特許 6774256 薬液塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6774256

(24)【登録日】2020年10月6日

(45)【発行日】2020年10月21日

(54)【発明の名称】薬液塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 11/08 20060101AFI20201012BHJP

   B05C 11/00 20060101ALI20201012BHJP

【ＦＩ】

   B05C11/08

   B05C11/00

【請求項の数】1

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2016-156450(P2016-156450)

(22)【出願日】2016年8月9日

(65)【公開番号】特開2018-23918(P2018-23918A)

(43)【公開日】2018年2月15日

【審査請求日】2019年6月19日

(73)【特許権者】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】100121083

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 宏義

(74)【代理人】

【識別番号】100138391

【弁理士】

【氏名又は名称】天田 昌行

(72)【発明者】

【氏名】松崎 栄

(72)【発明者】

【氏名】児玉 祥一

【審査官】 鏡 宣宏

(56)【参考文献】

【文献】 実開昭６３−１１４０３５（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 実開昭６３−１０５５４（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２００２−３１９５５９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−６２４３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−９１９４８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０５Ｃ １／００−２１／００

Ｂ０５Ｄ １／００− ７／２６

Ｈ０１Ｌ ２１／００−２１／９８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ウェーハの上面に薬液を塗布する薬液塗布装置であって、
ウェーハを上面に保持し回転可能なスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブル上に保持されたウェーハ外周縁に向けて光を照射する少なくとも３つの光照射手段と、ウェーハの上面に薬液を供給する薬液供給部と、を備え、
各光照射手段から照射された少なくとも３つの光のそれぞれが離間してウェーハ外周縁を指し示し且つ該少なくとも３つの光が指し示す位置を結んだ円の中心がテーブル回転中心となる位置で各該光照射手段は配設され、
該光照射手段の該少なくとも３つの光が指し示す位置にウェーハ外周縁が位置づけられて該スピンナーテーブル上にウェーハが載置され、スピンナーテーブルを回転させた状態でウェーハ中心に該薬液が供給されてウェーハの上面に薬液が塗布され、
該光照射手段の光を透過しない材質で形成され１点を指し示す先端を備える遮光性ポインタを該光照射手段と同一数備え、
該少なくとも３つの光が指し示す位置とは、該スピンナーテーブルと各該光照射手段との間で、該光照射手段から照射された光が該遮光性ポインタで遮光され該遮光性ポインタ先端の影がウェーハ外周縁を指し示す位置であり、
少なくとも３つの該遮光性ポインタの影が指し示した位置に、ウェーハ外周縁が位置づけられて該スピンナーテーブル上にウェーハが載置され、スピンナーテーブルを回転させた状態でウェーハ中心に該薬液が供給されてウェーハの上面に薬液が塗布されること、を特徴とする薬液塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ウェーハ等のワークの上面に薬液を塗布する薬液塗布装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体製造工程においては、半導体ウェーハ等の上面に薬液を均一に塗布することで保護膜や絶縁膜等の表面膜が形成される。表面膜の形成方法としては、スピンナーテーブルの上面にウェーハが載置され、スピンナーテーブルを回転させた状態でウェーハの上面中心部に薬液を垂らす、いわゆるスピンナーコーティングという方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の方法では、ウェーハの上面中心部に垂らされた薬液が遠心力を受けて外周側に広げられることで、ウェーハの全面に均一に薬液が塗布される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１６−０４３２９３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、開発品等で数枚のウェーハの上面に薬液を塗布する際には、専用装置を用いずにオペレータがスピンナーテーブル上にウェーハを載置し、回転中のスピンナーテーブル上のウェーハに対して手作業で薬液を垂らして塗布される。この場合、オペレータの目視でスピンナーテーブルの中心にウェーハ中心を位置づける必要があるが、手作業ではスピンナーテーブルに対してウェーハを精度よく位置づけることは難しい。スピンナーテーブルに対してウェーハを何度も置き直しすることで、ウェーハの載置に時間を要すると共にウェーハが傷付けられてしまうおそれがあった。

