特許第6802903号(P6802903)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6802903基板処理装置及びその表示方法並びに半導体装置の製造方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6802903
(24)【登録日】2020年12月1日
(45)【発行日】2020年12月23日
(54)【発明の名称】基板処理装置及びその表示方法並びに半導体装置の製造方法
(51)【国際特許分類】
   H01L 21/02 20060101AFI20201214BHJP
【FI】
   H01L21/02 Z
【請求項の数】13
【全頁数】21
(21)【出願番号】特願2019-508122(P2019-508122)
(86)(22)【出願日】2017年3月31日
(86)【国際出願番号】JP2017013633
(87)【国際公開番号】WO2018179353
(87)【国際公開日】20181004
【審査請求日】2019年5月28日
(73)【特許権者】
【識別番号】318009126
【氏名又は名称】株式会社KOKUSAI ELECTRIC
(72)【発明者】
【氏名】守田 修
(72)【発明者】
【氏名】山岡 雄治
【審査官】 堀江 義隆
(56)【参考文献】
【文献】 特開平09−007912(JP,A)
【文献】 国際公開第2015/022826(WO,A1)
【文献】 特開2004−119451(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01L 21/02
G05B 19/418
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
一方の軸を装置で現在実行されているジョブを含む装置で実行される各種ジョブの予約状況、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面を有する表示部と、装置で実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、若しくは、装置で予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を含む各種情報を取得し、取得された前記現在実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、及び/又は、前記予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻から前記ジョブの実行予定時間を算出し、前記現在実行されているジョブ及び前記予約されているジョブの実行予定時間を示す画像として前記表示部にチャート表示させるよう構成されている表示制御部と、を備え、
前記表示制御部は、取得した前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記表示部に表示させるよう構成されている基板処理装置。
【請求項2】
更に、前記表示制御部は、現在時刻を取得するよう構成され、前記表示制御部は、前記現在時刻を示す線を前記表示部に表示させるよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記表示制御部は、前記表示部に設けられた要因ボタンの押下を検知すると、前記リカバリ条件待ちの要因を表示するよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記表示制御部は、前記表示部に設けられた更新ボタンの押下を検知すると、前記現在実行されているジョブの終了予定時刻及び前記予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を再計算し、計算された前記開始予定時刻及び前記終了予定時刻に基づき、前記現在実行されているジョブ及び前記予約されているジョブを前記表示部に表示させるよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記表示制御部は、前記表示部に設けられた更新ボタンの押下を検知すると、現在時刻を更新して前記表示部に表示させるように構成されている請求項1記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記表示制御部は、前記表示部に設けられた項番セルに、前記ジョブで実行されたレシピが、基板を処理するレシピか、若しくは、構成部品を保守するレシピかを識別するためのアイコンを表示させるよう構成されている請求項1記載の基板処理装置。
【請求項7】
一方の軸にジョブが実行された順番、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面を有する表示部と、装置で実行された前処理ステップ、本処理ステップ及び後処理ステップを含むジョブの開始時刻及び終了時刻を含む各種情報を記憶する記憶部と、前記記憶部から取得した前記前処理ステップ、前記本処理ステップ及び前記後処理ステップのそれぞれの実行時間を算出し、前記ジョブをステップ毎に識別可能に表示させつつ、実行された前記ジョブの実行時間を示す画像として前記表示部にチャート表示させるよう構成されている表示制御部と、を備え、
前記表示制御部は、取得した前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記表示部に表示させるよう構成されている基板処理装置。
【請求項8】
