特許 6794917 排ガス処理方法、排ガス処理装置、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6794917

(24)【登録日】2020年11月16日

(45)【発行日】2020年12月2日

(54)【発明の名称】排ガス処理方法、排ガス処理装置、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03B 5/16 20060101AFI20201119BHJP

   B01D 53/46 20060101ALI20201119BHJP

【ＦＩ】

   C03B5/16ZAB

   B01D53/46

【請求項の数】10

【全頁数】17

(21)【出願番号】特願2017-85491(P2017-85491)

(22)【出願日】2017年4月24日

(65)【公開番号】特開2018-184308(P2018-184308A)

(43)【公開日】2018年11月22日

【審査請求日】2020年2月6日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000044

【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100152984

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 秀明

(74)【代理人】

【識別番号】100121393

【弁理士】

【氏名又は名称】竹本 洋一

(74)【代理人】

【識別番号】100168985

【弁理士】

【氏名又は名称】蜂谷 浩久

(72)【発明者】

【氏名】赤木 亮介

(72)【発明者】

【氏名】田中 俊幸

【審査官】 有田 恭子

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１４／０７７１１４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２００９／０７２６１２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０６−２６２０３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１２／１６１２７４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００４−２３８２３６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０３Ｂ ５／１６

Ｂ０１Ｄ ５３／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガラス原料を溶解するガラス溶解工程と、
前記ガラス溶解工程で発生した排ガスに冷却用水溶液を接触させて冷却後排ガスを得る冷却工程と、
前記冷却後排ガスにアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を接触させて接触後排ガスを得ながら、前記冷却後排ガスと前記粉末との反応物を粉体として回収する粉体回収工程と、
前記接触後排ガスに冷却用液体を接触させて清浄ガスを得ながら、前記接触後排ガスと前記冷却用液体との反応液を排液として回収する排液処理工程と、を備え、
前記排液処理工程は、前記排液をｐＨ５〜９、温度４０℃以上に調整することにより処理液を作製し、前記冷却工程に前記処理液を送り戻し、
前記冷却工程は、前記排ガスに前記処理液を接触させ、前記排ガスと前記冷却用水溶液との反応により反応物が生成され、前記反応物を固形物として回収することを特徴とする排ガス処理方法。

【請求項2】

前記冷却用水溶液は、水酸化ナトリウム水溶液または水酸化マグネシウム水溶液である、請求項１に記載の排ガス処理方法。

【請求項3】

前記アルカリ金属塩は、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸ナトリウムである、請求項１または２に記載の排ガス処理方法。

【請求項4】

前記アルカリ土類金属塩は、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、または炭酸カルシウムと炭酸マグネシウムとの複塩である、請求項１または２に記載の排ガス処理方法。

【請求項5】

前記粉体回収工程と前記排液処理工程との間に、前記接触後排ガスに含まれる窒素酸化物を除去する脱硝工程を有し、
前記脱硝工程は、前記接触後排ガスが触媒層を通る前に、アンモニアガスを注入する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の排ガス処理方法。

【請求項6】

排ガスを発生するガラス溶解炉と、冷却塔と、バグフィルターと、スクラバーと、を備える排ガス処理装置であって、
前記冷却塔は、前記排ガスに冷却用水溶液を噴霧して冷却後排ガスを得るノズルを備え、
前記バグフィルターは、濾布と、粉体回収手段と、を備え、
前記濾布は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を担持し、前記冷却後排ガスを前記粉末に接触させて接触後排ガスとし、
前記粉体回収手段は、前記冷却後排ガスと前記粉末との反応物を粉体として回収し、
前記スクラバーは、前記接触後排ガスに冷却用液体を噴霧して清浄ガスおよび排液を得るノズルと、前記排液のｐＨおよび温度を調整して処理液とする調整手段と、前記冷却塔に前記処理液を送り出すための戻し配管と、を備え、
前記冷却塔は、前記排ガスに前記処理液を噴霧するノズルを備え、
前記冷却塔は、冷却塔本体で生成した反応物を固形物として回収する固形物回収手段を前記冷却塔本体の底部に備えることを特徴とする排ガス処理装置。

【請求項7】

前記スクラバーは、プレスクラバーと、前記プレスクラバーに連結して設けられたスクラバー本体と、を備え、
前記スクラバー本体は、内部に充填層を備える、請求項６に記載の排ガス処理装置。

【請求項8】

請求項６または７に記載の排ガス処理装置と、前記ガラス溶解炉より下流側に設けられ、溶融ガラスを成形する成形炉と、前記成形炉より下流に設けられ、成形されたガラスを徐冷する徐冷炉と、を備えるガラス物品の製造装置。

【請求項9】

請求項８に記載のガラス物品の製造装置を用いたガラス物品の製造方法。

【請求項10】

前記ガラス物品は、ホウケイ酸ガラスである、請求項９に記載のガラス物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、排ガス処理方法、排ガス処理装置、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ガラス溶解炉で発生した排ガス中には、ガラス原料を溶解するのに用いる燃料、ガラス原料などに由来する種々の成分が含まれる。例えば、ガラス原料を火炎によって溶解するのに重油を用いる場合には、排ガス中に硫黄成分が含まれる。また、ホウケイ酸ガラスを製造する場合には、排ガス中にホウ素成分が含まれる。これらの成分はそのまま大気中に放出すると、環境に悪影響を及ぼすおそれがあるので、排ガスからこれらの成分を除去する方法が種々検討されている。

【0003】

特許文献１には、ホウ素成分を含有する排ガスに固体アルカリ金属炭酸塩および／または固体アルカリ金属炭酸水素塩を添加して、排ガス中のホウ素成分を除去する方法が記載されている。

【0004】

また、特許文献２には、排ガス中の硫黄成分およびホウ素成分を除去する方法として、排ガスに冷却用水および接触用水を接触させて、排ガス中の硫黄成分およびホウ素成分を水に溶解させて除去する方法が記載されている。この方法で生じる、硫黄成分およびホウ素成分を含む排液は、中和した後に冷却用水または接触用水として再利用できるようになっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００３−１０６３３号公報

