。

【0059】

酸化防止剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、さらにより好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下、さらにより好ましくは０．３重量部以下である。酸化防止剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、樹脂（Ｃ）の熱安定性を改善することができるが、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。

【0060】

ブロック共重合体の水素化物と任意の成分とを混合する方法の例としては、任意の成分を適切な溶媒に溶解してブロック共重合体の水素化物の溶液と混合した後、溶媒を除去して任意の成分を含む樹脂（Ｃ）を回収する方法；二軸混錬機、ロール、ブラベンダー、押出機等の混練機で、ブロック共重合体の水素化物を溶融状態にして任意の成分と混練する方法；などが挙げられる。

【0061】

〔６．スキン層：樹脂（Ｓ）〕
スキン層（１）及びスキン層（２）は、樹脂（Ｓ）からなる。樹脂（Ｓ）は、その厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が２５００ＭＰａ以上、好ましくは２８００ＭＰａ以上である。樹脂（Ｓ）としてこのような樹脂を採用し、特定のコア層と特定の態様で組み合わせることにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及び高い表面硬度等の様々な優れた特性を有する光学フィルムを得ることができる。本願において、フィルムの押込弾性率は、押込弾性率試験機（フィッシャーインスツルメンツ社製、商品名「ピコメーター Ｈｍ−５００」）を用いて測定しうる。本発明のフィルムの押込弾性率の上限は、特に限定されないが例えば５０００ＭＰａ以下としうる。

【0062】

樹脂（Ｓ）としては、上に述べた特性を有する樹脂であって、光学フィルムの構成要素として用いうるものを適宜選択しうる。好ましい例において、樹脂（Ｓ）は、アクリル系樹脂である。

【0063】

アクリル系樹脂は、アクリル重合体を含む樹脂である。アクリル重合体の例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステルの単独重合体；アルキル基の水素がＯＨ基、ＣＯＯＨ基もしくはＮＨ_２基などの官能基によって置換された（メタ）アクリル酸アルキルエステルの単独重合体；及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、スチレン、酢酸ビニル、α，β−モノエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなどの不飽和結合を有するビニル系モノマーとの共重合体を挙げることができる。アクリル重合体としては、これらのうち１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。アクリル重合体はメタクリル酸メチルおよびメタクリル酸ブチルが単量体単位として含まれているものがより好ましい。また、アクリル重合体は、ガラス転移温度Ｔｇが８０℃以上のものが好ましい。ここで、（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタクリルの意味である。樹脂（Ｓ）のガラス転移温度は、示差走査熱量計（例えば、セイコーインスツルメント製 示差走査熱量計 ＤＳＣ−６１００）で測定しうる。

【0064】

樹脂（Ｓ）は、上に述べたアクリル重合体に加え、任意の成分を含みうる。任意の成分の例としては、樹脂（Ｃ）の任意の成分として上に述べたものと同様のものを挙げることができる。樹脂（Ｓ）における、アクリル重合体と任意の成分との割合も、樹脂（Ｃ）おけるブロック共重合体の水素化物と任意の成分との割合と同様としうる。

【0065】

〔７．コア層及びスキン層の厚み〕
本発明の光学フィルムにおいては、コア層、スキン層（１）及びスキン層（２）の合計の厚みは６０μｍ以下である。本発明の光学フィルムにおいては、スキン層（１）及びスキン層（２）が実質的に同じ厚みを有することが好ましい。本願において、スキン層（１）及びスキン層（２）が「実質的に同じ厚みを有する」とは、具体的には、スキン層（１）の厚みｔ_Ｓ１及びスキン層（２）の厚みｔ_Ｓ２の比ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｓ２が０．８〜１．２の範囲内であることをいう。上に述べた特定の特性を有する樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）でコア層及びスキン層を構成し、このような要件及び他の要件を満たす構成を採用することにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及び高い表面硬度等の様々な優れた特性を有する光学フィルムを得ることができる。