【0005】

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、手作業でスピンナーテーブルの中心にウェーハ中心を精度よく位置づけて載置することができる薬液塗布装置を提供することを目的の１つとする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一態様の薬液塗布装置は、ウェーハの上面に薬液を塗布する薬液塗布装置であって、ウェーハを上面に保持し回転可能なスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブル上に保持されたウェーハ外周縁に向けて光を照射する少なくとも３つの光照射手段と、ウェーハの上面に薬液を供給する薬液供給部と、を備え、各光照射手段から照射された少なくとも３つの光のそれぞれが離間してウェーハ外周縁を指し示し且つ該少なくとも３つの光が指し示す位置を結んだ円の中心がテーブル回転中心となる位置で各該光照射手段は配設され、該光照射手段の該少なくとも３つの光が指し示す位置にウェーハ外周縁が位置づけられて該スピンナーテーブル上にウェーハが載置され、スピンナーテーブルを回転させた状態でウェーハ中心に該薬液が供給されてウェーハの上面に薬液が塗布されること、を特徴とする。

【0007】

この構成によれば、少なくとも３つの光が指し示す位置を結んだ円の中心がテーブル回転中心になるため、スピンナーテーブルに対するウェーハの位置合わせ箇所が少なくとも３つの光で指し示される。このため、少なくとも３つの光がウェーハ外周縁を指し示すように、オペレータが目視で確認しながらスピンナーテーブルにウェーハを載置することで、手作業であってもスピンナーテーブルのテーブル回転中心にウェーハ中心を的確に位置づけることができる。スピンナーテーブルに対してウェーハが位置合わせし易くなるため、ウェーハを短時間で載置できると共に、ウェーハの置き直しが頻繁に起こらないためウェーハが傷付けられることがない。

【0008】

本発明の一態様の薬液塗布装置において、該光照射手段の光を透過しない材質で形成され１点を指し示す先端を備える遮光性ポインタを該光照射手段と同一数備え、該少なくとも３つの光が指し示す位置とは、該スピンナーテーブルと各該光照射手段との間で、該光照射手段から照射された光が該遮光性ポインタで遮光され該遮光性ポインタ先端の影がウェーハ外周縁を指し示す位置であり、少なくとも３つの該遮光性ポインタの影が指し示した位置に、ウェーハ外周縁が位置づけられて該スピンナーテーブル上にウェーハが載置され、スピンナーテーブルを回転させた状態でウェーハ中心に該薬液が供給されてウェーハの上面に薬液が塗布される。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、スピンナーテーブルに対するウェーハの位置合わせ箇所が少なくとも３つの光で指し示されるため、手作業であってもスピンナーテーブルのテーブル回転中心にウェーハ中心を的確に位置づけることができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本実施の形態の薬液塗布装置の側面模式図である。

【図2】本実施の形態のウェーハの位置合わせの説明図である。

【図3】本実施の形態のウェーハへの薬液供給の説明図である。

【図4】本実施の形態の薬液の塗布作業の一例を示す図である。

【図5】変形例の薬液塗布装置の一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、添付図面を参照して、本実施の形態の薬液塗布装置について説明する。図１は、本実施の形態の薬液塗布装置の側面模式図である。なお、本実施の形態の薬液塗布装置は、手動で薬液を塗布する際に使用されるスピンコート用の装置であれば、どのように構成されていてもよい。

【0012】

図１に示すように、薬液塗布装置１は、製品の開発段階等で使用されるスピンコート用の装置であり、オペレータが手動にてスピンナーテーブル２０上にウェーハＷを載置して、回転中のウェーハＷの上面に薬液を垂らすように構成されている。スピンコートでは、ウェーハ中心Ｏ１に垂らされた薬液が遠心力によってウェーハＷの上面全体に広げられることで塗布される。この場合、オペレータが目視でスピンナーテーブル２０にウェーハＷを位置合わせするため、ウェーハＷの上面に均一に薬液が広がらないため、薬液の塗りムラが生じて塗布をし直さなければならない。

【0013】

このため、本実施の形態の薬液塗布装置１では、ウェーハＷに向けて照射した光を部分的に遮光した影で、スピンナーテーブル２０に対するウェーハＷの位置合わせ箇所を指し示すようにしている。ウェーハＷ上の影を目印にしてオペレータが手動で位置合わせすることで、手作業であってもテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１を的確に位置づけることが可能になっている。なお、薬液はウェーハＷの上面に保護膜や絶縁膜等の表面膜が形成可能であればよく、例えばＰＶＡ（Polyvinyl Alcohol）等の液状樹脂が使用される。また、ウェーハＷは、保護被膜の形成対象であればよく、シリコン等の半導体ウェーハでもよいし、サファイア等の光デバイスウェーハでもよい。