【特許文献2】国際公開２００９／０７２６１２号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、特許文献１に記載の方法は、乾式の排ガス処理設備による排ガス処理方法であるため、排ガス中のホウ素成分を充分に除去できない場合がある。

【0007】

また、特許文献２に記載の方法は、排ガス中のホウ素成分を充分に除去でき、排液を冷却用水または接触用水として再利用できるものの、バグフィルター以降に設けられる湿式設備が肥大化して投資費用、運転費用がかかるという問題がある。

【0008】

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、排ガス中の硫黄成分、ホウ素成分などを充分に除去でき、湿式設備の投資費用、運転費用を抑制することができる排ガス処理方法、排ガス処理装置、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明は、ガラス原料を溶解するガラス溶解工程と、前記ガラス溶解工程で発生した排ガスに冷却用水溶液を接触させて冷却後排ガスを得る冷却工程と、前記冷却後排ガスにアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を接触させて接触後排ガスを得ながら、前記冷却後排ガスと前記粉末との反応物を粉体として回収する粉体回収工程と、前記接触後排ガスに冷却用液体を接触させて清浄ガスを得ながら、前記接触後排ガスと前記冷却用液体との反応液を排液として回収する排液処理工程と、を備え、前記排液処理工程は、前記排液をｐＨ５〜９、温度４０℃以上に調整することにより処理液を作製し、前記冷却工程に前記処理液を送り戻し、前記冷却工程は、前記排ガスに前記処理液を接触させることを特徴とする排ガス処理方法である。

【0010】

また、本発明は、排ガスを発生するガラス溶解炉と、冷却塔と、バグフィルターと、スクラバーと、を備える排ガス処理装置であって、前記冷却塔は、前記排ガスに冷却用水溶液を噴霧して冷却後排ガスを得るノズルを備え、前記バグフィルターは、濾布と、粉体回収手段と、を備え、前記濾布は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を担持し、前記冷却後排ガスを前記粉末に接触させて接触後排ガスとし、前記粉体回収手段は、前記冷却後排ガスと前記粉末との反応物を粉体として回収し、前記スクラバーは、前記接触後排ガスに冷却用液体を噴霧して清浄ガスおよび排液を得るノズルと、前記排液のｐＨおよび温度を調整して処理液とする調整手段と、前記冷却塔に前記処理液を送り出すための戻し配管と、を備え、前記冷却塔は、前記排ガスに前記処理液を噴霧するノズルを備えることを特徴とする排ガス処理装置である。

【発明の効果】

【0011】

本発明の排ガス処理方法、排ガス処理装置、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法によれば、簡易な湿式設備で、排ガス中の硫黄成分、ホウ素成分などを充分に除去でき、かつ、排液を再利用することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の一実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。

【図2】本発明の一実施形態に係る冷却塔であって、（Ａ）は冷却塔の要部を拡大した断面模式図であり、（Ｂ）は冷却塔の平面図である。

【図3】本発明の一実施形態に係るスクラバーの概略図である。

【図4】本発明の一実施形態に係る排ガス処理方法を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係る排ガス処理装置、排ガス処理方法、ガラス物品の製造装置およびガラス物品の製造方法について説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。

【0014】

［排ガス処理装置］
図１は、本発明の一実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。図２は、本発明の一実施形態に係る冷却塔であって、（Ａ）は冷却塔の要部を拡大した断面模式図であり、（Ｂ）は冷却塔の平面図である。

【0015】

図１を用いて、本発明の一実施形態に係る排ガス処理装置１について説明する。

【0016】

本実施形態の排ガス処理装置１は、排ガスＧ１を発生するガラス溶解炉１０と、冷却塔２０と、バグフィルター３０と、粉末供給装置３５と、脱硝装置４０と、スクラバー５０と、メインファン６０と、煙突７０とを備える。

【0017】

ガラス溶解炉１０は、バーナーの火炎をガラス原料に向かって放射することにより、ガラス原料を加熱溶解し、排ガスＧ１を生じる。バーナーは、天然ガスや重油などの燃料をガスと混合して燃焼することで火炎を形成する。バーナーには、ガスとして主に空気を用いる空気燃焼バーナー、またはガスとして主に酸素を用いる酸素燃焼バーナーが用いられる。

【0018】

排ガスＧ１は、重油を用いたバーナー燃焼により、重油に由来する硫黄成分を含む。また、排ガスＧ１は、清澄剤に由来する硫黄成分、フッ素成分、塩素成分などを含む。また、排ガスＧ１は、ホウケイ酸ガラスを製造する場合、溶融ガラスから揮発しやすいホウ素成分を含む。排ガスＧ１中の硫黄成分は主に硫黄酸化物（ＳＯ_Ｘ）、塩素成分は主に塩化水素（ＨＣｌ）、フッ素成分は主にフッ化水素（ＨＦ）、ホウ素成分は主にホウ酸（Ｈ_３ＢＯ_３）である。

【0019】

次に、図１、２を用いて、本発明の一実施形態に係る冷却塔２０について説明する。

【0020】

冷却塔２０は、入口部２１と、拡径部２３と、冷却塔本体２５と、スプレーノズル２６と、固形物回収手段２７と、出口部と、を備える。

【0021】

図２に示したように、冷却塔本体２５は、円筒状に直立して設けられる。拡径部２３は、冷却塔本体２５の上部に連結して設けられる。入口部２１は、拡径部２３の上部に連結して設けられる。入口部２１は、冷却塔２０に流入した排ガスＧ１の流れを水平方向から鉛直方向下向きに変更する。

【0022】

拡径部２３の横断面の径は、入口部２１から冷却塔本体２５に向けて漸次拡大する。拡径部２３の横断面は、典型的には円形状であるが、矩形状であってもよい。拡径部２３は、入口部２１を通過した排ガスＧ１の流速を低下させる。

【0023】

冷却塔本体２５は、内部に反応空間を備え、拡径部２３を通過した排ガスＧ１と冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２との反応により反応物を生成する。