前記表示制御部は、前記ジョブ実行中に発生した異常を示すデータの有無に応じて、前記表示部に設けられた項番セルを色分けして表示させるように構成されている請求項7記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記表示制御部は、前記表示部に設けられた項番セルに、前記ジョブで実行されたレシピが、基板を処理するレシピか、若しくは、構成部品を保守するレシピかを識別するためのアイコンを表示させるよう構成されている請求項7記載の基板処理装置。
【請求項10】
一方の軸を装置で現在実行されているジョブを含む装置で実行される各種ジョブの予約状況、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面を有する基板処理装置の表示方法であって、
装置で実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、若しくは、装置で予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を含む各種情報を取得する工程と、
取得された前記現在実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、及び/又は、前記予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻から前記ジョブの実行予定時間を算出する工程と、
前記現在実行されているジョブ及び前記予約されているジョブの実行予定時間を示す画像としてチャート表示させる工程と、
取得した前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記操作画面に表示させる工程と、を有する表示方法。
【請求項11】
一方の軸にジョブが実行された順番、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面を有する基板処理装置の表示方法であって、
装置で実行された前処理ステップ、本処理ステップ及び後処理ステップを含むジョブの開始時刻及び終了時刻を含む各種情報を記憶する工程と、
記憶された前記前処理ステップ、前記本処理ステップ及び前記後処理ステップのそれぞれの実行時間を算出する工程と、
前記ジョブをステップ毎に識別可能に表示させつつ、実行された前記ジョブの実行時間を示す画像としてチャート表示させる工程と、
前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記操作画面に表示させる工程と、を有する表示方法。
【請求項12】
装置で実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、若しくは、装置で予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を含む各種情報を取得する工程と、
取得された前記現在実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、及び/又は、前記予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻から前記ジョブの実行予定時間を算出する工程と、
一方の軸を装置で現在実行されているジョブを含む装置で実行される各種ジョブの予約状況、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面に前記ジョブの進捗状況を表示する工程と、を有する半導体装置の製造方法であって、
前記ジョブの進捗状況を表示する工程では、
前記現在実行されているジョブ及び前記予約されているジョブの実行予定時間を示す画像としてチャート表示させる工程と、
取得した前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記操作画面に表示させる工程と、を有する半導体装置の製造方法。
【請求項13】
装置で実行された前処理ステップ、本処理ステップ及び後処理ステップを含むジョブの開始時刻及び終了時刻を含む各種情報を記憶する工程と、
記憶された前記前処理ステップ、前記本処理ステップ及び前記後処理ステップのそれぞれの実行時間を算出する工程と、
一方の軸に前記ジョブが実行された順番、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面に前記ジョブの進捗状況を表示する工程と、を有する半導体装置の製造方法であって、
前記ジョブをステップ毎に識別可能に表示させつつ、前記実行されたジョブの実行時間を示す画像としてチャート表示させる工程と、
前記各種情報にリカバリ条件待ちを示す情報を含む場合、前記リカバリ条件待ちを示すアイコンを前記操作画面に表示させる工程と、を有する半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板を処理する基板処理装置およびその表示方法に関し、例えば、基板に成膜処理する半導体製造装置の生産状況の把握に関するものである。
【背景技術】
【0002】
半導体製造分野では、処理されるウエハ(以後、基板ともいう)を収納した基板収容器(例えば、FOUP)が装置に投入され、指定された条件でウエハに対して成膜処理等が実施される。例えば、成膜処理等を含む処理の指令(以後、プロセスジョブともいう)は、顧客ホストコンピュータもしくは操作部からのオペレータによって発行させる。そして、ウエハの処理状況は、操作部の画面上に半導体製造装置の画面イメージと共に表示されており、例えば、処理室毎に生産状況を表示している。成膜処理が完了すると、生産情報として記憶部に蓄積される。蓄積は処理の完了順で登録され、一覧形式表示される。