【0014】

薬液塗布装置１のカバー部１０の内側には、ウェーハＷを保持するスピンナーテーブル２０が回転可能に収容されている。スピンナーテーブル２０の上面には、ポーラスセラミック材により保持面２１が形成されており、保持面２１に生じる負圧によってウェーハＷが吸引保持される。また、スピンナーテーブル２０の下部にはモータ（不図示）が連結されており、モータによってスピンナーテーブル２０が回転駆動される。また、ウェーハＷに対する薬液の塗布時にウェーハＷの外周縁に到達した薬液がスピンナーテーブル２０に付着しないように、スピンナーテーブル２０がウェーハＷよりも小径に形成されている。

【0015】

カバー部１０の側壁には、スピンナーテーブル２０上のウェーハ外周縁Ｗａの位置合わせ箇所をパターン投影によって指し示す第１の投影機構３０が設けられている。第１の投影機構３０は、カバー部１０の側壁に周方向に等間隔で３箇所（２箇所のみ図示）設けられており、各光照射手段３１から各遮光性ポインタ３２に光を照射して、各遮光性ポインタ３２の影をウェーハ外周縁Ｗａ付近に投影させている。光照射手段３１はカバー部１０の側壁から内側に突出したアーム３３の先端に支持されており、遮光性ポインタ３２は光照射手段３１の下方でアーム３３の先端に支持されている。

【0016】

光照射手段３１は、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが保持された状態で、ウェーハ外周縁Ｗａに向けて光を照射している。遮光性ポインタ３２は、光照射手段３１の光を透過しない材料で形成され、１点を指し示す先細りの先端をウェーハ外周縁Ｗａ側に向けている。スピンナーテーブル２０と光照射手段３１との間で、光照射手段３１から照射された光が遮光性ポインタ３２で遮光され、遮光性ポインタ３２の先端の影によってウェーハ外周縁Ｗａが指し示される。すなわち、光照射手段３１とウェーハ外周縁Ｗａの間に遮光性ポインタ３２の先端が位置付けられている。

【0017】

また、カバー部１０の側壁には、スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷが位置合わせされた状態で、スピンナーテーブル２０上のウェーハ中心Ｏ１をパターン投影によって指し示す第２の投影機構４０が設けられている。第２の投影機構４０は、カバー部１０の側壁に設けられており、光照射手段４１から遮光性ポインタ４２に光を照射して、遮光性ポインタ４２の影を回転中心となるウェーハ中心Ｏ１付近に投影させている。光照射手段４１はカバー部１０の側壁に設けられており、遮光性ポインタ４２は光照射手段４１の下方でカバー部１０の側壁に支持されている。

【0018】

光照射手段４１は、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが保持された状態で、ウェーハＷの上面に光を照射している。遮光性ポインタ４２は、光照射手段４１の光を透過しない材料で形成され、１点を指し示す先細りの先端をウェーハ中心Ｏ１側に向けている。スピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１を位置付けて載置したウェーハＷと光照射手段４１の間で、光照射手段４１から照射された光が遮光性ポインタ４２で遮光され、遮光性ポインタ４２の先端の影によってウェーハ中心Ｏ１が指し示される。すなわち、光照射手段４１とウェーハ中心Ｏ１の間に遮光性ポインタ４２の先端が位置付けられている。

【0019】

薬液塗布装置１には、ウェーハＷの上面に薬液を供給する薬液供給部５０が設けられている。薬液供給部５０は薬液が入れられた容器であり、オペレータによってウェーハＷの上方に位置付けられた状態で薬液供給部５０からウェーハＷの上面に薬液が供給される。このように構成された薬液塗布装置１では、第１の投影機構３０の各遮光性ポインタ３２の影が指した３点にウェーハ外周縁Ｗａを位置付けてスピンナーテーブル２０上にウェーハＷが載置される。そして、スピンナーテーブル２０を回転させて、第２の投影機構４０の遮光性ポインタ４２の影が指した１点に薬液を供給してウェーハＷの上面に薬液が塗布される。

【0020】

図２及び図３を参照して、ウェーハの位置合わせ及びウェーハへの薬液供給について説明する。図２は、本実施の形態のウェーハの位置合わせの説明図である。図３は、本実施の形態のウェーハへの薬液供給の説明図である。なお、図２Ａは第１の投影機構による遮光状態の斜視図、図２Ｂは第１の投影機構による遮光状態の側面図をそれぞれ示している。また、図３Ａは第２の投影機構による遮光状態の斜視図、図３Ｂは第２の投影機構による遮光状態の側面図をそれぞれ示している。また、説明の便宜上、図２では第２の投影機構を省略し、図３では第１の投影機構を省略して記載している。

