特許 6756541 基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6756541

(24)【登録日】2020年8月31日

(45)【発行日】2020年9月16日

(54)【発明の名称】基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/40 20060101AFI20200907BHJP

   G03F 7/023 20060101ALI20200907BHJP

   G03F 7/09 20060101ALI20200907BHJP

   G02B 5/20 20060101ALN20200907BHJP

   G03F 7/039 20060101ALN20200907BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/40 521

   G03F7/023 511

   G03F7/09 501

   !G02B5/20 101

   !G03F7/039 601

【請求項の数】4

【全頁数】50

(21)【出願番号】特願2016-155877(P2016-155877)

(22)【出願日】2016年8月8日

(65)【公開番号】特開2018-25614(P2018-25614A)

(43)【公開日】2018年2月15日

【審査請求日】2019年5月13日

(73)【特許権者】

【識別番号】000220239

【氏名又は名称】東京応化工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100106002

【弁理士】

【氏名又は名称】正林 真之

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 茂

(72)【発明者】

【氏名】高橋 和樹

【審査官】 高橋 純平

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１６−０７１２４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−０２９４４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０７３４３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１５−５１８９７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６１−０９９３５１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１２／０４２８１９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２００７／０３４６１０（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｆ ７／００−７／４２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

カラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、前記パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層とを、一方の主面上に備える基板の製造方法であって、
前記カラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成された被エッチング金属層とを備える被加工基板において、ポジ型感光性樹脂組成物を前記被エッチング金属層上に塗布して感光層を形成する、感光層形成工程と、
前記感光層中の、前記パターン化された金属層が形成される位置以外の位置を露光する、露光工程と、
露光された前記感光層を現像して前記被覆樹脂層を形成する、現像工程と、
前記被覆樹脂層をエッチングマスクとして用い、前記エッチングマスクから露出する前記被エッチング金属層をエッチングにより除去して前記パターン化された金属層を形成する、エッチング工程と、
前記被覆樹脂層をベークする、ポストベーク工程と、を含み、
前記ポジ型感光性樹脂組成物に含まれる基材樹脂成分（Ａ）の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が５超２０以下であり、
製造された前記基板における、前記被覆樹脂層の光学濃度が０．１０／μｍ以上である、方法。

【請求項2】

前記ポジ型感光性樹脂組成物が、基材樹脂成分（Ａ）としてノボラック樹脂（Ａ１）と、さらに、キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）とを含む、請求項１に記載の製造方法。

【請求項3】

前記ポジ型感光性樹脂組成物が、基材樹脂成分（Ａ）として酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）と、さらに、活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物（Ｂ２）とを含む、請求項１に記載の製造方法。

【請求項4】

前記被加工基板が液晶セルを含み、前記ポストベーク工程におけるベーク温度が８０℃以上１５０℃以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層とを、一方の主面上に備える基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

スマートフォンやタブレット型情報通信端末の急速な普及にともない、タッチパネル市場が急速に成長している。
かかるタッチパネルでは、表示面内に金属からなる電極や配線が形成される場合がある。例えば、このような電極としては、ＣｕやＡｇを用いた金属メッシュ電極が挙げられる。しかし、表示面内に金属からなる電極や配線が形成される場合、タッチパネルの使用者に金属電極や金属配線が視認されやすくなる問題があり、仮に、この金属電極や金属配線の線幅を人間の目で視認できない程度に細くしても、金属の反射率の高さに起因する外光反射が起こるという問題が生じうる。

【0003】

かかる問題を解消するために、金属電極や金属配線等の金属薄膜上に、反射率の低い反射率制御手段を設ける方法が提案されている。
具体的には、透明な支持体上の金属層上に、感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂層を設けた後、パターン化された樹脂層の開口部から露出する金属層をエッチングにより除去し、次いで、樹脂層をベークすることによってエッチングされた金属層の表面を均一に被覆する反射率制御手段（ベークされた樹脂層）を設ける方法が知られている（特許文献１を参照。）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１６−０７１２４２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

タッチパネルの製造方法の選択肢や、タッチパネルの構造の選択肢を広げる観点からは、透明な支持体上のみならず、カラーフィルタを備える基板上において、金属層（金属配線）上に被覆樹脂層（反射率制御手段）を形成できる方法が求められる。
ここで、カラーフィルタを備える基板上において、そのまま金属層（金属配線）を配置できる場合は、金属層（金属配線）の存在する領域を制御管理しやすくなり、ひいては、ピクセルの開口率の低下を招きにくくなることが期待される。
この点について本発明者らが検討した結果、カラーフィルタを備える基板に対して適切な感光性樹脂組成物を用いなければ、金属層（金属配線）上に形成される被覆樹脂層（反射率制御手段）について、金属配線の被覆が不十分な箇所が生じたり、ベーク時の被覆樹脂層の過度なフローによってピクセル部が被覆されたりする場合があることがわかった。

【0006】

すなわち、特許文献１に記載されるように透明な支持体上での加工であれば、均一な温度でベークを行って反射率制御手段を形成できる。対して、カラーフィルタ上で加工を行う場合には、ブラックマトリックスやＲＧＢ等の着色膜の材質の違いに起因する、吸熱量や反射される熱量の不均一性によって、被覆樹脂層（反射率制御手段）が均一に加熱されない。
このため、カラーフィルタを備える基板上に設けられたパターン化された金属層を被覆樹脂層で被覆する際に、金属層の被覆が不十分な箇所が生じたり、ベーク時の被覆樹脂層の過度なフローによって金属層が形成されていないピクセル部が被覆されたりすると考えられる。

【0007】

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層（反射率制御手段）とを、一方の主面上に備える基板の製造方法であって、カラーフィルタを備える基板上において、パターン化された金属層を被覆樹脂層により均一に被覆しやすく、且つ、金属層が形成されていない箇所が被覆樹脂層で被覆されにくい方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者らは、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層とを、一方の主面上に備える基板を製造する際に、分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下である基材樹脂成分（Ａ）を含むポジ型感光性樹脂組成物を用いで被覆樹脂層を形成することにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0009】

すなわち、本発明は、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層とを、一方の主面上に備える基板の製造方法であって、
カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成された被エッチング金属層とを備える被加工基板において、ポジ型感光性樹脂組成物を被エッチング金属層上に塗布して感光層を形成する、感光層形成工程と、
感光層中の、パターン化された金属層が形成される位置以外の位置を露光する、露光工程と、
露光された感光層を現像して被覆樹脂層を形成する、現像工程と、
被覆樹脂層をエッチングマスクとして用い、エッチングマスクから露出する被エッチング金属層をエッチングにより除去してパターン化された金属層を形成する、エッチング工程と、
被覆樹脂層をベークする、ポストベーク工程と、を含み、
ポジ型感光性樹脂組成物に含まれる基材樹脂成分（Ａ）の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下であり、
製造された基板における、被覆樹脂層の光学濃度が０．１０／μｍ以上である、方法に関する。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層（反射率制御手段）とを、一方の主面上に備える基板の製造方法であって、カラーフィルタを備える基板上において、パターン化された金属層を被覆樹脂層により均一に被覆しやすく、且つ、金属層が形成されていない箇所が被覆樹脂層で被覆されにくい方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】基板の製造方法の概略を模式的に示す図である。

【図2】本実施形態で製造される基板の用途の一例を模式的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明を行う。なお、本明細書中における「〜」は、とくに断りがなければ以上（下限値）から以下（上限値）を表す。

【0013】

本発明は、カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成されたパターン化された金属層と、パターン化された金属層を被覆する被覆樹脂層とを、一方の主面上に備える基板の製造方法に関する。
被覆樹脂層は、そのポストベーク工程を経た後の光学濃度が０．１０／μｍ以上であるように形成される。このため、本発明にかかる方法に従って製造された基板を備えるタッチパネルでは、タッチパネルの使用時に、金属配線がタッチパネルの使用者に視認されにくい。

【0014】

本実施形態の基板の製造方法は、具体的には、
カラーフィルタと、カラーフィルタ上に、直接又は透明層を介して形成された被エッチング金属層とを備える被加工基板において、ポジ型感光性樹脂組成物を被エッチング金属層上に塗布して感光層を形成する、感光層形成工程と、
感光層中の、パターン化された金属層が形成される位置以外の位置を露光する、露光工程と、
露光された感光層を現像して被覆樹脂層を形成する、現像工程と、
被覆樹脂層をエッチングマスクとして用い、エッチングマスクから露出する被エッチング金属層をエッチングにより除去してパターン化された金属層を形成する、エッチング工程と、
被覆樹脂層をベークする、ポストベーク工程と、を含む。

【0015】

そして、感光層形成工程で用いられるポジ型感光性樹脂組成物は、分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下である基材樹脂組成分（Ａ）を含む。
このため、基板を製造する際に、パターン化された金属層を被覆樹脂層により均一に被覆しやすく、且つ、金属層が形成されていない箇所が被覆樹脂層で被覆されにくくなる。

【0016】

以下、基板の製造方法に含まれる各工程について、図１を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において、ポジ型感光性樹脂組成物を「ポジ型組成物」とも記す。

【0017】

≪感光層形成工程≫
感光層形成工程では、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示されるように、被エッチング金属層１１を備える被加工基板１０において、被エッチング金属層１１上にポジ型組成物を塗布して感光層１２が形成される。
以下、被加工基板と、ポジ型組成物と、塗布方法とについて説明する。

【0018】

＜被加工基板＞
被加工基板１０としては、カラーフィルタ１３と、カラーフィルタ１３上に、直接又は透明層１４を介して形成された被エッチング金属層１１とを備える基板が用いられる。
なお、図１（ａ）〜図１（ｅ）には、透明層１４を備える被加工基板１０を用いる態様について示す。被エッチング金属層１１、カラーフィルタ１３、及び透明層１４以外の被加工基板１０の構成については図示を割愛する。

【0019】

被加工基板１０中のカラーフィルタ１３の材質や製造方法等は特に限定されず、従来より知られる種々の材質及び種々の製造方法から適宜選択される。カラーフィルタ１３は、通常、ブラックマトリックス（図１中不図示）により区画された領域内に、ＲＧＢ等の透光性の着色膜（図１中不図示）を備える。

【0020】

なお、被加工基板１０は、カラーフィルタ１３と、カラーフィルタ１３上に、直接又は透明層１４を介して形成された被エッチング金属層１１とを備える基板であれば、特に制限なく使用することができる。

【0021】

図２に、本実施形態で製造される基板の用途の一例の断面図を示す。
図２に示される基板１は被加工基板１０を加工して得られるものであり、アレイ基板２３、絶縁層２２、液晶層２０、透明樹脂層１９、カラーフィルタ１３、透明層１４、パターン化された金属層１８、被覆樹脂層１７がこの順で積層されている。かかる基板は、オンセルタッチパネルに好適に使用される。
カラーフィルタ１３は、ブラックマトリックスＢＭと、赤色着色膜Ｒ、緑色着色膜Ｇ、及び青色着色膜Ｂとを備える。
また、絶縁層２２上面には、カラーフィルタ１３の赤色着色膜Ｒ、緑色着色膜Ｇ、及び青色着色膜Ｂの位置に対応する位置に画素電極２１が形成されている。
また、ブラックマトリックスＢＭと、被覆樹脂層１７と、パターン化された金属層１８とは基板の平面視において、これらが重なるように構成されている。
かかる基板１を、バックライト等の一般的に液晶表示装置に備えられる部材と組み合わせ、適宜配線することにより、液晶表示装置が製造される。