【0003】
例えば、特許文献1には、半導体製造装置を上から見たイメージと共に、処理室毎に基板の処理状況が操作画面に表示されている。また、特許文献2には、現在実行中のプロセスジョブの進捗状況等は表示やプロセスジョブで実行されたプロセスレシピの内容や生産履歴情報を操作画面上に表示されている。
【0004】
しかしながら、予約されている各プロセスジョブが、いつ実行開始し、いつ終了予定かわからない。これにより、作業者は装置が特定の状態になる時刻を予測しにくく、装置の段取りに無駄時間が発生して、装置セットアップ作業の遅れにつながる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特許2000−077288号公報
【特許文献2】特開2011−077435号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は、ジョブの実行予定を時系列に表示することができる構成を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一態様によれば、 一方の軸を装置で現在実行されているジョブを含む装置で実行される各種ジョブの予約状況、他方の軸を所定の監視期間とした二次元空間を含む操作画面を有する表示部と、装置で実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、若しくは、装置で予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を含む各種情報を取得し、取得された前記現在実行されているジョブの開始時刻及び終了予定時刻、及び/又は、前記予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻から前記ジョブの実行予定時間を算出し、前記現在実行されているジョブ及び前記予約されているジョブの実行予定時間を示す画像として前記表示部にチャート表示させるよう構成されている表示制御部と、を備えた構成が提供される。
【発明の効果】
【0008】
上記構成によれば、実行予定のジョブのチャート表示することにより、未処理のジョブの実行計画を把握することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
図1】本発明の一実施形態に好適に用いられる基板処理装置を示す横断面図の一例である。
図2】本発明の一実施形態に好適に用いられる基板処理装置を示す縦断面図の一例である。
図3】本発明の一実施形態に好適に用いられる基板処理装置の処理炉を示す縦断面図の一例である。
図4】本発明の一実施形態に好適に用いられるコントローラの機能構成を説明する図である。
図5】本発明の一実施形態に好適に用いられるチャート表示の処理フローを示す図である。
図6図5の処理フローで表示される一実施例を示す図である。
図7図6の実施例を示す図の別の形態を示す図である。
図8図5の処理フローで表示される現在実行中のレシピにリカバリ条件待ちが発生した時の図である。
図9図8で表示されるリカバリ条件待ちアイコンの詳細を表示する一実施例を示す図である。
図10】本発明の一実施形態に好適に用いられるチャート表示の処理フローを示す図である。
図11図10の処理フローで表示される一実施例を示す図である。
図12】本発明の実施例に係るレシピ種別の違いを示すアイコンを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
(基板処理装置の概要) 次に本発明の実施形態を図1図2に基づいて説明する。 本発明が適用される実施形態において、基板処理装置は、一例として、半導体装置(IC)の製造方法における処理装置を実施する基板処理装置として構成されている。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やCVD処理などを行う縦型の装置(以下、単に処理装置という)を適用した場合について述べる。
【0011】
図1図2に示すように、基板処理装置10は隣接する2つの後述する処理炉202としての処理モジュールを備えている。処理モジュールは数十枚の基板としてのウエハ200を一括して処理する縦型処理モジュールである。
【0012】
処理炉202の下方には、準備室としての搬送室6A、6Bが配置されている。搬送室6A、6Bの正面側には、基板としてのウエハ200を移載する移載機125を有する移載室8が、搬送室6A、6Bに隣接して配置されている。尚、本実施形態では、搬送室6A、6Bの上方に後述する処理炉202がそれぞれ設けられた構成として説明する。
【0013】
移載室8の正面側には、ウエハ200を複数枚収容する収容容器としてのポッド(FOUP)110を収納する収納室9(ポッド搬送空間)が設けられている。収納室9の全面にはI/Oポートとしてのロードポート22が設置され、ロードポート22を介して処理装置2内外にポッド110が搬入出される。
【0014】
搬送室6A、6Bと移載室8との境界壁(隣接面)には、隔離部としてのゲートバルブ90A、90Bが設置される。移載室8内および搬送室6A、6B内には圧力検知器がそれぞれに設置されており、移載室8内の圧力は、搬送室6A、6B内の圧力よりも低くなるように設定されている。また、移載室8内および搬送室6A、6B内には酸素濃度検知器がそれぞれに設置されており、移載室8A内および搬送室6A、6B内の酸素濃度は大気中における酸素濃度よりも低く維持されている。好ましくは、30ppm以下に維持されている。
【0015】