【0024】

スプレーノズル２６は、拡径部２３の側面に設けられ、排ガスＧ１の流れ方向に冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２を噴霧して排ガスＧ１を冷却する。これにより、冷却後排ガスＧ２の温度を下げて、後述するバグフィルター３０内の濾布が熱によって損傷されるのを防ぐことができる。また、排ガスＧ１と冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２とを反応させ、排ガスＧ１中の硫黄成分または塩素成分を除去する。

【0025】

本実施形態の冷却用水溶液Ｌ２１は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液、処理液Ｌ２２は、水酸化ナトリウムを主成分とする水溶液である。水酸化ナトリウムは、安価で取り扱いやすいことから一般的な酸性排液の中和剤として利用されている。

【0026】

図２（Ａ）に示すように、スプレーノズル２６は、ノズルの噴射口から放射状に冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２を噴霧する。スプレーノズル２６の噴射角αは、３０〜７０°が好ましく、４０〜６０°がより好ましい。噴射角αが３０°以上だと、冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２が冷却塔本体２５の全体に行き渡り、排ガスＧ１中の硫黄成分または塩素成分を充分に除去することができる。また、噴射角αが７０°以下だと、冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２と排ガスＧ１との反応物が冷却塔本体２５の壁面に大量に付着するのを防ぐことができる。反応物が壁面に大量に付着すると、冷却塔本体２５が閉塞する原因となる。

【0027】

図２（Ｂ）に示すように、スプレーノズル２６は複数設けられ、それぞれ拡径部２３の中心と同心円上で周方向に間隔を空けて設置される。

【0028】

本実施形態では、スプレーノズル２６の本数は９本だが、本発明はこれに限定されず、２〜２０本が好ましく、２〜１５本がより好ましい。スプレーノズル２６の本数が２本以上だと、冷却用水溶液Ｌ２１と処理液Ｌ２２とを別々に噴霧することができる。また、スプレーノズル２６の本数が２０本以下だと、各スプレーノズル２６は、周方向に間隔を空けて設置することができる。本数が多い場合は、拡径部２３の中心と同心円上で径方向に２列以上設置してもよい。

【0029】

９本のスプレーノズル２６は、例えば、６本は冷却用水溶液Ｌ２１を噴霧し、３本は処理液Ｌ２２を噴霧する。ここで、後述するように処理液Ｌ２２は、四ホウ酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｂ_４Ｏ_７）またはホウ酸マグネシウム（ＭｇＢ_２Ｏ_４）を含むため、四ホウ酸ナトリウムまたはホウ酸マグネシウムが析出しないように温度を管理する必要がある。そのため、冷却用水溶液Ｌ２１と処理液Ｌ２２は、混合させずに、別々に噴霧するのが好ましい。

【0030】

スプレーノズル２６の合計流量は、排ガスＧ１の流量によって適宜調整が必要となるが、１０００〜５０００Ｌ／ｈが好ましく、２０００〜４０００Ｌ／ｈがより好ましい。

【0031】

なお、本実施形態では、冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２を噴霧するのにスプレーノズル２６を用いているが、本発明はこれに限定されず、排ガスＧ１に液体を噴霧または噴射することができる接触手段であればよい。

【0032】

冷却塔２０の固形物回収手段２７は、冷却塔本体２５の底部に設けられる。固形物回収手段２７は、冷却塔本体２５で生成した反応物を固形物Ｓ２として回収する。固形物Ｓ２は、排ガスＧ１中の硫黄成分に由来する硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_４）と、排ガスＧ１中の塩素成分に由来する塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）と、を含む。

【0033】

冷却塔２０の出口部は、冷却塔本体２５の下部側面に連結して設けられる。出口部は、冷却後排ガスＧ２を排出する。

【0034】

入口部２１における排ガスＧ１の温度Ｔ１は、７００〜９００℃が好ましい。温度Ｔ１が７００℃以上だと、排ガスＧ１中の硫黄成分または塩素成分は、冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２と充分に反応する。また、温度Ｔ１が９００℃以下だと、冷却塔２０内の損傷を防ぐことができる。

【0035】

本実施形態の冷却用水溶液Ｌ２１は、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液であるが、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）_２）水溶液であってもよい。この場合、処理液Ｌ２２は、水酸化マグネシウムを主成分とする水溶液である。排ガスＧ１中の各成分は、冷却用水溶液Ｌ２１、処理液Ｌ２２と反応し、排ガスＧ１中の硫黄成分は、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ_４）となり、排ガスＧ１中の塩素成分は、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ_２）となる。

【0036】

水酸化マグネシウムは、安価で取り扱いやすいことから一般的な酸性排液の中和剤として利用されているが、水への溶解度が低く、通常はスラリー状態であるため、液を循環させて再利用する場合には配管の詰まりを起こすことが懸念される。しかし、処理液Ｌ２２は、ホウ素成分を含むため、水酸化マグネシウムがスラリー状態にはならず、詰まりの問題を起こさずに、スクラバー５０から冷却塔２０に送り出すことができる。

【0037】

冷却用水溶液Ｌ２１の濃度Ｃ２１は、０．３％以上が好ましく、０．５％以上がより好ましい。また、濃度Ｃ２１は、２．０％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましい。濃度Ｃ２１が０．３％以上だと、排ガスＧ１中の硫黄成分または塩素成分を充分に除去することができる。また、濃度Ｃ２１が２．０％以下だと、冷却用水溶液Ｌ２１の乾固化によってスプレーノズル２６が閉塞するのを防ぎ、かつ、固形物Ｓ２の排出量を低減することができる。

【0038】

図１におけるバグフィルター３０は、３つのバグフィルター本体３１と、粉体回収手段３７とを備える。

【0039】

バグフィルター本体３１は、内部に濾布を備え、隣り合うバグフィルター本体３１と連結され、冷却後排ガスＧ２が通過する流路を形成する。

【0040】

濾布は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を担持し、冷却後排ガスＧ２を粉末に接触させて接触後排ガスＧ３とする。冷却後排ガスＧ２は粉末と反応し、冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分、フッ素成分または塩素成分は除去される。また、冷却後排ガスＧ２中の煤塵は、濾布で捕集して除去される。