【0022】

なお、図２に示される基板１は、液晶注入後の液晶セルであって、その構造中に液晶層２０を含む。この場合、用いられる液晶化合物の耐熱性の問題から、後述するポストベーク工程において、被覆樹脂層１７を備える被加工基板１０を高温でベークできないという問題が生じうる。
このような点を考慮し、本実施形態においては、後述するポストベーク工程におけるベーク温度を８０℃以上１５０℃以下のような低い温度で行うことが好ましい。このような温度条件においても、被覆樹脂層１７を良好に形成することが可能である。

【0023】

＜ポジ型組成物＞
ポジ型組成物は、分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下である基材樹脂成分（Ａ）を含む。
基材樹脂成分（Ａ）は、ポジ型組成物に製膜性等の特性を付与する成分であって、そのまま又は化学的な変化を受けた状態で、ポジ型組成物を用いて形成される膜のマトリックス材として機能する。

【0024】

ポジ型組成物に含まれる基材樹脂成分（Ａ）の分散度が１以上２０以下であることによって、カラーフィルタ１３を備える被加工基板１０上に形成されるパターン化された金属層１８を、被覆樹脂層１７によって均一に被覆でき、且つ金属層１８が形成されていない箇所を被覆樹脂層１７で被覆されにくくすることができる。
基材樹脂成分（Ａ）の分散度は、本発明による効果を特に得やすいことから、２〜１７が好ましく、３〜１５がより好ましく、４〜１２が特に好ましい。
また、より良好なフロー性の点から、基材樹脂成分（Ａ）の分散度が５超２０以下であるのも好ましい。
なお、本明細書において、重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィ）測定における、ポリスチレン換算の相対値として定義することができる。
また、基材樹脂成分（Ａ）を構成する樹脂が複数種存在する場合（例えば、ノボラック樹脂（Ａ１）とアルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）を併用する場合等）は、これら複数種の樹脂を組み合わせた状態で、ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィ）測定を行い、得られたチャートから分散度を決定すればよい。

【0025】

感光層１２の形成に用いられるポジ型組成物の好適な例としては、基材樹脂成分（Ａ）としてノボラック樹脂（Ａ１）と、さらに、キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）とを含むポジ型組成物、及び基材樹脂成分（Ａ）として酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）と、さらに、活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物（Ｂ２）とを含むポジ型組成物とが挙げられる。

【0026】

以下、ノボラック樹脂（Ａ１）と、キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）とを含むポジ型組成物を第１のポジ型組成物とも記し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）と、活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物（Ｂ２）とを含むポジ型組成物を第２のポジ型組成物とも記す。
以下、第１のポジ型組成物と、第２のポジ型組成物とについて説明する。

【0027】

〔第１のポジ型組成物〕
前述の通り、第１のポジ型組成物は、ノボラック樹脂（Ａ１）と、キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）とを含む。以下、第１のポジ型組成物の必須又は任意の成分について説明する。

【0028】

（ノボラック樹脂（Ａ１））
ノボラック樹脂（Ａ１）としては、従来からポジ型感光性樹脂組成物に配合されている種々のノボラック樹脂を用いることができる。ノボラック樹脂（Ａ１）としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られるものが好ましい。

【0029】

・フェノール類
フェノール類としては、例えば、フェノール；ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール類；２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール類；ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール等のエチルフェノール類；２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、並びにｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５−トリメチルフェノール、及び３，４，５−トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、及びフロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、及びアルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（いずれのアルキル基も炭素数１以上４以下である。）；α−ナフトール；β−ナフトール；ヒドロキシジフェニル；並びにビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0030】

これらのフェノール類の中でも、ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾールが好ましく、ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、ポジ型組成物としての感度や、形成される被覆樹脂層１７の耐熱性等の諸特性を調節することができる。ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールの配合割合は特に限定されるものではないが、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールの質量比で、３／７以上８／２以下が好ましい。ｍ−クレゾールの割合が３／７以上であると、ポジ型組成物としての感度を向上させることができ、８／２以下であると、被覆樹脂層１７の耐熱性を向上させることができる。

【0031】

・アルデヒド類
アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、及びアセトアルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒド類は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0032】

・酸触媒
酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、及び亜リン酸等の無機酸類；蟻酸、シュウ酸、酢酸、ジエチル硫酸、及びパラトルエンスルホン酸等の有機酸類；並びに酢酸亜鉛等の金属塩類等が挙げられる。これらの酸触媒は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0033】

・分子量
ノボラック樹脂（Ａ１）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ；以下、単に「重量平均分子量」ともいう。）は、ノボラック樹脂（Ａ１）を含む基材樹脂成分（Ａ）の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下である限りにおいて、特に限定されない。
ノボラック樹脂（Ａ１）の分散度も、先述した基材樹脂成分（Ａ）同様、１以上２０以下が好ましく、２〜１７がより好ましく、３〜１５が特に好ましく、４〜１２がさらに好ましい。
第１のポジ型組成物の現像性、解像性等の観点から、ノボラック樹脂（Ａ１）の重量平均分子量は１０００以上が好ましく、２０００以上がより好ましく、３０００以上がさらに好ましく、また、５００００以下が好ましく、４００００以下がより好ましく、３００００以下がさらに好ましく、２００００以下がさらにより好ましい。

【0034】

ノボラック樹脂（Ａ１）としては、ポリスチレン換算の重量平均分子量が異なるものを少なくとも２種組み合わせて用いることができる。重量平均分子量が異なるものを大小組み合わせて用いることにより、ポジ型組成物に現像性、解像性、成膜性等の多面的な優れた特性を付与することができる。
ノボラック樹脂（Ａ１）として、重量平均分子量が異なる樹脂の組み合わせとしては、特に限定されないが、重量平均分子量が１０００〜１００００である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が５０００〜５００００である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせが好ましく、重量平均分子量が２０００〜８０００である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が８０００〜４００００である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせがより好ましく、重量平均分子量が３０００〜７０００である低重量平均分子量側の樹脂と、重量平均分子量が１００００〜２００００である高重量平均分子量側の樹脂との組み合わせがさらに好ましい。

【0035】

ノボラック樹脂（Ａ１）として、重量平均分子量が異なる樹脂を組み合わせて用いる場合、それぞれの含有率は特に限定されないが、ノボラック樹脂（Ａ１）の全量における低重量平均分子量側の樹脂の含有率は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、一方で、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

【0036】

第１のポジ型組成物固形分全体におけるノボラック樹脂（Ａ１）の含有率は、４０質量％以上が好ましく、４５質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。上記範囲内とすることにより、第１のポジ型組成物に含まれる他の成分を適度にバインドしながら、金属成分に対する親液性を発揮でき、結果、パターン化された金属層１８との密着性にも優れた被覆樹脂層１７を形成することができる。

【0037】

第１のポジ型組成物は、ノボラック樹脂（Ａ１）以外のその他の樹脂を基材樹脂成分（Ａ）として含んでいてもよい。その他の樹脂の種類は、ポジ型組成物の感度や解像性等のフォトリソグラフィー特性を過度に損なわない限りにおいて特に限定されない。
その他の樹脂の好適な例としては、アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）が挙げられる。かかるアルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）は、被覆樹脂層１７において可塑剤として作用し、被覆樹脂層１７におけるクラックの発生を抑制する。
アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）としては、基材樹脂成分（Ａ）の分散度が所定の範囲内である限りにおいて、一般に、可塑剤としてポジ型組成物に配合されているものを使用することができる。

【0038】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）としては、より具体的には、エーテル結合を有する重合性化合物に基づく構成単位を３０モル％以上９０モル％以下と、カルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位を２モル％以上５０モル％以下と、を含有する樹脂が挙げられる。

【0039】

エーテル結合を有する重合性化合物としては、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、及びテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等のエーテル結合とエステル結合とを有する（メタ）アクリル酸誘導体等のラジカル重合性化合物が挙げられる。これらの中でも、２−メトキシエチルアクリレート及びメトキシトリエチレングリコールアクリレートを用いることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよく、二種以上混合して用いてもよい。

【0040】

カルボキシ基を有する重合性化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、及びクロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、及びイタコン酸等のジカルボン酸；並びに２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、及び２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基とエステル結合とを有するメタクリル酸誘導体等のラジカル重合性化合物が挙げられる。これらの中でも、アクリル酸、及びメタクリル酸を用いることが好ましい。これらの化合物は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

【0041】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）中におけるエーテル結合を有する重合性化合物に由来する単位の含有量は、３０〜９０モル％が好ましく、４０〜８０モル％がより好ましい。かかる範囲内の量のエーテル結合を有する重合性化合物に由来する単位を含むアルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）を可塑剤として第１のポジ型組成物に配合することにより、被覆樹脂層１７におけるクラックの発生を抑制しつつ均質な被覆樹脂層１７を形成しやすい。

【0042】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）成分中におけるカルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位の含有量は、２〜５０モル％が好ましく、５〜４０モル％がより好ましい。かかる範囲内の量のカルボキシ基を有する重合性化合物に基づく構成単位を含むアルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）を可塑剤として第１のポジ型組成物に配合することにより、第１のポジ型組成物の現像性を良好にすることができる。

【0043】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、基材樹脂成分（Ａ）の分散度が１以上２０以下である限りにおいて、特に限定されない。アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、１００００〜８０００００が好ましく、３００００〜５０００００がより好ましい。

【0044】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）中には、物理的・化学的特性を適度にコントロールする目的で、他のラジカル重合性化合物に基づく構成単位を含んでいてもよい。ここで、「他のラジカル重合性化合物」とは、前出の重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の意味である。

【0045】

このような他のラジカル重合性化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、及びブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、及び２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、及びベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチル、及びフマル酸ジブチル等のジカルボン酸ジエステル類；スチレン、及びα−メチルスチレン等のビニル基含有芳香族化合物；酢酸ビニル等のビニル基含有脂肪族化合物；ブタジエン及びイソプレン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物；塩化ビニル及び塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物；並びにアクリルアミド及びメタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物等を用いることができる。これらの化合物は単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。これらの化合物の中でも、特に、ｎ−ブチルアクリレート、ベンジルメタクリレート、及びメチルメタクリレート等を用いることが好ましい。アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）中の他のラジカル重合性化合物に基づく構成単位の含有量は５０質量％未満が好ましく、４０質量％未満がより好ましい。

【0046】

アルカリ可溶性アクリル樹脂成分を合成する際に用いられる重合溶媒としては、例えばエタノール及びジエチレングリコール等のアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類；エチレングリコールエチルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；アセトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類；並びに酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類等を用いることができる。これらの重合性溶媒の中でも、特に、多価アルコールのアルキルエーテル類及び多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類を用いることが好ましい。

【0047】

アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）を合成する際に用いられる重合触媒としては、通常のラジカル重合開始剤が使用でき、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物；並びにベンゾイルパーオキシド、及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド等の有機過酸化物等を使用することができる。

【0048】

第１のポジ型組成物について、アルカリ可溶性アクリル樹脂（Ａ１−１）を含ませる場合の配合量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対し、３０質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。