【0066】

本発明の光学フィルムにおいては、コア層の厚みｔ_Ｃに対するスキン層（１）の厚みｔ_Ｓ１の比ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃ及びコア層の厚みｔ_Ｃに対するスキン層（２）の厚みｔ_Ｓ２の比ｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃが、いずれも０．０３以上０．２５以下である。ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃの値及びｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃの値を前記下限以上とすることにより、高い表面硬度を得ることができる。一方ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃの値及びｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃの値を前記上限以下とすることにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及びその他の優れた特性を得ることができる。さらに、本発明では、ｔ_Ｓ１／ｔ_Ｃの値及びｔ_Ｓ２／ｔ_Ｃの値が当該範囲内であることに加えて、コア層及びスキン層として上に述べた他の要件を満たすものを採用することにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、及び高い表面硬度等の様々な優れた特性を有する光学フィルムを得ることができる。

【0067】

〔８．光学フィルムの物性〕
本発明の光学フィルムは、その衝撃強度、屈曲性、及び表面硬度、並びにその他の特性において優れたフィルムとしうる。これらの特性は、上に述べた要件を満たすことにより達成することができる。

【0068】

本発明の光学フィルムの衝撃強度は、好ましくは５×１０^−２Ｊ以上であり、より好ましくは８×１０^−２Ｊ以上である。また、本発明の光学フィルムの屈曲性は、好ましくは１０，０００回以上であり、より好ましくは２０,０００回以上である。かかる高い衝撃強度及び屈曲性を有する光学フィルムは、表示装置において、高い耐久性を有する材料として有用に用いうる。光学フィルムの衝撃強度及び屈曲性は、樹脂（Ｃ）のフィルムについて上に述べた測定方法と同様の方法により測定しうる。本発明の光学フィルムの衝撃強度の上限は、特に限定されないが例えば２５×１０^−２Ｊ以下としうる。本発明の光学フィルムの屈曲性の上限は、特に限定されないが例えば４００，０００回以下としうる。

【0069】

本発明の光学フィルムの表面硬度は、鉛筆硬度により評価しうる。本発明の光学フィルムの鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ以上、より好ましくはＦ以上である。かかる高い表面硬度を有する光学フィルムは、表示装置において、高い耐久性を有する材料として有用に用いうる。ＨＢ以上の表面硬度を有する光学フィルムは、その表面にさらにハードコート層を設けた場合において、容易にＨ以上の表面硬度を得ることができ、従って偏光板保護フィルム等の光学フィルムの用途において有用に用いることができる。本発明の光学フィルムの表面硬度の上限は、特に限定されないが例えば１０Ｈ以下としうる。

【0070】

光学フィルムの表面硬度は、試料のフィルムを、コロナ処理によりガラス上に密着させた状態で測定しうる。具体的な測定方法は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠し、鉛筆の傾きは４５°とし、上から負荷する荷重は７５０ｇ重としうる。各硬度の鉛筆について５回試験を行い、２回以上において鉛筆跡が確認された場合はきず跡が生じたものと判定し、きず跡を生じなかった最も硬い鉛筆の硬度を、鉛筆硬度としうる。

【0071】

本発明の光学フィルムは、その水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、好ましくは１８ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。かかる低い水蒸気透過率を有する光学フィルムは、表示装置において、偏光子層、発光層等の、変質しやすい他の層を保護する能力に優れた層として、有用に用いうる。水蒸気透過率は、水蒸気透過度測定装置（例えばＭＯＣＯＮ社製「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１２９ Ｂ法に従って、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて測定しうる。本発明の光学フィルムの水蒸気透過率の下限は、特に限定されないが理想的には０ｇ／ｍ^２・ｄａｙとしうる。

【0072】

本発明の光学フィルムは、その軟化温度が１３５℃以上である。かかる高い軟化温度を有する光学フィルムは、表示装置において、高い耐熱性を有する材料として有用に用いうる。軟化温度の測定は、測定対象のフィルムを５ｍｍ×２０ｍｍの形状に切り出し試料とし、ＴＭＡ（熱機械的分析）測定装置（例えばエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「ＴＭＡ／ＳＳ７１００」）を用い、ＴＭＡ測定において、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で、温度を変化させ、線膨張が５％変化した時の温度（℃）を記録することにより行いうる。本発明の光学フィルムの軟化温度の上限は、特に限定されないが、フィルムの成型性を考慮すると、例えば１６０℃以下としうる。