【0041】

濾布の材質は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）樹脂を用いるのが好ましい。ポリテトラフルオロエチレンは、化学的に安定で、耐熱性、耐薬品性の点で優れている。

【0042】

バグフィルター本体３１は、濾布の上方にガスノズルを備える。バグフィルター本体３１は、ガスノズルを用いて濾布に圧縮空気を吹き付け、濾布が担持する粉末、および冷却後排ガスＧ２と粉末との反応物を払い落とす。ガスノズルは、圧縮空気の代わりに、酸素や窒素などのガスを用いてもよい。

【0043】

粉体回収手段３７は、粉末および反応物を粉体Ｓ３として回収する。粉体回収手段３７は、３つのバグフィルター本体３１の底部から回収された粉体Ｓ３をコンベヤー等で運搬し、一箇所に集約する。

【0044】

バグフィルター３０は、冷却後排ガスＧ２中のフッ素成分を除去できるので、接触後排ガスＧ３，Ｇ４によりスクラバー５０にフッ素成分が混入するのを防止することができる。これにより、スクラバー５０で、フッ素成分が水酸化マグネシウムと反応してスラリー化することを防止できる。具体的には、水に難溶のフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）が生成するのを防ぐことができる。

【0045】

図１のバグフィルター３０は、バグフィルター本体３１を３つ備えているが、本発明はこれに限定されない。バグフィルター本体３１の個数は、２〜１５が好ましく、２〜１０がより好ましい。バグフィルター本体３１の個数が２以上だと、冷却後排ガスＧ２が通過する流路の距離を長くすることができ、冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分、フッ素成分または塩素成分を高効率で除去することができる。また、バグフィルター本体３１の個数が１５以下だと、設備の投資費用、運転費用を抑制することができる。バグフィルター本体３１の個数は、１つであってもよい。

【0046】

粉末供給装置３５は、３つの粉末供給装置本体３６を備える。

【0047】

粉末供給装置本体３６は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を、配管を経由してバグフィルター３０に供給する。

【0048】

粉末供給装置本体３６の個数は、バグフィルター本体３１と同じ個数にすることが好ましい。これにより、バグフィルター本体３１への粉末供給量を独立に調整することができる。

【0049】

粉末供給装置３５は、１Ｎｍ^３の冷却後排ガスＧ２に対し、１．０〜５．０ｇの粉末を供給することが好ましく、２．０〜３．０ｇの粉末を供給することがより好ましい。

【0050】

バグフィルター本体３１内の濾布は、粉末供給装置本体３６から供給される粉末の付着量が徐々に増えていくので、バグフィルター３０の入口と出口との圧力差が増大する。圧力差は、３０〜１５０ｍｍＨ_２Ｏが好ましい。圧力差が３０ｍｍＨ_２Ｏ以上だと、粉末が濾布に充分に付着しており、冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分、フッ素成分または塩素成分を充分に除去することができる。また、圧力差が１５０ｍｍＨ_２Ｏ以下だと、冷却後排ガスＧ２が流れやすくなる。

【0051】

バグフィルター３０の圧力差は、各バグフィルター本体３１の圧力差と共に調整するのが好ましい。

【0052】

アルカリ金属塩は、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ_３）または炭酸ナトリウム（Ｎａ_２ＣＯ_３）であることが好ましい。また、アルカリ土類金属塩は、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）_２）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ_３）、または炭酸カルシウムと炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ_３）との複塩であることが好ましい。複塩は、例えばドロマイトである。

【0053】

冷却後排ガスＧ２中の各成分は、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末と反応する。冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分は硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_４）または硫酸カルシウム（ＣａＳＯ_４）となり、フッ素成分はフッ化ナトリウム（ＮａＦ）またはフッ化カルシウム（ＣａＦ_２）となり、塩素成分は塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）または塩化カルシウム（ＣａＣｌ_２）となる。アルカリ土類金属塩の粉末としてドロマイト等の複塩を用いた場合、硫黄成分は硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ_４）、フッ素成分はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、塩素成分は塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ_２）をも生成する。粉体Ｓ３は、これらの反応物が混合したものである。

【0054】

アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末の平均粒子径は、１〜１００μｍが好ましく、１〜５０μｍがより好ましく、１〜３０μｍがさらに好ましい。平均粒子径が１μｍ以上だと、粉砕操作によって粉末を安価に製造することができる。また、平均粒子径が１００μｍ以下だと、冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分、塩素成分またはフッ素成分は、粉末と充分に反応して除去される。

【0055】

ここで、平均粒子径とは、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置（日機装社製のマイクロトラックＦＲＡ９２２０）により粒径を測定し、全体積を１００％として累積曲線を求めたとき、その累積体積が５０％となる点の粒径である。

【0056】

なお、粉体Ｓ３は、カルシウム成分とマグネシウム成分とを含み、平均粒子径が３０〜１００μｍであれば、無アルカリガラスのガラス原料として再利用するのに好適である。

【0057】

冷却後排ガスＧ２の温度Ｔ２は、バグフィルター３０の入口において、１８０〜２５０℃が好ましい。温度Ｔ２が１８０℃以上だと、冷却後排ガスＧ２中の硫黄成分、塩素成分またはフッ素成分は、粉末と充分に反応して除去される。また、温度Ｔ２が２５０℃以下だと、バグフィルター本体３１内の濾布が熱によって損傷されるのを防ぐことができる。

【0058】

接触後排ガスＧ３に含まれる硫黄成分の濃度は、二酸化硫黄（ＳＯ_２）換算で１００ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましく、５０ｍｇ／Ｎｍ^３以下がより好ましい。また、接触後排ガスＧ３中のフッ素成分の濃度は、３０ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましく、１０ｍｇ／Ｎｍ^３以下がより好ましく、５ｍｇ／Ｎｍ^３以下がさらに好ましい。また、接触後排ガスＧ３中の塩素成分の濃度は、１００ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましく、５０ｍｇ／Ｎｍ^３以下がより好ましい。