【0049】

（キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１））
第１のポジ型組成物は、キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）を含有する。キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）としては、従来から種々のポジ型組成物に配合されているキノンジアジド基を有する化合物から、適宜選択することができる。
キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）の好適な具体例としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−２’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，５’，６−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，及び４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類；ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−｛１−［４−〔２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール、及び３，３’−ジメチル−｛１−［４−〔２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール等のビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン類；トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、及びビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン等のトリス（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体；ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、及びビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン等のビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体；フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸、アニリン、ｐ−アミノジフェニルアミン、及び４，４’−ジアミノベンゾフェノン等の水酸基又はアミノ基を有する化合物；並びにノボラック、ピロガロール−アセトン樹脂、及びｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマー又はこれと共重合し得るモノマーとの共重合体等と、キノンジアジド基含有スルホン酸との完全エステル化合物、部分エステル化合物、アミド化物、又は部分アミド化物等が挙げられる。これらのキノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0050】

キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）として使用される上記キノンジアジド基含有スルホン酸としては、特に限定されないが、例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸等のナフトキノンジアジドスルホン酸；オルトアントラキノンジアジドスルホン酸等が挙げられ、ナフトキノンジアジドスルホン酸が好ましい。キノンジアジド基含有スルホン酸、好ましくはナフトキノンジアジドスルホン酸の上記エステル化合物は、ポジ型組成物を溶液として使用する際に通常用いられる溶剤によく溶解し、且つノボラック樹脂（Ａ１）との相溶性が良好である。これらの化合物をキノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）として、第１のポジ型組成物に配合すると、高感度の第１のポジ型組成物を得やすい。

【0051】

キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）としての上記エステル化合物の製造方法としては、特に限定されず、例えば、キノンジアジド基含有スルホン酸を、例えば、ナフトキノン−１，２−ジアジド−スルホニルクロリド等のスルホニルクロリドとして添加し、ジオキサンのような溶媒中において、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリ等のアルカリの存在下で縮合させ、完全エステル化又は部分エステル化する方法等が挙げられる。

【0052】

キノンジアジド基含有化合物（Ｂ１）の含有量は、第１のポジ型組成物の感度の点から、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましく、１００質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、３０質量部以下がさらに好ましい。

【0053】

（架橋剤）
第１のポジ型組成物は、架橋剤を含有していてもよい。架橋剤は、ノボラック樹脂（Ａ１）を架橋させることができる化合物の中から適宜選択することができるが、例えば、メラミン化合物；ヘキサメチレンテトラミン、尿素誘導体等のアミン系架橋剤；エポキシ化合物を用いることができる。第１のポジ型組成物が、このような架橋剤を含有することにより、耐水性、耐熱性、及び耐溶剤性に優れる被覆樹脂層１７を形成することができる。

【0054】

メラミン化合物としては、メラミンから誘導され得る化学構造を有する化合物であって、ノボラック樹脂（Ａ１）に対して架橋剤として作用する化合物を用いることができ、例えば、下記式（Ｉ）で表される化合物を用いることができる。

【0055】

【化1】

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子又は−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基を示し、Ｒ^７は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^６の少なくとも１つは−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基である。）

【0056】

上記式（Ｉ）において、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^７で表される基は、Ｒ^１〜Ｒ^６のうち、２個以上存在していることが好ましい。
Ｒ^７で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

【0057】

上記式（Ｉ）で表されるメラミン化合物としては、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチロールメラミン及び部分メチロール化メラミン並びにこれらのアルキル化体；テトラメチロールベンゾグアナミン及び部分メチロール化ベンゾグアナミン並びにこれらのアルキル化；等が挙げられる。

【0058】

エポキシ化合物としては、エポキシ基を有する化合物であって、ノボラック樹脂（Ａ１）に対して架橋剤として作用する化合物を用いることができる。エポキシ化合物としては、１分子中に２以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が好ましい。尚、本明細書において、後述のシランカップリング剤のうち、その構造内にエポキシ基を有するものは、架橋剤として使用されるエポキシ化合物にはあたらないものとする。

【0059】

エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、多官能脂環式エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル等が好ましい。

【0060】

上記架橋剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
架橋剤の含有量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、３質量部以上とすることができ、１０質量部以上とすることができ、１５質量部以上とすることができる。また、架橋剤の含有量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、４０質量部以下とすることができ、３０質量部以下とすることができ、２５質量部以下とすることができる。架橋剤の含有量が上記下限値以上であると、樹脂の架橋が十分となりやすく、上記上限値以下であると、第１のポジ型組成物の貯蔵安定性が良好となりやすい。

【0061】

（シランカップリング剤）
第１のポジ型組成物は、シランカップリング剤を含有していてもよい。
シランカップリング剤は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基及び／又は反応性基を介して、ノボラック樹脂（Ａ１）が有するフェノール性水酸基と反応し得るので、架橋剤として作用し、第１のポジ型組成物を用いて形成される被覆樹脂層１７を緊密化することができ、被覆樹脂層１７の耐水性、耐溶剤性、耐熱性等を向上し得るほか、被覆樹脂層１７のパターン化された金属層１８との密着性を向上することができる。

【0062】

シランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン等のモノアルキルトリアルコキシシラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルキルジアルコキシシラン；フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のモノフェニルトリアルコキシシラン；ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のジフェニルジアルコキシシラン；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のモノビニルトリアルコキシシラン；３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン；３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有トリアルコキシシラン；３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等の非脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルトリアルコキシシラン；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン等の脂環式エポキシ基含有アルキルモノアルキルジアルコキシシラン；〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン等のオキセタニル基含有アルキルトリアルコキシシラン；３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトアルキルトリアルコキシシラン；３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトアルキルモノアルキルジアルコキシシラン；３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドアルキルトリアルコキシシラン；３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートアルキルトリアルコキシシラン；３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等の酸無水物基含有アルキルトリアルコキシシラン；Ｎ−ｔ−ブチル−３−（３−トリメトキシシリルプロピル）コハク酸イミド等のイミド基含有アルキルトリアルコキシシラン；等が挙げられる。シランカップリング剤は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0063】

シランカップリング剤の中では、反応性基を有するシランカップリング剤が好ましい。
反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、エポキシ基又はオキセタニル基を有するシランカップリング剤が好ましい。現像液との相溶性が高く、残渣（溶け残り）を低減でき、特に金属との密着性に優れる被覆樹脂層１７を形成できる観点から、エポキシ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。

【0064】

エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、非脂環式エポキシ基を有するシランカップリング剤及び脂環式エポキシ基を有するシランカップリング剤のいずれも好ましく用いることができる。

【0065】

シランカップリング剤の含有量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、０．１質量部以上とすることができ、０．５質量部以上とすることができ、１質量部以上とすることができる。また、シランカップリング剤の含有量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、１０質量部以下とすることができ、７質量部以下とすることができ、５質量部以下とすることができ、３質量部以下とすることができる。
シランカップリング剤の含有量が上記下限値以上であると、パターン化された金属層１８との密着性に優れる被覆樹脂層１７を形成しやすい。
シランカップリング剤の含有量が上記上限値以下であると、保管中のシランカップリング剤同士の縮合反応による、現像時の残渣の発生を抑制しやすい。

【0066】

（着色剤）
本実施形態の方法により形成される被覆樹脂層１７の光学濃度は０．１０／μｍ以上である。このような光学濃度を達成する観点から、第１のポジ型組成物は、典型的には、光学濃度を調整する目的で着色剤を含む。
着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）において、ピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを用いるのが好ましい。

【0067】

好適に使用できる黄色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３，７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、及び１８５が挙げられる。

【0068】

好適に使用できる橙色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、及び７３が挙げられる。

【0069】

好適に使用できる紫色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、及び５０が挙げられる。

【0070】

好適に使用できる赤色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、及び２６５が挙げられる。

【0071】

好適に使用できる青色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、及び６６が挙げられる。

【0072】

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８等の茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の黒色顔料が挙げられる。

【0073】

また、第１のポジ型組成物は、着色剤として遮光剤を含んでいてもよい。着色剤が遮光剤である場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。

【0074】

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができる。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。

【0075】

カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。

【0076】

以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される１種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。

【0077】

カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
１）濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
２）アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
３）ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
４）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
５）ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。

【0078】

これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法２）が好ましい。方法２）で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、４−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。

【0079】

カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック１００ｇに対して、１〜２００ｍｍｏｌが好ましく、５〜１００ｍｍｏｌがより好ましい。

【0080】

酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物を用いる場合、遮光性に優れ、表面反射率が低い遮光性の被覆樹脂層１７を形成しやすい。
カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、１〜３０質量％が好ましい。

【0081】

また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式（ｅ−１）で表されるペリレン系顔料、下記式（ｅ−２）で表されるペリレン系顔料、及び下記式（ｅ−３）で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、ＢＡＳＦ社製の製品名Ｋ００８４、及びＫ００８６や、ピグメントブラック２１、３０、３１、３２、３３、及び３４等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。

【0082】

【化2】

式（ｅ−１）中、Ｒ^ｅ１及びＲ^ｅ２は、それぞれ独立に炭素原子数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒ^ｅ３及びＲ^ｅ４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、メトキシ基、又はアセチル基を表す。

【0083】

【化3】

式（ｅ−２）中、Ｒ^ｅ５及びＲ^ｅ６は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜７のアルキレン基を表す。

【0084】

【化4】

式（ｅ−３）中、Ｒ^ｅ７及びＲ^ｅ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２２のアルキル基であり、Ｎ，Ｏ、Ｓ、又はＰのヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒ^ｅ７及びＲ^ｅ８がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。

【0085】

上記の式（ｅ−１）で表される化合物、式（ｅ−２）で表される化合物、及び式（ｅ−３）で表される化合物は、例えば、特開昭６２−１７５３号公報、特公昭６３−２６７８４号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−３，５，９，１０−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。

【0086】

第１のポジ型組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は１０〜１０００ｎｍであるのが好ましい。

【0087】

また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式（ｅ−４）で表される化合物が挙げられる。

【0088】

【化5】

【0089】

式（ｅ−４）中、Ｘ^ｅは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にＥ体又はＺ体であり、Ｒ^ｅ９は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Ｒ^ｅ１０は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Ｒ^ｅ１１は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式（ｅ−４）で表される化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
Ｒ^ｅ９は、式（ｅ−４）で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の６位に結合するのが好ましく、Ｒ^ｅ１１はジヒドロインドロン環の４位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Ｒ^ｅ９、Ｒ^ｅ１０、及びＲ^ｅ１１は、好ましくは水素原子である。
式（ｅ−４）で表される化合物は、幾何異性体としてＥＥ体、ＺＺ体、ＥＺ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式（ｅ−４）で表される化合物は、例えば、国際公開第２０００／２４７３６号，国際公開第２０１０／０８１６２４号に記載された方法により製造することができる。

【0090】

第１のポジ型組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は１０〜１０００ｎｍであるのが好ましい。

【0091】

さらに、銀錫（ＡｇＳｎ）合金を主成分とする微粒子（以下、「ＡｇＳｎ合金微粒子」という。）も遮光剤として好ましく用いられる。このＡｇＳｎ合金微粒子は、ＡｇＳｎ合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ａｕ等が含まれていてもよい。
このＡｇＳｎ合金微粒子の平均粒子径は、１〜３００ｎｍが好ましい。

【0092】

ＡｇＳｎ合金は、化学式ＡｇｘＳｎにて表した場合、化学的に安定したＡｇＳｎ合金が得られるｘの範囲は１≦ｘ≦１０であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるｘの範囲は３≦ｘ≦４である。
ここで、上記ｘの範囲でＡｇＳｎ合金中のＡｇの質量比を求めると、
ｘ＝１の場合、 Ａｇ／ＡｇＳｎ＝０．４７６２
ｘ＝３の場合、 ３・Ａｇ／Ａｇ３Ｓｎ＝０．７３１７
ｘ＝４の場合、 ４・Ａｇ／Ａｇ４Ｓｎ＝０．７８４３
ｘ＝１０の場合、１０・Ａｇ／Ａｇ１０Ｓｎ＝０．９００８
となる。
従って、このＡｇＳｎ合金は、Ａｇを４７．６〜９０質量％含有した場合に化学的に安定なものとなり、Ａｇを７３．１７〜７８．４３重量％含有した場合にＡｇ量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。

