発明の名称 半導体エピタキシャルウェーハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
出願人 株式会社SUMCO (識別番号 302006854)
特許公開件数ランキング 571 位(27件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 447 位(30件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6801682
公報発行日 2020年12月16
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6801682
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