【0059】

硫黄成分の濃度は、赤外線吸収方式等による自動分析、または化学分析から求められる。硫黄成分の濃度は、例えば、ＩＣ（イオンクロマトグラフ）によって求められる。フッ素成分の濃度は、排ガスを定量ポンプで採取し、吸収液に吸収させ、溶液中のフッ素成分の濃度をＩＣＰで測定し、排ガス１Ｎｍ^３あたりのフッ素成分量から求める。塩素成分の濃度は、フッ素成分の濃度と同様の方法で求める。

【0060】

次に、図１を用いて、本発明の一実施形態に係る脱硝装置４０について説明する。

【0061】

脱硝装置４０は、触媒層と、ガス注入ノズルと、を備える。脱硝装置４０は、接触後排ガスＧ３が触媒層を通る前に、ガス注入ノズルを用いてアンモニア（ＮＨ_３）ガスを注入する。これにより、接触後排ガスＧ３に含まれる窒素酸化物（ＮＯ_Ｘ）が除去される。脱硝装置４０を通過した接触後排ガスＧ４は、スクラバー５０に流入する。

【0062】

触媒層は、五酸化バナジウム（Ｖ_２Ｏ_５）を活性成分とする触媒を用いるのが好ましく、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２）を担体とした（ＴｉＯ_２−Ｖ_２Ｏ_５−ＷＯ_３）触媒を用いる。

【0063】

アンモニアガスの注入量は、５〜２０Ｎｍ^３／ｈが好ましい。５Ｎｍ^３／ｈ以上だと、窒素酸化物（ＮＯ_ｘ）を充分に分解することができる。また、注入量が２０Ｎｍ^３／ｈ以下だと、接触後排ガスＧ３中の三酸化硫黄（ＳＯ_３）とアンモニア（ＮＨ_３）との反応を抑制し、硫酸水素アンモニウム（ＮＨ_４ＨＳＯ_４）の生成を減らすことができる。硫酸水素アンモニウムは、触媒細孔を閉塞させるので、生成させないことが望ましい。そのためには、前述のとおり、接触後排ガスＧ３中に含まれる硫黄成分の濃度も、合わせて調整する必要がある。よって、接触後排ガスＧ３中の硫黄成分の濃度は、二酸化硫黄（ＳＯ_２）換算で１００ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましい。

【0064】

接触後排ガスＧ３の温度Ｔ３は、脱硝装置４０の入口において、２００〜３００℃が好ましい。温度Ｔ３が２００℃以上だと、接触後排ガスＧ３中の窒素酸化物（ＮＯ_Ｘ）は、アンモニア（ＮＨ_３）ガスと充分に反応する。また、温度Ｔ３が３００℃以下だと、触媒活性が低下することを防止できる。バグフィルター３０と脱硝装置４０との間の流路に温度調整手段（例えばバーナー）を設けて加熱し、温度Ｔ３を調整するのが好ましい。バグフィルター３０の出口における温度は、２００℃以下まで下がるからである。バーナーの燃料には、例えば天然ガスを用いる。

【0065】

脱硝装置４０を通過した接触後排ガスＧ４は、窒素酸化物（ＮＯ_Ｘ）の濃度が８００ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましく、より好ましくは５００ｍｇ／Ｎｍ^３以下である。窒素酸化物の濃度は、化学発光方式等による自動計測から求める。なお、脱硝装置４０は、接触後排ガスＧ３の窒素酸化物（ＮＯ_Ｘ）の濃度が８００ｍｇ／Ｎｍ^３以下であれば、設けなくてもよい。この場合、接触後排ガスＧ３がスクラバー５０に流入することになる。

【0066】

図３は、本発明の一実施形態に係るスクラバーの概略図である。図１、３を用いて、本発明の一実施形態に係るスクラバー５０について説明する。

【0067】

スクラバー５０は、プレスクラバー５１０と、プレスクラバー５１０に連結して設けられたスクラバー本体５２０と、スクラバー本体５２０の底部に設けられた排液タンク５３０と、を備える。

【0068】

スクラバー５０は、接触後排ガスＧ４，Ｇ４１と、冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２、処理液Ｌ２２と、を反応させて清浄ガスＧ５および排液Ｌ５５を得る。冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２は、水または水酸化ナトリウム水溶液が用いられる。

【0069】

また、スクラバー５０は、排液Ｌ５５のｐＨおよび温度を調整して処理液Ｌ２２とする調整手段５３９と、排液タンク５３０と冷却塔２０とを連結する戻し配管５５０と、排液タンク５３０とスクラバー本体５２０とを連結する戻し配管５５１と、を備える。

【0070】

プレスクラバー５１０は、接触後排ガスＧ４が上部から流入し、下部へ排出される構造であり、上部にノズル５１１が設けられる。ノズル５１１は、冷却用液体Ｌ５１を接触後排ガスＧ４の流れ方向に向けて噴霧する。冷却用液体Ｌ５１の流量調整により、接触後排ガスＧ４１の温度を適切に調整できる。接触後排ガスＧ４と接触した後の冷却用液体Ｌ５１は、排液タンク５３０で排液Ｌ５５として回収される。

【0071】

図３では、ノズル５１１は１本であるが、複数設けてもよい。また、ノズルは、プレスクラバー５１０の下部に設けられ、接触後排ガスＧ４の流れに反する方向に冷却用液体Ｌ５１を噴霧してもよい。

【0072】

また、図３には示されていないが、プレスクラバー５１０は、さらにノズルを設けて処理液Ｌ２２を噴霧してもよい。

【0073】

また、プレスクラバー５１０は、底部に排液タンクが設けられてもよい。この場合、該排液タンクは、接触後排ガスＧ４と接触した後の冷却用液体Ｌ５１を排液として回収する。

【0074】

スクラバー本体５２０は、プレスクラバー５１０から排出された接触後排ガスＧ４１を下部から流入し、上部へと排出する。スクラバー本体５２０は、内部に充填層５２１を備え、充填層５２１の上方にノズル５２３，５２５を備える。ノズル５２３は、充填層５２１とノズル５２５との間に設けられる。

【0075】

ノズル５２３は、戻し配管５５１に連結され、処理液Ｌ２２を接触後排ガスＧ４１の流れに反する方向に噴霧する。ノズル５２５は、冷却用液体Ｌ５２を接触後排ガスＧ４１の流れに反する方向に噴霧する。