【0073】

〔９．任意の層〕
本発明の光学フィルムは、スキン層（１）、コア層及びスキン層（２）に加えて、任意の層を有しうる。任意の層の例としては、フィルムの滑り性を良くするマット層、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。

【0074】

特に、本発明の光学フィルムは、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層を有することにより、例えば液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する保護フィルムとして、本発明の光学フィルムを好適に用いうる。
表示装置において、装置の表示面最外層を構成する面の鉛筆硬度はＨ以上であることが求められる場合が多い。本発明の光学フィルムは、スキン層（１）、コア層及びスキン層（２）のみからなる場合であっても、その表面の鉛筆硬度をＨＢ以上としうるので、その上にさらにハードコート層を形成することにより、その表面の鉛筆硬度を、容易に、Ｈ以上といった高い値とすることができる。
ハードコート層を構成する材料の例としては、有機系シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料；および、二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。ハードコート層の厚みは、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．８μｍ以上、特に好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、特に好ましくは３μｍ以下である。

【0075】

〔１０．光学フィルムの製造方法〕
本発明の光学フィルムの製造方法は特に限定されず、任意の製造方法を採用しうる。例えば、樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）を所望の形状に成形することにより、本発明の光学フィルムを製造しうる。

【0076】

樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）の成形方法は、特に限定されず、任意の成形方法を採用しうる。成形方法の例としては、樹脂（Ｃ）のフィルム、及び樹脂（Ｓ）のフィルムを成形してこれらを貼合する方法、及び樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）のフィルムを、所望の層構成となるよう共押出する方法が挙げられる。特に、樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）のフィルムを共押出する方法は、効率よく本発明の光学フィルムを製造しうる観点から特に好ましい。押出成形法による成形を行うと、長尺のフィルムを得ることができる。フィルムの形状に成形された樹脂は、そのまま本発明の光学フィルムとしうる。又は、フィルムの形状に成形された樹脂を、さらに任意の処理に供し、それにより得られたものを本発明の光学フィルムとしうる。かかる任意の処理としては、延伸処理が挙げられる。

【0077】

〔１１．偏光板〕
本発明の偏光板は前記本発明の光学フィルムと、ポリビニルアルコール偏光子層とを備える。本発明の偏光板はさらに、光学フィルムと偏光子層との間に、これらを接着するための接着剤層を備えてもよい。本発明の光学フィルムは、高い衝撃強度、高い屈曲性、高い表面硬度、低い水蒸気透過率、及び高い耐熱性等の特性を有しうるため、偏光板において、偏光子層を保護する保護フィルムとして特に良好に機能することができる。

【0078】

ポリビニルアルコール偏光子層とは、ポリビニルアルコールフィルム（ポリビニルアルコール、又はポリビニルアルコールに修飾基が導入された重合体のフィルム）を主成分とし、偏光子層としての機能を有する層であり、具体的にはポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の材料を吸着させた後、延伸加工したものが挙げられる。接着剤層を構成する接着剤としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、例えば、アクリル重合体、シリコーン重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、及び合成ゴムが挙げられる。

【0079】

本発明の偏光板が備える偏光子層と保護フィルムの層の数は任意であるが、本発明の偏光板は、通常は、１層の偏光子層と、その両面に設けられた２層の保護フィルムを備えうる。かかる２層の保護フィルムのうち、両方が本発明の光学フィルムであってもよく、どちらか一方のみが本発明の光学フィルムであってもよい。特に、光源及び液晶セルを備え、かかる液晶セルの光源側及び表示面側の両方に偏光板を有するもの等の通常の液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する保護フィルムとして、本発明の光学フィルムを備えることが特に好ましい。かかる構成を有することにより、高い衝撃強度、高い屈曲性、高い表面硬度、低い水蒸気透過率、及び高い耐熱性等の特性を生かし、良好な表示品質及び耐久性を有する液晶表示装置を容易に構成することができる。

【0080】

〔１２．表示装置〕
本発明の表示装置は、前記本発明の偏光板、及び液晶表示素子又は有機エレクトロルミネッセンス表示素子を備える。本発明の表示装置は、液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置としうる。本発明の表示装置において、本発明の光学フィルムは、偏光板において偏光子を保護する保護フィルムとして設けうる。