移載室8の天井部には、移載室8内にクリーンエアを供給するクリーンユニット(図示しない)が設置されており、移載室8内にクリーンエアとして、例えば、不活性ガスを循環させるように構成されている。移載室8内を不活性ガスにて循環パージすることにより、移載室8内を清浄な雰囲気とすることができる。
【0016】
このような構成により、移載室8内に搬送室6A、6Bのパーティクル等が図示しない処理炉202に混入することを抑制することができ、移載室8内および搬送室6A、6B内でウエハ200上に自然酸化膜が形成されることを抑制することができる。
【0017】
収納室9の後方、収納室9と移載室8との境界壁には、ポッド110の蓋を開閉するポッドオープナ21が複数台、例えば、3台配置されている。ポッドオープナ21がポッド110の蓋を開けることにより、ポッド110内のウエハ200が移載室8内外に搬入出される。
【0018】
図2に示されているように、シリコン等からなる複数のウエハ200を収容し、ポッド110が使用されている基板処理装置10は、基板処理装置本体として用いられる筐体111を備えている。
【0019】
筐体111の正面壁の正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口(図示せず)が開設され、この正面メンテナンス口を開閉する正面メンテナンス扉がそれぞれ建て付けられている。また、正面壁にはポッド搬入搬出口が筐体111の内外を連通するように開設されている。ポッド搬入搬出口はフロントシャッタ(図示せず)によって開閉されるように構成されていてもよい。
【0020】
ポッド搬入搬出口には、搬入搬出部として用いられるロードポート22が設置されており、ロードポート22はポッド110を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド110はロードポート22上に工程内搬送装置によって搬入され、また、ロードポート22上から搬出されるようになっている。
【0021】
筐体111の正面後方側には、ポッド搬入搬出口の周辺の上下左右にわたってマトリクス状に収納棚(ポッド棚)棚)105が設置されている。ポッド棚105はポッドを載置する収納部としての載置部140が設置される。収納部は当該載置部140と、載置部140をポッド110が収納される待機位置とポッド110を受渡しする受渡し位置との間で水平移動させる水平移動機構(収容棚水平移動機構)より構成される。水平方向の同一直線上に並ぶ複数の独立した載置部140によってポッド棚105の一段が構成され、該ポッド棚が垂直方向に複数段設置されている。各載置部140は上下又は左右の隣り合う載置部140およびその他のどの載置部140とも同期させることなく独立して水平移動させることが可能である。そして、ポッド搬送装置130は、ロードポート22、ポッド棚105、ポッドオープナ121との間で、ポッド110を搬送するように構成されている。
【0022】
筐体111内でありサブ筐体119の正面側には、上下左右にわたってマトリクス状にポッド棚(収容棚)105が設置されている。筐体111の正面後方側のポッド棚105と同様に各ポッド棚105のポッドを載置する収納部としての載置部140は、水平移動可能となっており、上下又は左右の隣り合う載置部140と同期させることなく独立して水平移動させることが可能である。ポッド棚105は、複数の載置部140にポッド110をそれぞれ1つずつ載置した状態で保持するように構成されている。
【0023】
サブ筐体119の正面壁119aにはウエハ200をサブ筐体119内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口120が一対、垂直方向に上下二段並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口120には一対のポッドオープナ21がそれぞれ設置されている。本実施例において、ポッドオープナ21は上下二段に設置されているが、水平方向に左右2つ設置されていても良い。ポッドオープナ21はポッド110を載置する載置台122と、密閉部材として用いられるポッド110のキャップを着脱するキャップ着脱機構123とを備えている。ポッドオープナ21は載置台122に載置されたポッド110のキャップをキャップ着脱機構123によって着脱することにより、ポッド110のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
【0024】
サブ筐体119はポッド搬送装置130やポッド棚105の設置空間から流体的に隔絶された移載室8を構成している。移載室8の前側領域にはウエハ移載機構125が設置されており、ウエハ移載機構125は、ウエハ200を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置125a及びウエハ移載装置125aを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ125bとで構成されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ125b及びウエハ移載装置125aの連続動作により、ウエハ移載装置125aのツイーザ(基板保持体)125cをウエハ200の載置部として、ボート(基板保持具)217に対してウエハ200を装填(チャージング)及び脱装(ディスチャージング)するように構成されている。
【0025】
移載室8の後側領域には、ゲートバルブ90を介してボート217を収容して待機させる待機部としての搬送室6が構成されている。搬送室6の上方には、処理室を内部に構成する処理炉202が設けられている。処理炉202の下端部は、炉口シャッタ147により開閉されるように構成されている。