【0076】

スクラバー本体５２０は、接触後排ガスＧ４１に冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２を接触させることにより、接触後排ガスＧ４１中のホウ素成分を、冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２に溶解させる。このとき、接触後排ガスＧ４１中のホウ素成分以外の成分が、冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２に溶解してもよい。例えば、接触後排ガスＧ４１中の硫黄成分または塩素成分が溶解する。冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２の流量調整により、接触後排ガスＧ４１の温度を適切に調整できる。接触後排ガスＧ４１と接触した後の冷却用液体Ｌ５２は、排液タンク５３０で排液Ｌ５５として回収される。

【0077】

充填層５２１は、スクラバー本体５２０の上部と下部とで圧力差を生じさせる。これにより、接触後排ガスＧ４１がスクラバー本体５２０内で乱流状態となり、接触後排ガスＧ４１と冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２とが充分に接触し、接触後排ガスＧ４１中の成分の冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２への溶解を促進させることができる。スクラバー５０の入口と出口との圧力差は、５０〜２００ｍｍＨ_２Ｏが好ましい。

【0078】

充填層５２１は、充填物であるプラスチック製の球を浮遊させ、球表面の水膜によって反応を促進する。充填層５２１の充填物としては、表面積が大きい、水膜が形成しやすい、ガス流に対し抵抗が少ない、越流や偏流が少ない、または軽くて丈夫なものが望ましい。充填層５２１の充填物の材質は、ポリプロピレンが好ましい。ポリプロピレンは、軽量で安価な点で優れている。また、充填物を構成する粒子の径は、４０〜１００ｍｍが好ましい。

【0079】

なお、プレスクラバー５１０、スクラバー本体５２０内は、耐腐食性に優れる繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）を用いるのが好ましい。

【0080】

冷却塔２０で用いられる冷却用水溶液Ｌ２１が水酸化マグネシウム水溶液の場合、冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２は、水または水酸化マグネシウム水溶液が用いられる。この場合、後述のｐＨ調整用水溶液Ｌ５４は、水酸化マグネシウム水溶液が用いられる。

【0081】

ここで、冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２に中和剤としてＣａ成分が含まれていると、排液タンク５３０内に硫酸カルシウム（ＣａＳＯ_４）やホウ酸カルシウム（ＣａＢ_４Ｏ_７）等の沈殿物が生成される。このような沈殿物は、戻し配管５５０，５５１を閉塞させる可能性がある。そのため、冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２には、中和剤としてＣａ成分が含まれないことが望ましい。

【0082】

排液タンク５３０は、排液Ｌ５５を収容する。排液Ｌ５５には、接触後排ガスＧ４，Ｇ４１中のホウ素成分が溶解している。排液タンク５３０内は、耐腐食性に優れる繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）を用いるのが好ましい。

【0083】

また、排液タンク５３０は、ｐＨ測定計５３３、温度計、冷却ノズル、およびヒーターを備える。冷却ノズルは、排液タンク５３０内に、冷却水Ｌ５３を注入する。

【0084】

調整手段５３９は、注入タンク５４０と、循環ポンプ５４１と、注入ノズルと、を備える。注入タンク５４０は、ｐＨ調整用水溶液Ｌ５４を貯留する。注入ノズルは、排液タンク５３０内に、注入タンク５４０から循環ポンプ５４１を介してｐＨ調整用水溶液Ｌ５４を注入する。ｐＨ調整用水溶液Ｌ５４は、水酸化ナトリウム水溶液が用いられる。

【0085】

ｐＨ調整用水溶液Ｌ５４の濃度Ｃ５４は、２０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましい。濃度Ｃ５４が２０％以上だと、排液Ｌ５５のｐＨを調節するのに適している。

【0086】

また、調整手段５３９は、排液Ｌ５５を、ｐＨ５〜９、温度４０℃以上に調整する。これにより、ホウ素成分と、ナトリウム成分またはマグネシウム成分と、を含む処理液Ｌ２２が作製される。処理液Ｌ２２が作製される過程で、排液Ｌ５５中のホウ素成分は、水酸化ナトリウムまたは水酸化マグネシウムと反応し、四ホウ酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｂ_４Ｏ_７）またはホウ酸マグネシウム（ＭｇＢ_２Ｏ_４）が生成する。なお、処理液Ｌ２２は、未反応のホウ素成分、水酸化ナトリウムまたは水酸化マグネシウムを含む場合がある。また、処理液Ｌ２２は、塩素、フッ素、カルシウムなどを微量に含む場合がある。

【0087】

戻し配管５５０は、循環ポンプ５３１を介して、排液タンク５３０から冷却塔２０のスプレーノズル２６に処理液Ｌ２２を送り出す。

【0088】

戻し配管５５１は、循環ポンプ５３１を介して、排液タンク５３０からスクラバー本体５２０のノズル５２３に処理液Ｌ２２を送り出す。

【0089】

戻し配管５５０，５５１には、処理液Ｌ２２の温度を調整するためのヒーターが設けられることが好ましい。

【0090】

水酸化ナトリウムまたは水酸化マグネシウムの排液タンク５３０への注入量は、排液Ｌ５５中のホウ素成分、硫黄成分または塩素成分をナトリウム塩またはマグネシウム塩に転化させるのに充分な量であることが好ましい。しかし、水酸化ナトリウムの供給量が多すぎると、四ホウ酸ナトリウムまたはホウ酸マグネシウムが飽和析出する。四ホウ酸ナトリウムまたはホウ酸マグネシウムが析出すると、戻し配管５５０，５５１が閉塞するため、冷却塔２０のスプレーノズル２６またはスクラバー本体５２０のノズル５２３に処理液Ｌ２２を送り出すことが困難になる。

【0091】

そこで、ｐＨ測定計５３３で排液タンク５３０内の処理液Ｌ２２のｐＨを測定し、ｐＨを５〜９の範囲内に保持する。このとき、ｐＨおよび温度の調整は、冷却水Ｌ５３、ｐＨ調整用水溶液Ｌ５４の供給量を調整して行う。