【0081】

通常、液晶表示装置は、光源、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板を、この順に備える。本発明の表示装置が液晶表示装置である場合、本発明の光学フィルムは、例えば光源側偏光板及び視認側偏光板のいずれか又は両方の両面又は片面の保護フィルムとして用いうる。液晶表示装置の液晶セルの駆動方式としては、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなどが挙げられる。

【0082】

本発明の表示装置において、本発明の偏光板はまた、上記の用途以外の用途に用いられる偏光板として設けうる。例えば、反射防止機能を発現するための構成要素、所謂サングラスリーダブル機能（観察者が偏光サングラスを着用している場合において、観察角度による表示の相違を低減する機能）を発現するための構成要素の一部である偏光板として、本発明の偏光板を設けうる。

【実施例】

【0083】

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。

【0084】

〔評価項目〕
（分子量等）
重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ＴＨＦを溶離液とするＧＰＣによる標準ポリスチレン換算値として３８℃において測定した。測定装置としては、東ソー社製ＨＬＣ８０２０ＧＰＣを用いた。また、重合体の水素化率は^１Ｈ−ＮＭＲにより測定した。

【0085】

（押込弾性率）
測定対象のフィルムについて、押込弾性率試験機（フィッシャーインスツルメンツ社製、商品名「ピコメーター Ｈｍ−５００」）を用いて押込弾性率（単位：ＭＰａ）を測定した。測定に際して、圧子は対面角１３６°正四角錐ダイヤモンド圧子を用いた。荷重速度は２．５ｍＦ／ｓｅｃで一定とし、ｄＦ／ｄｔは一定の条件で実施した。最大荷重は５０ｍＮ、荷重時間は２０ｓｅｃ、クリープ時間は６０ｓｅｃとした。

【0086】

（衝撃強度）
図２〜図３に概略的に示す装置を用いて測定した。実施例、比較例及び参考例で得られたフィルム１００を、上側の筒２０１及び下側の筒２０２を備える治具により、水平に固定した。筒２０１及び筒２０２の内径（矢印Ａ３で示される）は４ｃｍであった。治具に固定されたフィルム１００の上面１００Ｕの、治具内の中央の位置２０Ｐに、鋼球２１１（パチンコ玉、重さ５ｇ、直径１１ｍｍ）を様々な高さｈ（鋼球２１１の最下部の水準Ｈ１とフィルム１００の上面１００Ｕとの距離；矢印Ａ２で示す高さ）から、矢印Ａ１方向に落下させて、フィルム１００が破れなかった場合及びフィルム１００が破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球２１１の位置エネルギー（×１０^−２Ｊ）を衝撃強度とした。

【0087】

（屈曲性）
測定対象のフィルムを切断し、３０ｍｍ×４００ｍｍの試験片を準備した。
小型卓上型 屈曲試験機（商品名「ＴＣＤＭＬＨ−Ｐ１５０」、ユアサシステム機器株式会社製）を用いて、屈曲性を試験した。Ｒ＝２．５ｍｍのマンドレルを用いて、フィルムが１６５°屈曲するようにセッティングした。試験片の４００ｍｍの辺の延長上に、５００ｇの錘を吊るし、３０ｍｍの辺と平行に折れ曲げ線が入るように屈曲を行った。屈曲スピードは、１００ｒｐｍとした。屈曲を行った後、クラック又は折れ目の発生の有無を、ＬＥＤライトを当て、状態をビデオカメラで撮影し記録した。クラック又は折れ目が入った時点の回数を、屈曲性の指標として記録した。