【0021】

図２Ａ及び図２Ｂに示すように、第１の投影機構３０は、ウェーハＷの位置合わせ箇所Ｐと光照射手段３１との間に遮光性ポインタ３２の先端を位置付けている。光照射手段３１から照射された光は遮光性ポインタ３２に遮られ、遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１をウェーハＷの上面に映し出している。このときの遮光性ポインタ３２の先細りの先端の影Ｓ１が位置合わせ箇所Ｐを指し示しており、且つ遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１が指し示す３点の位置合わせ箇所Ｐを結んだ円の中心がスピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２となる位置に光照射手段３１が設置されている。

【0022】

また、遮光性ポインタ３２毎に光照射手段３１が設けられており、それぞれウェーハＷに近い位置で遮光性ポインタ３２の影Ｓ１をウェーハＷの上面に投影させている。これにより、ウェーハＷに映される遮光性ポインタ３２の影Ｓ１の明暗がはっきりするため、光照射手段３１から拡散光が照射されても遮光性ポインタ３２の影Ｓ１の輪郭がぼやけて曖昧になることがない。３つの遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１が指し示す３点をオペレータが目視で確認しながら、この遮光性ポインタ３２の影Ｓ１が示す３点全てにウェーハ外周縁Ｗａが一致するように、スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷが位置合わせされる。

【0023】

この場合、スピンナーテーブル２０がウェーハＷよりも小径に形成されているため、スピンナーテーブル２０にウェーハＷが載置されるまでは、ウェーハ外周縁Ｗａの位置合わせ箇所を示す遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１をオペレータが確認することができない。このため、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが仮置きされ、ウェーハＷの上面に投影された遮光性ポインタ３２の影Ｓ１を手掛かりにしてウェーハＷの位置が微調整される。このようにして、手動であってもウェーハ中心Ｏ１がテーブル回転中心Ｏ２に的確に位置づけられ、スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷが載置される。

【0024】

図３Ａ及び図３Ｂに示すように、第２の投影機構４０は、ウェーハ中心Ｏ１と光照射手段４１との間に遮光性ポインタ４２の先端を位置づけている。光照射手段４１から照射された光は遮光性ポインタ４２に遮られ、遮光性ポインタ４２の先端の影Ｓ２をウェーハＷの上面に映し出している。このときの遮光性ポインタ４２の先細りの先端の影Ｓ２がウェーハ中心Ｏ１を指し示すような位置関係で、遮光性ポインタ４２と光照射手段４１が設置されている。また、遮光性ポインタ４２及び光照射手段４１はウェーハ中心Ｏ１の真上から外れた位置に設置されているため、ウェーハ中心Ｏ１に薬液Ｌを供給する際に薬液供給部５０の邪魔になることがない。

【0025】

また、第２の投影機構４０においても、第１の投影機構３０と同様に、光照射手段４１はウェーハＷに近い位置で遮光性ポインタ４２の影Ｓ２をウェーハＷの上面に投影させている。これにより、ウェーハＷに映される遮光性ポインタ４２の影Ｓ２の明暗がはっきりするため、光照射手段４１から拡散光が照射されても遮光性ポインタ４２の影Ｓ２の輪郭がぼやけて曖昧になることがない。遮光性ポインタ４２の先端の影Ｓ２が指し示す１点をオペレータが目視で確認しながら、この遮光性ポインタ４２の影Ｓ２が示す１点を狙って薬液供給部５０から薬液Ｌが垂らされ、ウェーハＷの上面に薬液が塗布される。

【0026】

この場合、ウェーハ中心Ｏ１がスピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２に一致しているため、スピンナーテーブル２０にウェーハＷが偏心することなくウェーハＷが回転されている。このため、ウェーハＷの上面に投影された遮光性ポインタ４２の先端の影Ｓ２を狙って薬液供給部５０から薬液Ｌが垂らされることで、遠心力によってウェーハ中心Ｏ１からウェーハ外周縁Ｗａに向かって薬液Ｌが均一に広げられる。このようにして、手動であってもウェーハ中心Ｏ１に対して薬液Ｌが的確に供給され、ウェーハＷの上面全体に対して均一な厚みで薬液Ｌが塗布される。