【0092】

処理液Ｌ２２のｐＨは、好ましくは６〜８、より好ましくは６．５〜７．５である。処理液Ｌ２２のｐＨが５以上だと、処理液Ｌ２２中のホウ素成分等を良好にナトリウム塩またはマグネシウム塩に転化させることができ、処理液Ｌ２２中に残る未反応のホウ素成分等を少なくすることができる。また、処理液Ｌ２２のｐＨが９以下だと、処理液Ｌ２２中で四ホウ酸ナトリウムまたはホウ酸マグネシウムが析出するのを防止することができる。

【0093】

処理液Ｌ２２の温度Ｔ２２は、４０℃以上に保持されるように調整される。温度Ｔ２２は、５０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましい。また、温度Ｔ２２は、９０℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましい。温度Ｔ２２を４０℃以上にすることで、処理液Ｌ２２中で四ホウ酸ナトリウムまたは四ホウ酸マグネシウムが析出するのを防止することができる。また、温度が９０℃以下だと、排液タンク５３０内の熱による損傷を防ぐことができる。

【0094】

本実施形態の排液タンク５３０は、スクラバー本体５２０の底部に設けられるが、配管を介してスクラバー本体５２０とは別の場所に設けられてもよい。この形態は、プレスクラバー５１０の底部で排液を回収する場合、プレスクラバー５１０とスクラバー本体５２０の排液を一箇所に集約して処理できる点で優れている。

【0095】

接触後排ガスＧ４の温度Ｔ４は、スクラバー５０の入口において、２００〜３００℃が好ましい。温度Ｔ４が２００℃以上だと、接触後排ガスＧ４，Ｇ４１中のホウ素成分を充分に除去することができる。また、温度Ｔ４が３００℃以下だと、充填層５２１の熱による損傷を防ぐことができる。

【0096】

接触後排ガスＧ４１の温度は６０〜９０℃が好ましく、７０〜８０℃がより好ましい。接触後排ガスＧ４１の温度が６０℃以上だと、冷却用液体Ｌ５１，Ｌ５２の使用量を削減できる。また、接触後排ガスＧ４１の温度が９０℃以下だと、接触後排ガスＧ４１中のホウ素成分を冷却用液体Ｌ５２、処理液Ｌ２２に溶解させて、分離することができる。

【0097】

清浄ガスＧ５中のホウ素成分の濃度は、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）換算で２０ｍｇ／Ｎｍ^３以下が好ましく、１０ｍｇ／Ｎｍ^３以下がより好ましい。

【0098】

次に、本発明の一実施形態に係るメインファン６０、煙突７０について説明する。

【0099】

清浄ガスＧ５は、排ガスの流量を調整するメインファン６０によって吸引され、メインファン６０を通過した清浄ガスＧ６は、煙突７０を通って清浄ガスＧ７として大気へ放出される。

【0100】

清浄ガスＧ５の温度は、スクラバー５０を通過した直後において、６０〜９０℃である。このまま温度調整をせずに、清浄ガスＧ５をメインファン６０で吸引してもよいが、温度が低いと煙突７０での煙突効果が小さくなる。そのため、スクラバー５０とメインファン６０との間の流路にバーナーを設けて加熱することが好ましく、メインファン６０に流入する前の清浄ガスＧ５の温度Ｔ５は、１００〜１３０℃が好ましい。

【0101】

本実施形態の排ガス処理装置１によれば、清浄ガスＧ７は、硫黄成分の濃度が二酸化硫黄（ＳＯ_２）換算で１００ｍｇ／Ｎｍ^３以下、窒素酸化物（ＮＯ_Ｘ）の濃度が８００ｍｇ／Ｎｍ^３以下、フッ素成分の濃度が３０ｍｇ／Ｎｍ^３以下、塩素成分の濃度が１００ｍｇ／Ｎｍ^３以下、ホウ素成分の濃度が酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）換算で２０ｍｇ／Ｎｍ^３以下を達成できる。排ガス処理装置１は、清浄ガスＧ７の流量が５，０００〜４０，０００Ｎｍ^３／ｈである排ガス処理に適している。

【0102】

［排ガス処理方法］
図４は、本発明の一実施形態に係る排ガス処理方法を示すフローチャートである。図４を用いて、本発明の一実施形態に係る排ガス処理方法について説明する。

【0103】

本実施形態の排ガス処理方法は、ガラス原料を溶解するガラス溶解工程ＳＴ１と、ガラス溶解工程ＳＴ１で発生した排ガスに冷却用水溶液を接触させて冷却後排ガスを得る冷却工程ＳＴ２と、冷却後排ガスにアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩の粉末を接触させて接触後排ガスを得ながら、冷却後排ガスと粉末との反応物を粉体として回収する粉体回収工程ＳＴ３と、を備える。さらに、排ガス処理方法は、接触後排ガスに含まれる窒素酸化物を除去する脱硝工程ＳＴ４と、接触後排ガスに冷却用液体を接触させて清浄ガスを得ながら、接触後排ガスと冷却用液体との反応液を排液として回収する排液処理工程ＳＴ５と、を備える。

【0104】

排液処理工程ＳＴ５は、排液をｐＨ５〜９、温度４０℃以上に調整することにより処理液を作製し、冷却工程に処理液を送り戻す。冷却工程ＳＴ２は、排ガスに処理液を接触させる。

【0105】

冷却工程ＳＴ２において、冷却用水溶液は、水酸化ナトリウム水溶液または水酸化マグネシウム水溶液であることが好ましい。また、冷却工程ＳＴ２は、排ガスと冷却用水溶液との反応により反応物が生成され、反応物を固形物として回収することが好ましい。

【0106】

粉体回収工程ＳＴ３において、アルカリ金属塩は、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸ナトリウムであることが好ましい。また、アルカリ土類金属塩は、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、または炭酸カルシウムと炭酸マグネシウムとの複塩であることが好ましい。