【0093】

このＡｇＳｎ合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。

【0094】

ＡｇＳｎ合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化イットリウム（イットリア）、酸化チタン（チタニア）等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。

【0095】

絶縁膜の膜厚は、ＡｇＳｎ合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには１〜１００ｎｍの厚みが好ましく、より好ましくは５〜５０ｎｍである。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。

【0096】

遮光剤としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。

【0097】

上記の着色剤を第１のポジ型組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
なお、分散剤の種類や表示装置の製造条件、使用条件によっては、分散剤に起因する揮発成分が表示装置に悪影響を及ぼす可能性があるため、着色剤が、分散剤を用いることなく分散処理されるのも好ましい。

【0098】

また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は２種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０〜８０質量部の範囲で用いることが好ましく、２０〜４０質量部の範囲で用いることがより好ましい。

【0099】

なお、第１のポジ型組成物において、着色剤として顔料以外にも染料を用いることができる。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
第１のポジ型組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化（造塩化）することで有機溶媒等に分散させ、これを着色剤として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開２０１３−２２５１３２号公報、特開２０１４−１７８４７７号公報、特開２０１３−１３７５４３号公報、特開２０１１−３８０８５号公報、特開２０１４−１９７２０６号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。
これら染料もまた、前述の顔料（例えば、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、ＡｇＳｎ合金微粒子等）と組み合わせて使用することもできる。

【0100】

第１のポジ型組成物における着色剤の使用量は、ポストベーク工程を経た後の被覆樹脂層１７の光学濃度が０．１０／μｍ以上である量であれば特に限定されない。
この第１のポジ型組成物における着色剤の使用量は、例えば、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましく、また、６０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、４５質量部以下がさらに好ましく、４０質量部以下がさらにより好ましい。
また、被覆樹脂層１７の光学濃度は０．２０〜２．０／μｍであることがより好ましく、０．３０〜１．０／μｍであることがさらに好ましい。

【0101】

着色剤は分散剤の存在下又は不存在下に適当な濃度で分散させた分散液とした後、第１のポジ型組成物に添加することが好ましい。

【0102】

（その他の成分）
第１のポジ型組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、増感剤、密着性向上剤、界面活性剤、可塑剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。

【0103】

・増感剤
増感剤としては、特に限定されず、ポジ型組成物において通常用いられる増感剤の中から任意に選択することができる。増感剤としては、例えば、分子量１０００以下のフェノール性水酸基を有する化合物等が挙げられる。

【0104】

・密着性向上剤
密着性向上剤としては、被覆樹脂層１７と、パターン化された金属層１８との密着性を向上させることのできる材料の中から適宜選択できる。例えば、２−ヒドロキシエチルピリジン等のヒドロキシアルキル含窒素複素環化合物を、この密着性向上剤として用いることができる。

【0105】

・界面活性剤
第１のポジ型組成物は、塗布性、消泡性、及びレベリング性等を向上させるため、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（ＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３（大日本インキ化学工業社製）、フロラードＦＣ−１３５、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、フロラードＦＣ−４３０、フロラードＦＣ−４３１（住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、サーフロンＳ−１１３、サーフロンＳ−１３１、サーフロンＳ−１４１、サーフロンＳ−１４５（旭硝子社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（東レシリコーン社製）、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３３０（ビックケミージャパン社製）等の名称で市販されているシリコン系又はフッ素系界面活性剤を使用することができる。

【0106】

界面活性剤の含有量は、ノボラック樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、０．０５質量部以上５質量部以下が好ましい。

【0107】

＜溶剤＞
第１のポジ型感光性樹脂組成物は、上記の各成分を適当な溶剤に溶解して、溶液の形で用いることが好ましい。このような溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、及びエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、及びジエチレングリコールジブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、及びエチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びメチルアミルケトン等のケトン類；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；ジオキサン等の環式エーテル類；並びに２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等のエステル類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

【0108】

第１のポジ型組成物における溶剤の含有量は、第１のポジ型組成物の粘度や塗布性を勘案して適宜調整される。具体的には、溶剤は、第１のポジ型組成物の固形分濃度が、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは１０〜３０質量％であるように使用される。

【0109】

＜第１のポジ型組成物の調製方法＞
第１のポジ型組成物は、上記の各成分を所定の比率で配合した後、通常の方法で混合、撹拌することにより調製することができる。また、必要に応じて、さらにメッシュ、メンブレンフィルタ等を用いて濾過してもよい。

【0110】

〔第２のポジ型組成物〕
第２のポジ型組成物は、前述の通り、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）と、活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物（Ｂ２）とを含む。
以下、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）について「樹脂（Ａ２）」とも記す。また、活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物（Ｂ２）について、「酸発生剤（Ｂ２）」とも記す。
以下、第２のポジ型組成物が含む、必須又は任意の成分について説明する。

【0111】

（樹脂（Ａ２））
第２のポジ型組成物は、基材樹脂成分（Ａ）として酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ａ２）を含む。樹脂（Ａ２）としては、特に限定されず、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する任意の樹脂を用いることができる。
樹脂（Ａ２）の分散度は、先述の基材樹脂成分（Ａ）と同様、１以上２０以下が好ましく、２〜１７がより好ましく、３〜１５が特に好ましく、４〜１２がさらに好ましい。
樹脂（Ａ２）の中でも、酸解離性溶解抑制基を備えるノボラック樹脂（Ａ２−１）（以下、単にノボラック樹脂（Ａ２−１）ともいう。）、酸解離性溶解抑制基を備えるポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−２）（以下、単にポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−２）ともいう。）、及び後述する特定の構造単位を有するアクリル樹脂（Ａ２−３）からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。

【0112】

・ノボラック樹脂（Ａ２−１）
ノボラック樹脂（Ａ２−１）としては、下記式（ａ１）で表される構成単位を含む樹脂を使用することができる。

【0113】

【化6】

【0114】

上記式（ａ１）中、Ｒ^１ａは、酸解離性溶解抑制基を示し、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａは、それぞれ独立に水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す。

【0115】

上記Ｒ^１ａで表される酸解離性溶解抑制基としては、下記式（ａ２）、（ａ３）で表される基、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基、ビニルオキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラフラニル基、又はトリアルキルシリル基であることが好ましい。

【0116】

【化7】

【0117】

上記式（ａ２）、（ａ３）中、Ｒ^４ａ、Ｒ^５ａは、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、Ｒ^６ａは、炭素原子数１〜１０の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を表し、Ｒ^７ａは、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を表し、ｏは０又は１を表す。

【0118】

上記直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。また、上記環状のアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

【0119】

ここで、上記式（ａ２）で表される酸解離性溶解抑制基として、具体的には、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｎ−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、ｎ−ブトキシエチル基、イソブトキシエチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシエチル基、シクロヘキシロキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、１−メトキシ−１−メチル−エチル基、１−エトキシ−１−メチルエチル基等が挙げられる。また、上記式（ａ３）で表される酸解離性溶解抑制基として、具体的には、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル基等が挙げられる。また、上記トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の各アルキル基の炭素原子数が１〜６のものが挙げられる。

【0120】

・ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−２）
ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−２）としては、下記式（ａ４）で表される構成単位を含む樹脂を使用することができる。

【0121】

【化8】

【0122】

上記式（ａ４）中、Ｒ^８ａは、水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ^９ａは、酸解離性溶解抑制基を表す。

【0123】

上記炭素原子数１〜６のアルキル基は、例えば炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基である。直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられ、環状のアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

【0124】

上記Ｒ^９ａで表される酸解離性溶解抑制基としては、上記式（ａ２）、（ａ３）に例示したものと同様の酸解離性溶解抑制基を用いることができる。

【0125】

さらに、ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−２）は、物理的、化学的特性を適度にコントロールする目的で他の重合性化合物を構成単位として含むことができる。このような重合性化合物としては、公知のラジカル重合性化合物や、アニオン重合性化合物が挙げられる。また、このような重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸類；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のジカルボン酸類；２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基及びエステル結合を有するメタクリル酸誘導体類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジブチル等のジカルボン酸ジエステル類；スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ヒドロキシスチレン、α−メチルヒドロキシスチレン、α−エチルヒドロキシスチレン等のビニル基含有芳香族化合物類；酢酸ビニル等のビニル基含有脂肪族化合物類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物類；等を挙げることができる。

【0126】

・アクリル樹脂（Ａ２−３）
アクリル樹脂（Ａ２−３）としては、下記式（ａ５）、（ａ６−１）、（ａ６−２）、及び（ａ７）で表される構成単位を適宜組合せながら含む樹脂を使用することができる。

【0127】

【化9】

【0128】

上記式（ａ５）、（ａ６−１）、（ａ６−２）、及び（ａ７）中、Ｒ^１０ａ、及びＲ^１４ａ〜Ｒ^１９ａは、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、フッ素原子、又は炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基を表し、Ｒ^１１ａ〜Ｒ^１３ａは、それぞれ独立に炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基、又は炭素原子数５〜２０の脂肪族環式基を表し、Ｒ^１２ａ及びＲ^１３ａは互いに結合して、両者が結合している炭素原子とともに炭素原子数５〜２０の炭化水素環を形成してもよく、Ｙ^ａは、置換基を有していてもよい脂肪族環式基又はアルキル基を表し、ｐは０〜４の整数を表し、ｑは０又は１を表す。

【0129】

なお、上記直鎖状又は分岐状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。また、フッ素化アルキル基とは、上記アルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子により置換されたものである。
脂肪族環式基の具体例としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が挙げられる。特に、シクロヘキサン、アダマンタンから１個の水素原子を除いた基（さらに置換基を有していてもよい）が好ましい。

【0130】

上記Ｒ^１２ａ及びＲ^１３ａが互いに結合して炭化水素環を形成しない場合、上記Ｒ^１１ａ、Ｒ^１２ａ、及びＲ^１３ａとしては、高コントラストで、解像度、焦点深度幅等が良好な点から、炭素原子数２〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基であることが好ましい。上記Ｒ^１５ａ、Ｒ^１６ａ、Ｒ^１８ａ、Ｒ^１９ａとしては、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

【0131】

上記Ｒ^１２ａ及びＲ^１３ａは、両者が結合している炭素原子とともに炭素原子数５〜２０の脂肪族環式基を形成してもよい。このような脂肪族環式基の具体例としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。特に、シクロヘキサン、アダマンタンから１個以上の水素原子を除いた基（さらに置換基を有していてもよい）が好ましい。

【0132】

さらに、上記Ｒ^１２ａ及びＲ^１３ａが形成する脂肪族環式基が、その環骨格上に置換基を有する場合、当該置換基の例としては、水酸基、カルボキシ基、シアノ基、酸素原子（＝Ｏ）等の極性基や、炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。極性基としては特に酸素原子（＝Ｏ）が好ましい。

【0133】

上記Ｙ^ａは、脂肪族環式基又はアルキル基であり、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基等が挙げられる。具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基等が挙げられる。特に、アダマンタンから１個以上の水素原子を除いた基（さらに置換基を有していてもよい）が好ましい。