【0088】

（表面硬度）
測定対象のフィルム、並びに測定対象のフィルムの表面にハードコート層を形成したもののそれぞれについて、鉛筆硬度を測定した。
ハードコート層用材料としては、日立化成株式会社ヒタロイド７９７５Ｄを用いた。このハードコート層用材料を測定対象のフィルム上に、乾燥後の膜厚が３μｍとなるよう塗布し、乾燥させた。
鉛筆硬度は、試料のフィルムを、コロナ処理によりガラス上に密着させた状態で測定した。具体的な測定方法は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠した。鉛筆の傾きは４５°とし、上から負荷する荷重は７５０ｇ重とした。各硬度の鉛筆について５回試験を行い、２回以上において鉛筆跡が確認された場合はきず跡が生じたものと判定し、きず跡を生じなかった最も硬い鉛筆の硬度を、鉛筆硬度として記録した。
下記の表中において、鉛筆硬度は、Ｆを０とし、Ｈを１、２Ｈを２、３Ｈを３・・・とし、ＨＢを−１、Ｂを−２、２Ｂを−３・・・として記載した。また、測定対象のフィルムそのものついての鉛筆硬度の測定結果は「ＨＣなし」の欄に、測定対象のフィルムの表面にハードコート層を形成したものについての鉛筆硬度の測定結果は「ＨＣあり」の欄に、それぞれ記載した。

【0089】

（水蒸気透過率）
水蒸気透過率は、水蒸気透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１２９ Ｂ法に従って、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて測定した。

【0090】

（軟化温度）
測定対象のフィルムを５ｍｍ×２０ｍｍの形状に切り出し試料とした。測定装置として、ＴＭＡ／ＳＳ７１００（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いた。ＴＭＡ（熱機械的分析）測定において、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で、温度を変化させた。線膨張が５％変化した時の温度（℃）を、軟化温度とした。

【0091】

（総合評価）
偏光板保護フィルムに求められる条件である、衝撃強度５×１０^−２Ｊ以上、屈曲性強度１万回以上、ハードコート層ありの鉛筆硬度１Ｈ（１）以上、ハードコート層なしの鉛筆硬度ＨＢ（−１）以上、水蒸気透過率２０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下、及び軟化温度１３５℃以上の条件の全てを満たす場合、「良」と判定し、それ以外の場合を「不良」と判定した。

【0092】

（樹脂（Ｓ）のガラス転移温度）
示差走査熱量計（セイコーインスツルメント製 示差走査熱量計 ＤＳＣ−６１００）で測定した。

【0093】

〔実施例１〜１８、比較例１〜３６及び参考例１〜３〕
（１−１．樹脂（Ｃ）の製造）
芳香族ビニル化合物としてスチレンを用い、鎖状共役ジエン化合物としてイソプレンを用いて、重合体ブロック［Ｂ］の両端に重合体ブロック［Ａ］が結合したトリブロック構造を有するブロック共重合体を、以下の手順により製造した。

【0094】

内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン２５６部、脱水スチレン２５．０部、及びｎ−ジブチルエーテル０．６１５部を入れ、６０℃で攪拌しながらｎ−ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．９５部を加えて重合を開始させ、さらに、攪拌しながら６０℃で６０分反応させた。この時点での重合転化率は９９．５％であった（重合転化率は、ガスクロマトグラフィーにより測定した。以下にて同じ。）。

【0095】

次に、脱水イソプレン５０．０部を加え、同温度で３０分攪拌を続けた。この時点での重合転化率は９９％であった。
その後、更に、脱水スチレンを２５．０部加え、同温度で６０分攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
次いで、反応液にイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む溶液（ｉ）を得た。
得られた溶液（ｉ）中のブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は４３，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３であった。

【0096】

次に、溶液（ｉ）を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒としてシリカ−アルミナ担持型ニッケル触媒（Ｅ２２Ｕ、ニッケル担持量６０％；日揮化学工業社製）４．０部及び脱水シクロヘキサン３５０部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１７０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行なうことによりブロック共重合体を水素化して、ブロック共重合体の水素化物（ii）を含む溶液（iii）を得た。溶液（iii）中の水素化物（ii）の重量平均分子量（Ｍｗ）は４５，８００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。

【0097】

水素化反応の終了後、溶液（iii）をろ過して水素化触媒を除去した。その後、ろ過された溶液（iii）に、リン系酸化防止剤である６−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン（住友化学社製「スミライザー（登録商標）ＧＰ」。以下、「酸化防止剤Ａ」という。）０．１部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して溶解させ、溶液（iv）を得た。

