特許6724852エピタキシャルシリコンウェーハのエピタキシャル層厚の測定方法、及びエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法

発明の名称　エピタキシャルシリコンウェーハのエピタキシャル層厚の測定方法、及びエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法

出願人　株式会社ＳＵＭＣＯ　（識別番号 302006854）

　　　　特許公開件数ランキング 660 位（37件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 364 位（72件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6724852

公報発行日　2020年7月15

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6724852

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6724852「エピタキシャルシリコンウェーハのエピタキシャル層厚の測定方法、及びエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録