【0134】

さらに、上記Ｙ^ａの脂肪族環式基が、その環骨格上に置換基を有する場合、該置換基の例としては、水酸基、カルボキシ基、シアノ基、酸素原子（＝Ｏ）等の極性基や、炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。極性基としては特に酸素原子（＝Ｏ）が好ましい。

【0135】

また、Ｙ^ａがアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０、好ましくは６〜１５の直鎖状又は分岐状のアルキル基であることが好ましい。このようなアルキル基は、特にアルコキシアルキル基であることが好ましく、このようなアルコキシアルキル基としては、１−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基、１−ｎ−プロポキシエチル基、１−イソプロポキシエチル基、１−ｎ−ブトキシエチル基、１−イソブトキシエチル基、１−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、１−エトキシプロピル基、１−メトキシ−１−メチル−エチル基、１−エトキシ−１−メチルエチル基等が挙げられる。

【0136】

上記式（ａ５）で表される構成単位の好ましい具体例としては、下記式（ａ５−１）〜（ａ５−３３）で表されるものを挙げることができる。

【0137】

【化10】

【0138】

上記式（ａ５−１）〜（ａ５−３３）中、Ｒ^２０ａは、水素原子又はメチル基を表す。

【0139】

上記式（ａ６−１）で表される構成単位の好ましい具体例としては、下記式（ａ６−１−１）〜（ａ６−１−２５）で表されるものを挙げることができる。

【0140】

【化11】

【0141】

上記式（ａ６−１−１）〜（ａ６−１−２５）中、Ｒ^２０ａは、水素原子又はメチル基を表す。

【0142】

上記式（ａ６−２）で表される構成単位の好ましい具体例としては、前述の式（ａ６−１−１）〜（ａ６−１−２５）において示されるカルボニル基をフェニレン基（好ましくはｐ−フェニレン基）に変更した単位が挙げられる。

【0143】

上記式（ａ７）で表される構成単位の好ましい具体例としては、下記式（ａ７−１）〜（ａ７−１５）で表されるものを挙げることができる。

【0144】

【化12】

【0145】

上記式（ａ７−１）〜（ａ７−１５）中、Ｒ^２０ａは、水素原子又はメチル基を表す。

【0146】

さらに、アクリル樹脂（Ａ２−３）は、上記式（ａ５）〜（ａ７）で表される構成単位に対して、さらにエーテル結合を有する重合性化合物から誘導された構成単位を含む共重合体からなる樹脂であってもよい。

【0147】

上記エーテル結合を有する重合性化合物としては、エーテル結合及びエステル結合を有する（メタ）アクリル酸誘導体等のラジカル重合性化合物を例示することができ、具体例としては、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、上記エーテル結合を有する重合性化合物は、好ましくは、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレートである。これらの重合性化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0148】

さらに、アクリル樹脂（Ａ２−３）には、物理的、化学的特性を適度にコントロールする目的で他の重合性化合物を構成単位として含めることができる。このような重合性化合物としては、公知のラジカル重合性化合物や、アニオン重合性化合物が挙げられる。

【0149】

このような重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸類；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のジカルボン酸類；２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基及びエステル結合を有するメタクリル酸誘導体類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリールエステル類；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジブチル等のジカルボン酸ジエステル類；スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ヒドロキシスチレン、α−メチルヒドロキシスチレン、α−エチルヒドロキシスチレン等のビニル基含有芳香族化合物類；酢酸ビニル等のビニル基含有脂肪族化合物類；ブタジエン、イソプレン等の共役ジオレフィン類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物類；等を挙げることができる。

【0150】

また、重合性化合物としては、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する化合物も好ましい。３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する化合物は、１分子中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも１つ有していればよく、１つ以上のエポキシ基及び１つ以上オキセタニル基、２つ以上のエポキシ基、又は、２つ以上のオキセタニル基を有していてもよい。エポキシ基及び／又はオキセタニル基を合計１〜３つ有する化合物が好ましく、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を合計１又は２つ有する化合物がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を１つ有する化合物がさらに好ましい。

【0151】

エポキシ基を有する重合性化合物の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特開２００５−４９６９１号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物等が挙げられる。
オキセタニル基を有する重合性化合物の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する重合性化合物の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。

【0152】

これらの中でも好ましいものとしては、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルが挙げられる。これらのエポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する重合性化合物は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

【0153】

さらに、重合性化合物としては、酸非解離性の脂肪族多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステル類、ビニル基含有芳香族化合物類等を挙げることができる。酸非解離性の脂肪族多環式基としては、特にトリシクロデカニル基、アダマンチル基、テトラシクロドデカニル基、イソボルニル基、ノルボルニル基等が、工業上入手しやすい等の点で好ましい。これらの脂肪族多環式基は、炭素原子数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を置換基として有していてもよい。

【0154】

酸非解離性の脂肪族多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステル類としては、具体的には、下記式（ａ８−１）〜（ａ８−５）の構造のものを例示することができる。

【0155】

【化13】

【0156】

上記式（ａ８−１）〜（ａ８−５）中、Ｒ^２１ａは、水素原子又はメチル基を表す。

【0157】

上記樹脂（Ａ２）の中でも、アクリル樹脂（Ａ２−３）を用いることが好ましい。このようなアクリル樹脂（Ａ２−３）の中でも、上記式（ａ５）で表される構成単位と、（メタ）アクリル酸から誘導された構成単位と、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類から誘導された構成単位と、（メタ）アクリル酸アリールエステル類から誘導された構成単位とを有する共重合体であることが好ましい。

【0158】

このような共重合体としては、例えば、下記式（ａ９）で表される共重合体であることが好ましい。

【0159】

【化14】

【0160】

上記式（ａ９）中、Ｒ^２２ａは、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２３ａは、炭素原子数２〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｘ^ａは、それが結合している炭素原子とともに形成された炭素原子数５〜２０の炭化水素環を表し、Ｒ^２４ａは、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシアルキル基を表し、Ｒ^２５ａは、炭素原子数６〜１２のアリール基を表す。

【0161】

さらに、上記式（ａ９）で表される共重合体において、ｓ、ｔ、ｕ、ｖはそれぞれの構成単位のモル比を表し、ｓは８〜４５モル％であり、ｔは１０〜６５モル％であり、ｕは３〜２５モル％であり、ｖは６〜２５モル％である。

【0162】

樹脂（Ａ２）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは４０００〜６００００であり、より好ましくは６０００〜４００００であり、さらに好ましくは８０００〜３００００である。このような重量平均分子量とすることにより、パターン化された金属層１８への密着性が良好であり、機械的強度に優れ、クラックの発生しにくい被覆樹脂層１７を形成しやすい。

【0163】

樹脂（Ａ２）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、基材樹脂成分（Ａ）の分散度（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）が１以上２０以下である限り特に限定されない。
なお、樹脂（Ａ２）の分散度は、１．０５〜１８が好ましく、１．２〜１２がより好ましく、１．５〜６が特に好ましい。
また、第２のポジ型組成物が、後述のアルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）を有する場合、この樹脂（Ａ２）の分散度は、このアルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）を組み合わせた状態でＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィ）測定を行い、得られたチャートから導くことができる。

【0164】

樹脂（Ａ２）の含有量は、第２のポジ型組成物の固形分全体に対して６０〜９８質量％とすることが好ましく、７０〜９５質量％とすることがより好ましい。

【0165】

（アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４））
第２のポジ型組成物は、被覆樹脂層１７のクラック耐性を向上させる目的等で、基材樹脂成分（Ａ）として、さらにアルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）を含んでいてもよい。
ここで、アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）とは、分子内にアルカリ可溶性をもたせる官能基（例えば、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基等）を備える樹脂を指す。
アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）としては、ノボラック樹脂（Ａ２−４ａ）、ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−４ｂ）、及びアクリル樹脂（Ａ２−４ｃ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。

【0166】

・ノボラック樹脂（Ａ２−４ａ）
ノボラック樹脂（Ａ２−４ａ）は、前述のノボラック樹脂（Ａ１）と同様に、例えばフェノール性水酸基を有する芳香族化合物（以下、単に「フェノール類」という。）とアルデヒド類とを酸触媒下で付加縮合させることにより得られる。

【0167】

上記フェノール類としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、フロログリシノール、ヒドロキシジフェニル、ビスフェノールＡ、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、β−ナフトール等が挙げられる。
上記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒド等が挙げられる。
付加縮合反応時の触媒は、特に限定されるものではないが、例えば酸触媒では、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸等が使用される。

【0168】

・ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−４ｂ）
ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−４ｂ）を構成するヒドロキシスチレン系化合物としては、ｐ−ヒドロキシスチレン、α−メチルヒドロキシスチレン、α−エチルヒドロキシスチレン等が挙げられる。
さらに、ポリヒドロキシスチレン樹脂（Ａ２−４ｂ）は、スチレン樹脂との共重合体とすることが好ましい。このようなスチレン樹脂を構成するスチレン系化合物としては、スチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等が挙げられる。

【0169】

・アクリル樹脂（Ａ２−４ｃ）
アクリル樹脂（Ａ２−４ｃ）としては、エーテル結合を有する重合性化合物から誘導された構成単位、及びカルボキシ基を有する重合性化合物から誘導された構成単位を含む樹脂が好ましい。

【0170】

上記エーテル結合を有する重合性化合物としては、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等のエーテル結合及びエステル結合を有する（メタ）アクリル酸誘導体等を例示することができる。上記エーテル結合を有する重合性化合物は、好ましくは、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレートである。これらの重合性化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0171】

上記カルボキシ基を有する重合性化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸類；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のジカルボン酸類；２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のカルボキシ基及びエステル結合を有する化合物；等を例示することができる。上記カルボキシ基を有する重合性化合物は、好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸である。これらの重合性化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0172】

アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）の含有量は、上記樹脂（Ａ２）とアルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）との合計を１００質量部とした場合、０〜５０質量部とすることができ、また、０〜３０質量部とすることもできる。

【0173】

＜酸発生剤（Ｂ２）＞
酸発生剤（Ｂ２）は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であり、光により直接又は間接的に酸を発生する化合物であれば特に限定されない。酸発生剤（Ｂ２）としては、以下に説明する、第一〜第五の態様の酸発生剤が好ましい。以下、第２のポジ型組成物において好適に使用される酸発生剤（Ｂ２）のうち好適なものについて、第一から第五の態様として説明する。

【0174】

酸発生剤（Ｂ２）における第一の態様としては、下記式（ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

【0175】

【化15】

【0176】

上記式（ｂ１）中、Ｘ^１ｂは、原子価ｇの硫黄原子又はヨウ素原子を表し、ｇは１又は２である。ｈは括弧内の構造の繰り返し単位数を表す。Ｒ^１ｂは、Ｘ^１ｂに結合している有機基であり、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数４〜３０の複素環基、炭素原子数１〜３０のアルキル基、炭素原子数２〜３０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜３０のアルキニル基を表し、Ｒ^１ｂは、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキレンオキシ、アミノ、シアノ、ニトロの各基、及びハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｒ^１ｂの個数はｇ＋ｈ（ｇ−１）＋１であり、Ｒ^１ｂはそれぞれ互いに同じであっても異なっていてもよい。また、２個以上のＲ^１ｂが互いに直接、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２ｂ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素原子数１〜３のアルキレン基、若しくはフェニレン基を介して結合し、Ｘ^１ｂを含む環構造を形成してもよい。Ｒ^２ｂは炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基である。