【0098】

次いで、溶液（iv）を、ゼータプラス（登録商標）フィルター３０Ｈ（キュノー社製、孔径０．５μｍ〜１μｍ）にて濾過し、更に別の金属ファイバー製フィルター（孔径０．４μｍ、ニチダイ社製）にて順次濾過して微小な固形分を除去した。ろ過された溶液（iv）から、円筒型濃縮乾燥器（製品名「コントロ」、日立製作所社製）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。そして、前記の濃縮乾燥器に直結したダイから、固形分を溶融状態でストランド状に押出し、冷却し、ペレタイザーでカットして、ブロック共重合体の水素化物及び酸化防止剤Ａを含有する、樹脂（Ｃ）のペレット８５部を得た。得られたペレット中のブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は４５，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０８であった。また、水素化率は９９．９％であった。

【0099】

（１−２．樹脂（Ｓ））
樹脂（Ｓ）として、以下の樹脂（Ｓ１）〜（Ｓ３）のペレットを用意した。
・樹脂（Ｓ１）：商品名「ＡＺＰ」（旭化成ケミカルズ株式会社製、ガラス転移温度１３５℃）
・樹脂（Ｓ２）：商品名「デルペット８０ＮＨ」（旭化成ケミカルズ株式会社製、ガラス転移温度１０５℃）
・樹脂（Ｓ３）：商品名「スミペックスＨＴ５５Ｚ」（住友化学株式会社製、ガラス転移温度１０５℃）

【0100】

（１−３．樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）の評価）
（１−１）で得られた樹脂（Ｃ）及び（１−２）で用意した樹脂（Ｓ１）〜（Ｓ３）のそれぞれのペレットを、押出機（ＯＣＳ社製）にて、加熱し溶融させた状態で単層押出成形し、厚み３０μｍのフィルムを形成した。このフィルムについて、衝撃強度及び屈曲性を測定した。結果を表１に示す。

【0101】

また、（１−１）で得られた樹脂（Ｃ）及び（１−２）で用意した樹脂（Ｓ１）〜（Ｓ３）のそれぞれのペレットを、押出機（ＯＣＳ社製）にて、加熱し溶融させた状態で単層押出成形し、厚み１００μｍのフィルムを形成した。このフィルムについて、押込弾性率を測定した。結果を表１に示す。

【0102】

【表1】

【0103】

（１−４．光学フィルムの製造）
実施例（１−１）で得た樹脂（Ｃ）のペレット、及び実施例（１−２）で用意した樹脂（Ｓ）（樹脂（Ｓ１）〜（Ｓ３）のいずれか）のペレットを、押出機（Ｄｒ．Ｃｏｌｌｉｎ製）にて、加熱し溶融させた状態で共押出成形し、樹脂（Ｃ）からなるコア層及び樹脂（Ｓ）からなるスキン層（１）及びスキン層（２）を備え、スキン層（１）／コア層／スキン層（２）の２種３層の層構成を有する光学フィルム（実施例及び比較例）並びに樹脂（Ｃ）からなるコア層のみからなるフィルム（参考例）を得た。光学フィルムの総厚みは、参考例１、実施例１〜６及び比較例１〜１２はいずれも３０μｍ、参考例２、実施例７〜１２及び比較例１３〜２４はいずれも４５μｍ、参考例３、実施例１３〜１８及び比較例２５〜３６はいずれも６０μｍとした。実施例及び比較例のｔ_Ｓ１／ｔ_Ｓ２はいずれも１．００とした。各層の厚みは、下記表２〜表４に示す通りとした。

【0104】

（１−５．光学フィルムの評価）
（１−３）で得た光学フィルムについて、衝撃強度、屈曲性、表面硬度、水蒸気透過率及び軟化温度を評価した。結果を表５〜表７に示す。

【0105】

【表2】

【0106】

【表3】

【0107】

【表4】

【0108】

【表5】

【0109】

【表6】

【0110】

【表7】

【0111】

上記結果から明らかな通り、本発明の要件を満たす実施例においては、偏光板保護フィルムに求められる諸条件をいずれも満たす光学フィルムが得られた。

【符号の説明】

【0112】

１００：光学フィルム
１００Ｕ：フィルムの上面
１１１：コア層
１２１：スキン層（１）
１２２：スキン層（２）
２０１：上側の筒
２０２：下側の筒
２０Ｐ：治具内の中央の位置
２１１：鋼球

【図1】

【図2】

【図3】