【0107】

脱硝工程ＳＴ４は、接触後排ガスが触媒層を通る前に、アンモニアガスを注入することが好ましい。

【0108】

以上のとおり、本実施形態の排ガス処理方法および排ガス処理装置１によれば、複雑な湿式設備を用いずに、排ガス中の硫黄成分、ホウ素成分などを充分に除去できる。そのため、湿式設備（スクラバー５０）の投資費用を抑制することができる。また、本実施形態の排ガス処理装置１によれば、スクラバー５０で得られた処理液Ｌ２２を冷却塔２０で再利用するので、冷却塔２０の冷却用水溶液Ｌ２１の使用量を削減し、運転費用を抑制することができる。

【0109】

［ガラス物品の製造装置および製造方法］
次に、本実施形態の排ガス処理装置を用いたガラス物品の製造装置および製造方法について説明する。

【0110】

ガラス原料をガラス溶解炉内に供給し、バーナーの火炎をガラス原料に向かって放射することにより、ガラス原料を加熱して溶解する。バーナーの火炎によって加熱すると共に、複数の通電電極に電圧を印加することによって通電し、ガラス原料を加熱してもよい。

【0111】

ガラス原料を溶解して得られた溶融ガラスは、ガラス溶解炉より下流側に設けられた成形炉で成形される。成形されたガラスは、成形炉より下流側に設けられた徐冷炉で徐冷され、ガラス物品となる。

【0112】

ガラス物品としてガラス板を得るには、例えばフロート法が用いられる。フロート法は、フロートバス内に収容される溶融金属（例えば、溶融スズ）上に導入された溶融ガラスを帯板状のガラスリボンとする方法である。ガラスリボンは、溶融金属から引き上げられ、徐冷炉内で搬送されながら徐冷され、板ガラスとなる。板ガラスは、徐冷炉から搬出された後、切断機によって所定の寸法形状に切断され製品であるガラス板となる。

【0113】

また、ガラス板を得るのに別の成形方法として、フュージョン法を用いてもよい。フュージョン法は、樋状部材の左右両側の上縁から溢れ出した溶融ガラスを、樋状部材の左右両側面に沿って流下させ、左右両側面が交わる下縁で合わせることにより、帯板状のガラスリボンとする方法である。溶融ガラスリボンは、鉛直方向下方に移動しながら徐冷され、板ガラスとなる。板ガラスは、切断機によって所定の寸法形状に切断され、製品であるガラス板となる。

【0114】

本実施形態のガラス物品の製造方法は、ガラス原料の組成には特に制約はないが、ホウ素を含有するホウケイ酸ガラスの製造方法に用いるのが好適である。また、本実施形態のガラス物品の製造方法は、清澄剤としてフッ素成分、塩素成分を含むガラス原料の組成、特に無アルカリ組成のアルミノホウケイ酸ガラスの製造に好適である。無アルカリ組成のアルミノホウケイ酸ガラスは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用途に好適である。

【0115】

本実施形態のガラス物品は、無アルカリガラス組成で、歪点および溶解性を高くする観点から好ましい例として、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２：５８〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３：１５〜２２％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１２％、ＭｇＯ：０．５〜８％、ＣａＯ：０．５〜９％、ＳｒＯ：３〜１２．５％、ＢａＯ：０〜２％、Ｃｌ：０．０１〜０．３５％、Ｆ：０．０１〜０．１５％、およびＳＯ_３：０．０００１〜０．００２５％を含み、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９〜１８％、ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）：０．３５〜０．５５である。

【0116】

特に溶解性を高くする観点から好ましい例として、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２：５０〜６１．５％、Ａｌ_２Ｏ_３：１０．５〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３：７〜１０％、ＭｇＯ：２〜５％、ＣａＯ：０．５〜１４．５％、ＳｒＯ：０〜２４％、ＢａＯ：０〜１３．５％、Ｃｌ：０．０１〜０．３５％、Ｆ：０．０１〜０．１５％、およびＳＯ_３：０．０００１〜０．００２５％を含み、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：１６〜２９．５％、ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）：０．３〜０．５である。

【0117】

特に歪点を高くする観点から好ましい例として、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２：５４〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３：１０．５〜２２．５％、Ｂ_２Ｏ_３：０．１〜１２％、好ましくは０．３〜１２％、より好ましくは０．５〜５．５％、ＭｇＯ：０．５〜１０％、ＣａＯ：０．５〜９％、ＳｒＯ：０〜１６％、ＢａＯ：０〜２．５％、Ｃｌ：０．０１〜０．３５％、Ｆ：０．０１〜０．１５％、およびＳＯ_３：０．０００１〜０．００２５％を含み、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：８〜２６％、ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）：０．３〜０．８である。

【0118】

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。

【符号の説明】

【0119】

１ 排ガス処理装置
１０ ガラス溶解炉
２０ 冷却塔
２１ 入口部
２３ 拡径部
２５ 冷却塔本体
２６ スプレーノズル
２７ 固形物回収手段
３０ バグフィルター
３１ バグフィルター本体
３５ 粉末供給装置
３６ 粉末供給装置本体
３７ 粉体回収手段
４０ 脱硝装置
５０ スクラバー
５１０ プレスクラバー
５１１ ノズル
５２０ スクラバー本体
５２３，５２５ ノズル
５３０ 排液タンク
５３１ 循環ポンプ
５３３ ｐＨ測定計
５３９ 調整手段
５４０ 注入タンク
５４１ ポンプ
５５０，５５１ 戻し配管
６０ メインファン
７０ 煙突
Ｌ２１ 冷却用水溶液
Ｌ２２ 処理液
Ｌ５１，Ｌ５２ 冷却用液体
Ｌ５３ 冷却水
Ｌ５４ ｐＨ調整用水溶液
Ｌ５５ 排液
Ｇ１ 排ガス
Ｇ２ 冷却後排ガス
Ｇ３，Ｇ４，Ｇ４１ 接触後排ガス
Ｇ５〜Ｇ７ 清浄ガス
Ｓ２ 固形物
Ｓ３ 粉体
ＳＴ１ ガラス溶解工程
ＳＴ２ 冷却工程
ＳＴ３ 粉体回収工程
ＳＴ４ 脱硝工程
ＳＴ５ 排液処理工程

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】