【0177】

Ｘ^２ｂは下記式（ｂ２）で表される構造である。

【0178】

【化16】

【0179】

上記式（ｂ２）中、Ｘ^４ｂは炭素原子数１〜８のアルキレン基、炭素原子数６〜２０のアリーレン基、又は炭素原子数８〜２０の複素環化合物の２価の基を表し、Ｘ^４ｂは炭素原子数１〜８のアルキル、炭素原子数１〜８のアルコキシ、炭素原子数６〜１０のアリール、ヒドロキシ、シアノ、ニトロの各基、及びハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｘ^５ｂは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２ｂ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素原子数１〜３のアルキレン基、又はフェニレン基を表す。ｈは括弧内の構造の繰り返し単位数を表す。ｈ＋１個のＸ^４ｂ及びｈ個のＸ^５ｂはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^２ｂは前述の定義と同じである。

【0180】

Ｘ^３ｂ−はオニウムの対イオンであり、下記式（ｂ９）で表されるスルホネートアニオン、下記式（ｂ１３）、（ｂ１４）で表される窒素を含有するアニオン、下記式（ｂ１７）で表されるフルオロリン酸アニオン又は下記式（ｂ１８）で表されるボレートアニオンが挙げられる。

【0181】

【化17】

【0182】

上記式（ｂ９）において、Ｒ^２０ｂは、下記式（ｂ１０）、（ｂ１１）、及び（ｂ１２）で表される基である。

【0183】

【化18】

【0184】

上記式（ｂ１０）中、ｘは１〜４の整数を表す。また、上記式（ｂ１１）中、Ｒ^２１ｂは、水素原子、水酸基、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、ｙは１〜３の整数を表す。これらの中でも、安全性の観点からトリフルオロメタンスルホネート、パーフルオロブタンスルホネートが好ましい。

【0185】

【化19】

【0186】

上記式（ｂ１３）、（ｂ１４）中、Ｘ^ｂは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し、該アルキレン基の炭素原子数は２〜６であり、好ましくは３〜５、最も好ましくは炭素原子数３である。また、Ｙ^ｂ、Ｚ^ｂは、それぞれ独立に少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、該アルキル基の炭素原子数は１〜１０であり、好ましくは１〜７、より好ましくは１〜３である。

【0187】

Ｘ^ｂのアルキレン基の炭素原子数、又はＹ^ｂ、Ｚ^ｂのアルキル基の炭素原子数が小さいほど有機溶剤への溶解性も良好であるため好ましい。

【0188】

また、Ｘ^ｂのアルキレン基又はＹ^ｂ、Ｚ^ｂのアルキル基において、フッ素原子で置換されている水素原子の数が多いほど、酸の強度が強くなるため好ましい。該アルキレン基又はアルキル基中のフッ素原子の割合、すなわちフッ素化率は、好ましくは７０〜１００％、より好ましくは９０〜１００％であり、最も好ましくは、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロアルキレン基又はパーフルオロアルキル基である。

【0189】

【化20】

【0190】

上記式（ｂ１７）中、Ｒ^３ｂは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｊはその個数を示し、０〜５の整数である。ｊ個のＲ^３ｂはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

【0191】

【化21】

【0192】

上記式（ｂ１８）中、Ｒ^４ｂ〜Ｒ^７ｂは、それぞれ独立にフッ素原子又はフェニル基を表し、該フェニル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。

【0193】

上記式（ｂ１）で表される化合物中のオニウムイオンとしては、トリフェニルスルホニウム、トリ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド、ビス〔４−｛ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホニオ｝フェニル〕スルフィド、ビス｛４−［ビス（４−フルオロフェニル）スルホニオ］フェニル｝スルフィド、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジ−ｐ−トリルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジフェニルスルホニウム、２−［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、２−ナフチルメチル（１−エトキシカルボニル）エチルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、フェニル［４−（４−ビフェニルチオ）フェニル］４−ビフェニルスルホニウム、フェニル［４−（４−ビフェニルチオ）フェニル］３−ビフェニルスルホニウム、［４−（４−アセトフェニルチオ）フェニル］ジフェニルスルホニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウム、ジフェニルヨードニウム、ジ−ｐ−トリルヨードニウム、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−メトキシフェニル）ヨードニウム、（４−オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム、ビス（４−デシルオキシ）フェニルヨードニウム、４−（２−ヒドロキシテトラデシルオキシ）フェニルフェニルヨードニウム、４−イソプロピルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウム、又は４−イソブチルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウム、等が挙げられる。

【0194】

上記式（ｂ１）で表される化合物中のオニウムイオンのうち、好ましいオニウムイオンとしては下記式（ｂ１９）で表されるスルホニウムイオンが挙げられる。

【0195】

【化22】

【0196】

上記式（ｂ１９）中、Ｒ^８ｂはそれぞれ独立に水素原子、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアリール、アリールカルボニル、からなる群より選ばれる基を表す。Ｘ^２ｂは、上記式（ｂ１）中のＸ^２ｂと同じ意味を表す。

【0197】

上記式（ｂ１９）で表されるスルホニウムイオンの具体例としては、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、フェニル［４−（４−ビフェニルチオ）フェニル］４−ビフェニルスルホニウム、フェニル［４−（４−ビフェニルチオ）フェニル］３−ビフェニルスルホニウム、［４−（４−アセトフェニルチオ）フェニル］ジフェニルスルホニウム、ジフェニル［４−（ｐ−ターフェニルチオ）フェニル］ジフェニルスルホニウムが挙げられる。

【0198】

上記式（ｂ１７）で表されるフルオロリン酸アニオンにおいて、Ｒ^３ｂはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、好ましい炭素原子数は１〜８、さらに好ましい炭素原子数は１〜４である。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル等の直鎖アルキル基；イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等の分岐アルキル基；さらにシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクヘキシル等のシクロアルキル基等が挙げられ、アルキル基の水素原子がフッ素原子に置換された割合は、通常、８０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは１００％である。

【0199】

特に好ましいＲ^３ｂは、炭素原子数が１〜４、且つフッ素原子の置換率が１００％の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、ＣＦ_３、ＣＦ_３ＣＦ_２、（ＣＦ_３）_２ＣＦ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２、ＣＦ_３ＣＦ_２（ＣＦ_３）ＣＦ、（ＣＦ_３）_３Ｃが挙げられる。Ｒ^３ｂの個数ｊは、０〜５の整数であり、好ましくは１〜４、特に好ましくは２又は３である。

【0200】

好ましいフルオロリン酸アニオンの具体例としては、［ＰＦ_６］⁻、［（ＣＦ_３ＣＦ_２）_２ＰＦ_４］⁻、［（ＣＦ_３ＣＦ_２）_３ＰＦ_３］⁻、［（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_２ＰＦ_４］⁻、［（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_３ＰＦ_３］⁻、［（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_２ＰＦ_４］⁻、［（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＰＦ_３］⁻、［（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_２ＰＦ_４］⁻、［（（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２）_３ＰＦ_３］⁻、［（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_２ＰＦ_４］⁻、又は［（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＰＦ_３］⁻が挙げられる。

【0201】

上記式（ｂ１８）で表されるボレートアニオンの好ましい具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ_４）⁻、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４］⁻）、テトラキス［（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｈ_４ＣＦ_３）_４］⁻）、ジフルオロビス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［（Ｃ_６Ｆ_５）_２ＢＦ_２］⁻）、トリフルオロ（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［（Ｃ_６Ｆ_５）ＢＦ_３］⁻）、テトラキス（ジフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｈ_３Ｆ_２）_４］⁻）等が挙げられる。これらの中でも、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（［Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４］⁻）が特に好ましい。

【0202】

酸発生剤（Ｂ２）における第二の態様としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（２−フリル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（５−メチル−２−フリル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（５−エチル−２−フリル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（５−プロピル−２−フリル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，５−ジメトキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，５−ジエトキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，５−ジプロポキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３−メトキシ−５−エトキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３−メトキシ−５−プロポキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（２−フリル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（５−メチル−２−フリル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（３，５−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、トリス（１，３−ジブロモプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）−１，３，５−トリアジン等のハロゲン含有トリアジン化合物、並びにトリス（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート等の下記式（ｂ３）で表されるハロゲン含有トリアジン化合物が挙げられる。

【0203】

【化23】

【0204】

上記式（ｂ３）中、Ｒ^９ｂ、Ｒ^１０ｂ、Ｒ^１１ｂは、それぞれ独立にハロゲン化アルキル基を表す。

【0205】

また、酸発生剤（Ｂ２）における第三の態様としては、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α−（ベンゼンスルホニルオキシイミノ）−２，４−ジクロロフェニルアセトニトリル、α−（ベンゼンスルホニルオキシイミノ）−２，６−ジクロロフェニルアセトニトリル、α−（２−クロロベンゼンスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニルアセトニトリル、α−（エチルスルホニルオキシイミノ）−１−シクロペンテニルアセトニトリル、並びにオキシムスルホネート基を含有する下記式（ｂ４）で表される化合物が挙げられる。

【0206】

【化24】

【0207】

上記式（ｂ４）中、Ｒ^１２ｂは、１価、２価、又は３価の有機基を表し、Ｒ^１３ｂは、置換若しくは未置換の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、又は芳香族性化合物基を表し、ｎは括弧内の構造の繰り返し単位数を表す。

【0208】

上記式（ｂ４）中、芳香族性化合物基とは、芳香族化合物に特有な物理的・化学的性質を示す化合物の基を示し、例えば、フェニル基、ナフチル基等のアリール基や、フリル基、チエニル基等のヘテロアリール基が挙げられる。これらは環上に適当な置換基、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等を１個以上有していてもよい。また、Ｒ^１３ｂは、炭素原子数１〜６のアルキル基が特に好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。特に、Ｒ^１２ｂが芳香族性化合物基であり、Ｒ^１３ｂが炭素原子数１〜４のアルキル基である化合物が好ましい。

【0209】

上記式（ｂ４）で表される酸発生剤としては、ｎ＝１のとき、Ｒ^１２ｂがフェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基のいずれかであって、Ｒ^１３ｂがメチル基の化合物、具体的にはα−（メチルスルホニルオキシイミノ）−１−フェニルアセトニトリル、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）−１−（ｐ−メチルフェニル）アセトニトリル、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）−１−（ｐ−メトキシフェニル）アセトニトリル、〔２−（プロピルスルホニルオキシイミノ）−２，３−ジヒドロキシチオフェン−３−イリデン〕（ｏ−トリル）アセトニトリル等が挙げられる。ｎ＝２のとき、上記式（ｂ４）で表される酸発生剤としては、具体的には下記式で表される酸発生剤が挙げられる。

【0210】

【化25】

【0211】

また、酸発生剤（Ｂ２）における第四の態様としては、カチオン部にナフタレン環を有するオニウム塩が挙げられる。この「ナフタレン環を有する」とは、ナフタレンに由来する構造を有することを意味し、少なくとも２つの環の構造と、それらの芳香族性が維持されていることを意味する。このナフタレン環は炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基、水酸基、炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基等の置換基を有していてもよい。ナフタレン環に由来する構造は、１価基（遊離原子価が１つ）であっても、２価基（遊離原子価が２つ）以上であってもよいが、１価基であることが望ましい（ただし、このとき、上記置換基と結合する部分を除いて遊離原子価を数えるものとする）。ナフタレン環の数は１〜３が好ましい。