【0027】

なお、本実施の形態では、第１、第２の投影機構３０、４０の光照射手段３１、４１が拡散光を照射する構成にしたが、光照射手段３１、４１が平行光を照射する構成にしてもよい。例えば、図５Ａに示すように、第２の投影機構４０の光照射手段４１の光軸上にコリメートレンズ４３等を設置して、平行光を作り出すようにしてもよい。これにより、ウェーハＷの上面には遮光性ポインタ４２の影Ｓ２がより明確に映し出されて、ウェーハ中心Ｏ１がより的確に指し示される。また、平行光であるため、光照射手段４１をウェーハＷから遠くに離しても、遮光性ポインタ４２の影Ｓ２の輪郭が曖昧になることがない。

【0028】

続いて、図４を参照して、薬液塗布装置を用いた薬液の塗布作業について説明する。図４は、本実施の形態の薬液の塗布作業の一例を示す図である。なお、図４Ａ及び図４Ｂはウェーハ載置ステップ、図４Ｃは薬液塗布ステップの一例を示す図である。また、図４では、第１の投影機構の光照射手段から拡散光が照射され、第２の投影機構の光照射手段から平行光が照射される一例を示している。

【0029】

図４Ａに示すように、ウェーハ載置ステップでは、第１の投影機構３０の各光照射手段３１からスピンナーテーブル２０の外周側の３箇所に光が照射される。各光照射手段３１の光が各遮光性ポインタ３２で遮られて、遮光性ポインタ３２の影Ｓ１がスピンナーテーブル２０の上面に映し出される。しかしながら、遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１がスピンナーテーブル２０から外れているため、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが的確に載置されるまでは、遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１が指し示す位置合わせ箇所をオペレータが目視で確認することができない。このため、スピンナーテーブル２０の保持面２１上を滑らせるようにして、ウェーハＷがスピンナーテーブル２０上に仮置きされる。

【0030】

次に、図４Ｂに示すように、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが仮置きされると、ウェーハＷの上面に遮光性ポインタ３２の影Ｓ１が映し出される。このとき、遮光性ポインタ３２の先端の影Ｓ１がウェーハ外周縁Ｗａの３点の位置合わせ箇所Ｐを指し示すため、ウェーハ中心Ｏ１がテーブル回転中心Ｏ２に一致するまでは、各遮光性ポインタ３２の影Ｓ１によって３点全ての位置合わせ箇所Ｐがウェーハ外周縁Ｗａに映し出されない。スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷの位置を微調整することで、ウェーハＷの上面で各遮光性ポインタ３２の影Ｓ１が指し示す３点がウェーハ外周縁Ｗａになるように載置される。

【0031】

このように、オペレータがウェーハＷの上面の遮光性ポインタ３２の影Ｓ１を目視しながら、手作業でスピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１が的確に位置づけられる。スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷが位置合わせし易くなるため、位置合わせ時間を短くすることができると共に、ウェーハＷの置き直しが頻繁に起こらないためウェーハＷが傷付くことがない。また、スピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１が位置付けられているため、スピンナーテーブル２０のウェーハＷが偏心回転することがない。

【0032】

次に、図４Ｃに示すように、ウェーハ載置ステップの後に薬液塗布ステップが実施される。薬液塗布ステップでは第１の投影機構３０の各光照射手段３１の照射が停止され、スピンナーテーブル２０が回転されると共に、第２の投影機構４０の光照射手段４１からウェーハ中心Ｏ１付近に光が照射される。光照射手段４１の光が遮光性ポインタ４２で遮られて、遮光性ポインタ４２の影Ｓ２がウェーハＷの上面に映し出される。遮光性ポインタ４２の先端の影Ｓ２がウェーハ中心Ｏ１を指し示しているため、遮光性ポインタ４２の先端の影Ｓ２が指し示す１点を狙って薬液供給部５０から薬液Ｌが垂らされる。

【0033】

スピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１が一致し、ウェーハ中心Ｏ１に薬液Ｌが垂らされ続けるため、ウェーハ中心Ｏ１からウェーハＷの表面全体に薬液Ｌが均一に広げられる。このように、オペレータがウェーハＷの上面の遮光性ポインタ４２の影Ｓ２を目視しながら、手作業でウェーハ中心Ｏ１に的確に薬液Ｌを供給することができる。ウェーハＷに対して薬液Ｌを供給し易くなるため、薬液Ｌの塗布をし直す必要が無くなり薬液Ｌの無駄を省くことができる。このようにして、ウェーハＷの上面全体に均一に供給された薬液Ｌによって表面膜が形成される。