【0212】

このようなカチオン部にナフタレン環を有するオニウム塩のカチオン部としては、下記式（ｂ５）で表される構造が好ましい。

【0213】

【化26】

【0214】

上記式（ｂ５）中、Ｒ^１４ｂ、Ｒ^１５ｂ、Ｒ^１６ｂのうち少なくとも１つは下記式（ｂ６）で表される基を表し、残りは炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、水酸基、又は炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表す。あるいは、Ｒ^１４ｂ、Ｒ^１５ｂ、Ｒ^１６ｂのうちの１つが下記式（ｂ６）で表される基であり、残りの２つはそれぞれ独立に炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、これらの末端が結合して環状になっていてもよい。

【0215】

【化27】

【0216】

上記式（ｂ６）中、Ｒ^１７ｂ、Ｒ^１８ｂは、それぞれ独立に水酸基、炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基、又は炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、Ｒ^１９ｂは、単結合又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜６の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を表す。ｌ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を表し、ｌ＋ｍは３以下である。ただし、Ｒ^１７ｂが複数存在する場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。また、Ｒ^１８ｂが複数存在する場合、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。

【0217】

上記Ｒ^１４ｂ、Ｒ^１５ｂ、Ｒ^１６ｂのうち上記式（ｂ６）で表される基の数は、化合物の安定性の点から好ましくは１つであり、残りは炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であり、これらの末端が結合して環状になっていてもよい。この場合、上記２つのアルキレン基は、硫黄原子を含めて３〜９員環を構成する。環を構成する原子（硫黄原子を含む）の数は、好ましくは５〜６である。

【0218】

また、上記アルキレン基が有していてもよい置換基としては、酸素原子（この場合、アルキレン基を構成する炭素原子とともにカルボニル基を形成する）、水酸基等が挙げられる。

【0219】

また、フェニル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基、炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基等が挙げられる。

【0220】

これらのカチオン部として好適なものとしては、下記式（ｂ７）、（ｂ８）で表されるもの等を挙げることができ、特に下記式（ｂ８）で表される構造が好ましい。

【0221】

【化28】

【0222】

このようなカチオン部としては、ヨードニウム塩であってもスルホニウム塩であってもよいが、酸発生効率等の点からスルホニウム塩が望ましい。

【0223】

従って、カチオン部にナフタレン環を有するオニウム塩のアニオン部として好適なものとしては、スルホニウム塩を形成可能なアニオンが望ましい。

【0224】

このような酸発生剤のアニオン部としては、水素原子の一部又は全部がフッ素化されたフルオロアルキルスルホン酸イオン又はアリールスルホン酸イオンである。

【0225】

フルオロアルキルスルホン酸イオンにおけるアルキル基は、炭素原子数１〜２０の直鎖状でも分岐状でも環状でもよく、発生する酸の嵩高さとその拡散距離から、炭素原子数１〜１０であることが好ましい。特に、分岐状や環状のものは拡散距離が短いため好ましい。また、安価に合成可能なことから、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等を好ましいものとして挙げることができる。

【0226】

アリールスルホン酸イオンにおけるアリール基は、炭素原子数６〜２０のアリール基であって、アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもされていなくてもよいフェニル基、ナフチル基が挙げられる。特に、安価に合成可能なことから、炭素原子数６〜１０のアリール基が好ましい。好ましいものの具体例として、フェニル基、トルエンスルホニル基、エチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基等を挙げることができる。

【0227】

上記フルオロアルキルスルホン酸イオン又はアリールスルホン酸イオンにおいて、水素原子の一部又は全部がフッ素化されている場合のフッ素化率は、好ましくは１０〜１００％、より好ましくは５０〜１００％であり、特に水素原子を全てフッ素原子で置換したものが、酸の強度が強くなるので好ましい。このようなものとしては、具体的には、トリフルオロメタンスルホネート、パーフルオロブタンスルホネート、パーフルオロオクタンスルホネート、パーフルオロベンゼンスルホネート等が挙げられる。

【0228】

これらの中でも、好ましいアニオン部としては、前述の式（ｂ９）で表されるアニオンや、前述の式（ｂ１３）、（ｂ１４）で表されるアニオンが挙げられる。

【0229】

このようなカチオン部にナフタレン環を有するオニウム塩として好ましいものとしては、下記式（ｂ１５）、（ｂ１６）で表される化合物が挙げられる。

【0230】

【化29】

【0231】

また、酸発生剤（Ｂ２）における第五の態様としては、ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン等のビススルホニルジアゾメタン類；ｐ−トルエンスルホン酸２−ニトロベンジル、ｐ−トルエンスルホン酸２，６−ジニトロベンジル、ニトロベンジルトシラート、ジニトロベンジルトシラート、ニトロベンジルスルホナート、ニトロベンジルカルボナート、ジニトロベンジルカルボナート等のニトロベンジル誘導体；ピロガロールトリメシラート、ピロガロールトリトシラート、ベンジルトシラート、ベンジルスルホナート、Ｎ−メチルスルホニルオキシスクシンイミド、Ｎ−トリクロロメチルスルホニルオキシスクシンイミド、Ｎ−フェニルスルホニルオキシマレイミド、Ｎ−メチルスルホニルオキシフタルイミド等のスルホン酸エステル類；Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド等のトリフルオロメタンスルホン酸エステル類；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート等のオニウム塩類；ベンゾイントシラート、α−メチルベンゾイントシラート等のベンゾイントシラート類；その他のジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、フェニルジアゾニウム塩、ベンジルカルボナート等が挙げられる。

【0232】

この酸発生剤（Ｂ２）は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、酸発生剤（Ｂ２）の含有量は、第２のポジ型組成物の固形分全体に対し、０．１〜１０質量％とすることが好ましく、０．５〜５質量％とすることがより好ましい。酸発生剤（Ｂ２）の使用量を上記の範囲とすることにより、良好な感度を備え、均一な溶液であって、保存安定性に優れるポジ型組成物を調製しやすい。

【0233】

（酸拡散制御剤（Ｃ））
第２のポジ型組成物は、被覆樹脂層１７の形状や、感光層の引き置き安定性等の向上のため、さらに酸拡散制御剤（Ｃ）を含有していてもよい。酸拡散制御剤（Ｃ）としては、含窒素化合物が好ましく、さらに必要に応じて、有機カルボン酸、又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体を含有させることができる。

【0234】

含窒素化合物としては、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリベンジルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３，−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、８−オキシキノリン、アクリジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、２，４，６−トリ（２−ピリジル）−Ｓ−トリアジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、ピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ピリジン等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0235】

酸拡散制御剤（Ｃ）は、上記樹脂（Ａ２）及び上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）の合計質量１００質量部に対して、通常０〜５質量部の範囲で用いられ、０〜３質量部の範囲で用いられることが特に好ましい。

【0236】

有機カルボン酸、又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体のうち、有機カルボン酸としては、具体的には、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸等が好適であり、特にサリチル酸が好ましい。

【0237】

リンのオキソ酸又はその誘導体としては、リン酸、リン酸ジ−ｎ−ブチルエステル、リン酸ジフェニルエステル等のリン酸及びそれらのエステルのような誘導体；ホスホン酸、ホスホン酸ジメチルエステル、ホスホン酸−ジ−ｎ−ブチルエステル、フェニルホスホン酸、ホスホン酸ジフェニルエステル、ホスホン酸ジベンジルエステル等のホスホン酸及びそれらのエステルのような誘導体；ホスフィン酸、フェニルホスフィン酸等のホスフィン酸及びそれらのエステルのような誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、特にホスホン酸が好ましい。これらは単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0238】

有機カルボン酸、又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体は、樹脂（Ａ２）及びアルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）の合計質量１００質量部に対して、通常０〜５質量部の範囲で用いられ、０〜３質量部の範囲で用いられることが特に好ましい。

【0239】

また、塩を形成させて安定させるために、有機カルボン酸、又はリンのオキソ酸若しくはその誘導体は、上記の含窒素化合物と同等量を用いることが好ましい。

【0240】

（着色剤）
本実施形態の方法に従って形成される、ポストベーク工程を経た後の被覆樹脂層１７の光学濃度は０．１０／μｍ以上である。このため、第２のポジ型組成物は、第１のポジ型組成物と同様に、典型的には、光学濃度の調整の目的で着色剤を含む。
第２のポジ型組成物において、着色剤としては、第１のポジ型組成物について説明した着色剤と同様のものを用いることができる。
この第２のポジ型組成物における着色剤の使用量は、例えば、上記樹脂（Ａ２）及び上記アルカリ可溶性樹脂（Ａ２−４）の合計質量１００質量部に対して、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましく、また、６０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましく、４５質量部以下がさらに好ましく、４０質量部以下がさらにより好ましい。
また、被覆樹脂層１７の光学濃度は０．２０〜２．０／μｍであることがより好ましく、０．３０〜１．０／μｍであることがさらに好ましい。

【0241】

（溶剤）
第２のポジ型組成物は、上記の各成分を適当な溶剤に溶解して、溶液の形で用いることが好ましい。溶剤の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、従来よりポジ型の感光性樹脂組成物に使用されている有機溶剤から適宜選択して使用することができる。

【0242】

溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソアミルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノアセテートのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル、モノフェニルエーテル等の多価アルコール類及びその誘導体；ジオキサン等の環式エーテル類；蟻酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

【0243】

溶剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。溶剤の使用量は、第２のポジ型組成物の固形分濃度が、１０〜４０質量％である量が好ましく、１２〜３０質量％である量がより好ましい。

【0244】

（その他の成分）
第２のポジ型組成物は、可塑性を向上させるため、さらにポリビニル樹脂を含有していてもよい。ポリビニル樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリヒドロキシスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル安息香酸、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルフェノール、及びこれらの共重合体等が挙げられる。ポリビニル樹脂は、ガラス転移点の低さの点から、好ましくはポリビニルメチルエーテルである。

【0245】

また、第２のポジ型組成物は、被覆樹脂層１７とパターン化された金属層１８との密着性を向上させるため、さらに密着性向上剤を含有していてもよい。この密着性向上剤としては、第１のポジ型組成物の項目に示したものと同様のものを用いることができる。

【0246】

また、第２のポジ型組成物は、塗布性、消泡性、レベリング性等を向上させるため、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤の具体例としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（いずれもＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３（いずれも大日本インキ化学工業社製）、フロラードＦＣ−１３５、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、フロラードＦＣ−４３０、フロラードＦＣ−４３１（いずれも住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、サーフロンＳ−１１３、サーフロンＳ−１３１、サーフロンＳ−１４１、サーフロンＳ−１４５（いずれも旭硝子社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８（いずれも東レシリコーン社製）等の市販のフッ素系界面活性剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【0247】

また、第２のポジ型組成物は、現像液に対する溶解性の微調整を行うため、酸、酸無水物、又は高沸点溶媒をさらに含有していてもよい。

【0248】

酸及び酸無水物の具体例としては、酢酸、プロピオン酸、ｎ−酪酸、イソ酪酸、ｎ−吉草酸、イソ吉草酸、安息香酸、桂皮酸等のモノカルボン酸類；乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、３−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、２−ヒドロキシ桂皮酸、３−ヒドロキシ桂皮酸、４−ヒドロキシ桂皮酸、５−ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸等のヒドロキシモノカルボン酸類；シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、１，２，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸等の多価カルボン酸類；無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス無水トリメリタート、グリセリントリス無水トリメリタート等の酸無水物；等を挙げることができる。

【0249】

また、高沸点溶媒の具体例としては、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセタート等を挙げることができる。

【0250】

また、第２のポジ型組成物は、感度を向上させるため、増感剤をさらに含有していてもよい。

【0251】

（第２のポジ型組成物の調製方法）
第２のポジ型組成物は、上記の各成分を通常の方法で混合、撹拌して調製される。上記の各成分を、混合、撹拌する際に使用できる装置としては、ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等が挙げられる。上記の各成分を均一に混合した後に、得られた混合物を、さらにメッシュ、メンブレンフィルタ等を用いて濾過してもよい。

【0252】

＜塗布方法＞
以上説明したポジ型組成物を、被エッチング金属層１１上に塗布して感光層１２が形成される。感光層１２の膜厚は特に限定されないが、０．１〜１０μｍが好ましい。
ポジ型組成物の塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケーター法等の方法を採用することができる。感光層１２に対してはプリベークを行うのが好ましい。プリベーク条件は、感光層中の各成分の種類、配合割合、塗布膜厚等によって異なるが、通常は７０〜１５０℃で、好ましくは８０〜１４０℃で、２〜６０分間程度である。

【0253】

以上のようにして形成された感光層１２を備える被加工基板１０は、次いで、露光工程に供される。

【0254】

≪露光工程≫
露光工程では、図１（ｃ）に示されるように、感光層１２中の、パターン化された金属層１８が形成される位置以外の位置に対して露光が行われる。
感光層１２は、前述の通りポジ型組成物を用いて形成される。ポジ型組成物からなる感光層１２では、露光された部位がアルカリ現像液に対して可溶化する。このため、露光によって、感光層１２中のパターン化された金属層１８が形成される位置以外の位置が、現像液に対して可溶化する。

【0255】

露光工程では、上記のようにして形成された感光層１２に対して、所定のパターンのフォトマスク１５を介して、位置選択的に露光光１６が照射される。
露光光１６としては、活性光線又は放射線、例えば波長が３００〜５００ｎｍの紫外線又は可視光線が用いられる。

【0256】

放射線の線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザー等を用いることができる。また、放射線には、マイクロ波、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、γ線、電子線、陽子線、中性子線、イオン線等が含まれる。放射線照射量は、ポジ型組成物の組成や感光層１２の膜厚等によっても異なるが、例えば超高圧水銀灯使用の場合、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２である。

【0257】

≪現像工程≫
図１（ｃ）に示されるように位置選択的に露光された感光層１２が、現像工程において現像されることで、図１（ｄ）に示されるように、パターン化された感光層１２である被覆樹脂層１７が形成される。この際、現像液としては、アルカリ性水溶液が使用される。

【0258】

現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノナン等のアルカリ類の水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や公知の界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。

【0259】

現像時間は、ポジ型組成物の組成や感光層１２の膜厚等によっても異なるが、通常１〜３０分間である。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、パドル法、スプレー現像法等のいずれでもよい。

【0260】

現像後は、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、エアーガンや、オーブン等を用いて乾燥させる。このようにして、被エッチング金属層１１上に、パターン化された感光層１２である被覆樹脂層１７が形成される。

【0261】

≪エッチング工程≫
エッチング工程では、図１（ｄ）及び図１（ｅ）に示されるように、現像工程で形成された被覆樹脂層１７をエッチングマスクとして用いて、エッチングマスクから露出する被エッチング金属層１１をエッチングにより除去してパターン化された金属層１８を形成する。
エッチング方法は特に限定されず、被エッチング金属層１１の材質に応じて適宜選択される。エッチング方法は、ウェットエッチングでもドライエッチングでもよく、低コストであることからウェットエッチングが好ましい。

【0262】

≪ポストベーク工程≫
ポストベーク工程では、図１（ｅ）に示されるように形成された被覆樹脂層１７に対してベークを行う。ベークは、現像工程とエッチング工程との間に行われてもよく、エッチング工程後に行われてもよい。
被覆樹脂層１７に対してベークを行うことにより、被覆樹脂層１７の硬化が進行したり、被覆樹脂層１７が緊密化される。その結果、被覆樹脂層１７の、耐水性、耐熱性、耐溶剤性等が向上する。
また、前述のエッチング工程において、被覆樹脂層１７の端部の下部におけるエッチングが過度に進行するアンダーエッチが生じ、パターン化された金属層１８のトップ（被覆樹脂層１７側）の幅がボトム（透明層１４側）の幅よりも狭くなる場合がある。
この場合、エッチング工程後にポストベーク工程を実施するのが好ましい。ポストベーク工程での加熱により、被覆樹脂層１７が軟化し、被覆樹脂層１７がパターン化された金属層１８の表面形状に沿って変形するためである。その結果、パターン化された金属層１８のほぼ全表面に密着する被覆樹脂層１７が形成されるので、パターン化された金属層１８がタッチパネルの使用者に視認されにくい。

【0263】

ベークは、例えば、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて行われる。ベークの温度は、特に限定されず、被加工基板１０を構成する材料の耐熱性等を勘案して適宜定められる。ベーク温度としては例えば、８０〜４００℃が好ましく、１５０〜３００℃がより好ましい。
なお、被加工基板１０が液晶層２０を含む液晶セルを備える場合は、ベーク温度は８０〜１５０℃が好ましい。
ベーク時間は、１５〜６０分が好ましく、３０分以下がより好ましい。

【実施例】

【0264】

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例１及び３はそれぞれ、参考例１及び３と読み替えるものとする。

【0265】

〔実施例１〕
ノボラック樹脂１００質量部と、増感剤１３質量部と、キノンジアジド基含有化合物２２．６質量部と、全固形分質量に対して２７質量％の顔料とを、固形分濃度が２０質量％であるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に均一に、溶解、分散させて、ポジ型組成物を得た。
なお、ポジ型組成物には、全固形分に対して１質量％の２−ヒドロキシエチルピリジンと、全固形分に対して０．４質量％のシリコン系界面活性剤（ＢＹＫ−３１０、ビックケミー社製）を含有させた。

【0266】

ノボラック樹脂としては、重量平均分子量４７００、分散度４．５であるクレゾール型のノボラック樹脂を用いた。
増感剤としては、フェノール樹脂（商品名：ＴｒｉｓＰ−ＰＡ−ＭＦ、本州化学工業株式会社製）を用いた。
キノンジアジド基含有化合物としては、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸とをエステル化させて得られる化合物を用いた。
顔料としては、全固形分に対して１４．９質量％の御国色素社製の赤色顔料と、全固形分に対して１２．１質量％の御国色素社製の青色顔料を用いた。

【0267】

得られたポジ型組成物を、カラーフィルタと被エッチング金属層（Ａｌ層）とを備える被加工基板の被エッチング金属層上にスピンコーターを用いて塗布した後、９０℃で６０秒間プリベークを行い、膜厚１．５μｍの感光層を形成した。
得られた感光層を、Ｌ／Ｓ＝１：１で３μｍ幅のフォトマスクを介して、露光装置（ＭＰＡ−６００ＦＡ、３６５ｍＷ、１００ｍＪ／ｃｍ^２、キヤノン社製）を用いて露光した。
次いで、濃度２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液を現像液として用いて現像を行い、所定の形状にパターニングされた被覆樹脂層を形成した。
形成された被覆樹脂層をエッチングマスクとして用いて、Ａｌエッチャント混酸（リン酸・硝酸・酢酸）を用いてエッチングを行い、パターニングされた金属層を形成した。パターニングされた金属層の表面は、被覆樹脂層で被覆されていた。
エッチング後の基板に対して、１２０℃で５分間のポストベークを行い、パターニングされた金属層と、被覆樹脂層とを備える基板を得た。

【0268】

なお、被加工基板としては、試験的に、以下のものを用いた。
すなわち、まず、ガラス基板の片方の面に対して、線幅５μｍのブラックマトリクスと、ＲＧＢのパターンを設け、ガラス基板の他方の面の表面上に厚さ０．２μｍのアルミニウム層をスパッタ形成して、被加工基板とした。

【0269】

形成された被覆樹脂層の光学濃度は０．６０／μｍであった。
また、形成された被覆樹脂層の形状を顕微鏡観察したところ、ピクセル上が被覆樹脂層により被覆されておらず、被覆樹脂層の膜厚がほぼ均一であり、パターン化された金属層の露出は観察されなかった。

【0270】

〔実施例２〕
ノボラック樹脂を、重量平均分子量４７００、分散度１０．０のクレゾール型のノボラック樹脂に変更することの他は、実施例１と同様にしてポジ型組成物を調製し、実施例１と同様にして基板上にパターン化された金属層と被覆樹脂層とを形成した。
形成された被覆樹脂層の光学濃度は０．６０／μｍであった。
また、形成された被覆樹脂層の形状を顕微鏡観察したところ、ピクセル上が被覆樹脂層により被覆されておらず、被覆樹脂層の膜厚がほぼ均一であり、パターン化された金属層の露出は観察されなかった。

【0271】

〔実施例３〕
アクリル樹脂１００質量部と、光酸発生剤３質量部と、着色剤５質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート中に、固形分濃度１２質量％であるように溶解、分散させてポジ型組成物を得た。

【0272】

アクリル樹脂として、ｐ−ヒドロキシスチレンの１−エトキシエチルエーテル４０モル％、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル３５モル％、メタクリル酸メチル１５モル％、及びメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２０モル％の共重合体を用いた。かかるアクリル樹脂の重量平均分子量は１２４００であり、分散度は４．５であった。
光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩（商品名：ＤＴＳ−１０５、みどり化学社製）を用いた。
着色剤としては、カーボンブラック１３．１質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル７９．５３質量部中で、分散剤０．６５質量部と、ポリマー（ベンジルメタクリレート（７２モル％）とメタクリル酸（２８モル％）とのランダム共重合体、重要平均分子量３．７万）とを用いて分散させた黒色顔料を用いた。

【0273】

得られたポジ型組成物を用いて、実施例１と同様にして基板上にパターン化された金属層と被覆樹脂層とを形成した。
形成された被覆樹脂層の光学濃度は０．６０／μｍであった。
また、形成された被覆樹脂層の形状を顕微鏡観察したところ、ピクセル上が被覆樹脂層により被覆されておらず、被覆樹脂層の膜厚がほぼ均一であり、パターン化された金属層の露出は観察されなかった。

【0274】

〔比較例１〕
ノボラック樹脂を、重量平均分子量４７００、分散度３０．０のクレゾール型のノボラック樹脂に変更することの他は、実施例１と同様にしてポジ型組成物を調製し、実施例１と同様にして基板上にパターン化された金属層と被覆樹脂層とを形成した。
形成された被覆樹脂層の光学濃度は０．６０／μｍであった。
しかし、形成された被覆樹脂層の形状を顕微鏡観察したところ、被覆樹脂層がポストベーク時に過度にフローしてしまい、ピクセル上が被覆樹脂層により被覆された箇所が散見されたり、パターン化された金属層の露出が観察されたりした。

【符号の説明】

【0275】

１ 基板
１０ 被加工基板
１１ 被エッチング金属層
１２ 感光層
１３ カラーフィルタ
１４ 透明層
１５ フォトマスク
１６ 露光光
１７ 被覆樹脂層
１８ パターン化された金属層
１９ 透明樹脂層
２０ 液晶層
２１ 画素電極
２２ 絶縁層
２３ アレイ基板
ＢＭ ブラックマトリックス
Ｒ，Ｇ，Ｂ 赤色（Ｒ）着色膜、緑色（Ｇ）着色膜、青色（Ｂ）着色膜

【図1】

【図2】