【0034】

以上のように、本実施の形態の薬液塗布装置１によれば、第１の投影機構３０の光照射手段３１からの光が遮光性ポインタ３２で遮光されて、遮光性ポインタ３２の先端の３つの影Ｓ１でスピンナーテーブル２０に対するウェーハの位置合わせ箇所が指し示される。このため、３つの影Ｓ１がウェーハ外周縁Ｗａを指し示すように、オペレータが目視で確認しながらスピンナーテーブル２０にウェーハＷを載置することで、手作業であってもスピンナーテーブル２０のテーブル回転中心Ｏ２にウェーハ中心Ｏ１を的確に位置づけることができる。スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷが位置合わせし易くなるため、ウェーハＷを短時間で載置できると共に、ウェーハＷの置き直しが頻繁に起こらないためウェーハＷが傷付けられることがない。

【0035】

なお、本実施の形態では、第１の投影機構３０の３つの光照射手段３１から照射した光が、それぞれ遮光性ポインタ３２で遮光された影Ｓ１でウェーハ外周縁Ｗａが指し示される構成にしたが、この構成に限定されない。例えば、図５Ｂに示すように、３つ（２つのみ図示）の光照射手段３５は、スピンナーテーブル２０上に保持されたウェーハ外周縁Ｗａに向けてレーザー光を照射するレーザーポインタ等で構成されてもよい。３つの光照射手段３５は、３つの光のそれぞれが離間してウェーハ外周縁Ｗａを指し示し、且つ３つの光が指し示す位置を結んだ円の中心がテーブル回転中心Ｏ２となる位置に配置されている。

【0036】

この場合、スピンナーテーブル２０上にウェーハＷが仮置きされ、ウェーハＷの上面に照射された３点の光を目視で確認しながらウェーハＷの位置が微調整される。このような構成であっても、ウェーハ中心Ｏ１をテーブル回転中心Ｏ２に手動で的確に位置づけて、スピンナーテーブル２０に対してウェーハＷを載置することができる。また、レーザー光の影響を受けない薬液が用いられている場合には、第２の投影機構４０の光照射手段４１をレーザーポインタ等で構成することも可能である。

【0037】

また、本実施の形態では、薬液塗布装置１が光照射手段３１及び遮光性ポインタ３２を３つずつ備える構成にしたが、この構成に限定されない。薬液塗布装置１は、光照射手段３１及び遮光性ポインタ３２を少なくとも３つずつを備える構成であればよく、例えば、光照射手段３１及び遮光性ポインタ３２を４つずつ備えてもよい。

【0038】

また、本実施の形態では、薬液供給部５０として薬液Ｌが入った容器を例示して説明したが、この構成に限定されない。薬液供給部５０は、ウェーハＷの上面に薬液を供給できるものであればよく、例えば、スポイト、シリンジで構成されてもよい。

【0039】

また、本実施の形態では、遮光性ポインタ３２、４２は棒状に形成されているが、遮光性ポインタ３２、４２の先端の影で１点を指し示すことが可能な形状であれば、形状は特に限定されない。

【0040】

また、本実施の形態及び変形例を説明したが、本発明の他の実施の形態として、上記実施の形態及び変形例を全体的又は部分的に組み合わせたものでもよい。

【0041】

また、本発明の実施の形態は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の趣旨を逸脱しない範囲において様々に変更、置換、変形されてもよい。さらには、技術の進歩又は派生する別技術によって、本発明の技術的思想を別の仕方で実現することができれば、その方法を用いて実施されてもよい。したがって、特許請求の範囲は、本発明の技術的思想の範囲内に含まれ得る全ての実施形態をカバーしている。

【0042】

また、本実施の形態では、本発明をウェーハの成膜装置に適用した構成について説明したが、ウェーハ外周縁の位置合わせ箇所を指し示す必要がある他の装置に適用することも可能である。

【産業上の利用可能性】

【0043】

以上説明したように、本発明は、手作業でスピンナーテーブルの中心にウェーハ中心を精度よく位置づけて載置することができるという効果を有し、特に、ウェーハの上面にＰＶＡ等で保護膜を形成する薬液塗布装置に有用である。

【符号の説明】

【0044】

１ 薬液塗布装置
２０ スピンナーテーブル
３０ 第１の投影機構
３１、３５ 光照射手段
３２ 遮光性ポインタ
５０ 薬液供給部
Ｏ１ ウェーハ中心
Ｏ２ テーブル回転中心
Ｗ ウェーハ
Ｗａ ウェーハ外周縁

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】