【0026】
ボート217はボートエレベータ115(図示せず)によって昇降され処理炉内へ導入される。ボートエレベータ115の昇降台に連結された連結具としてのアーム(図示せず)には蓋体としてのシールキャップ219が水平に据え付けられており、蓋体219はボート217を垂直に支持し、処理炉202の下端部を閉塞可能なように構成されている。ボート217は複数本の保持部材を備えており、複数枚のウエハ200をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。
【0027】
次に、基板処理装置10の動作について説明する。上述の基板処理装置10を用い、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板処理を行う例について説明する。本実施形態においては、予約されていたプロセスジョブの実行処理開始時間になると、コントローラ121は、基板処理装置10を構成する各部の動作を制御して基板処理を開始する。ここで、プロセスジョブは、前処理、本処理、後処理の3つのステップを構成する。先ず、前処理としてウエハ200の搬送処理がコントローラ121により行われる。本実施形態では、ウエハ200のボート217までの搬送が該当する。以下、前処理に関して主に説明する。
【0028】
ポッド110がロードポート22に供給されると、ロードポート22の上のポッド110はポッド搬入装置によって筐体111の内部へポッド搬入搬出口から搬入される。搬入されたポッド110はポッド棚105の指定された載置部140へポッド搬送装置130によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管され後、ポッド棚105から一方のポッドオープナ21に搬送されて受け渡され載置台122に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ21に搬送されて載置台122に移載される。
【0029】
載置台122に載置されたポッド110はその開口側端面がサブ筐体119の正面壁119aにおけるウエハ搬入搬出口120の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構123によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。ポッド110がポッドオープナ21によって開放されると、ウエハ200はポッド110からウエハ移載装置125aのツイーザ125cによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、移載室8の後方にある搬送室6へゲートバルブ90を介して搬入され、ボート217に装填(チャージング)される。この時、図示しないノッチ合わせ装置にてウエハを整合した後、チャージングを行っても良い。ボート217にウエハ200を受け渡したウエハ移載装置125aはポッド110に戻り、次のウエハ200をボート217に装填する。
【0030】
この一方(上段または下段)のポッドオープナ21におけるウエハ移載機構125によるウエハのボート217への装填作業中に、他方(下段または上段)のポッドオープナ21にはポッド棚105から別のポッド110がポッド搬送装置130によって搬送されて移載され、ポッドオープナ21によるポッド110の開放作業が同時進行される。
【0031】
予め指定された枚数のウエハ200がボート217に装填されると、前処理が終了し、本処理(ここでは、プロセスレシピ)が実行される。このプロセスジョブの本処理で実行されるプロセスレシピは、基板を処理するためのレシピであり、コントローラ121により制御される。このプロセスレシピが開始されると、炉口シャッタ147によって閉じられていた処理炉202の下端部が、炉口シャッタ147によって、開放される。続いて、ウエハ200群を保持したボート217はシールキャップ219がボートエレベータ115によって上昇されることにより、処理炉202内へ搬入(ローディング)されて行く。
【0032】
ローディング後は、処理炉202にてウエハ200に任意の処理が実施される。処理後は、概上述の逆の手順で、ウエハ200及びポッド110は筐体の外部へ搬出(アンローディング)される。ここで、プロセスレシピ(本処理)が終了する。
【0033】
(基板処理装置の処理炉) 図3に示すように、処理炉202は加熱手段(加熱機構)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、処理ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
【0034】
ヒータ207の内側には、ヒータ207と同心円状に反応容器(処理容器)を構成する反応管203が配設されている。反応管203は、例えば石英(SiO2)または炭化シリコン(SiC)等の耐熱性材料により構成されている。反応管203は、下端部が開放され、上端部が平坦状の壁体で閉塞された有天井の形状で形成されている。反応管203の内部には、円筒状に形成された筒部209と、筒部209と反応管203の間に区画されたノズル配置室222と、筒部209に形成されたガス供給口としてのガス供給スリット235と、筒部209に形成された第1ガス排気口236と、筒部209に形成され、第1ガス排気口236の下方に形成された第2ガス排気口237を備えている。筒部209は、下端部が開放され、上端部が平坦状の壁体で閉塞された有天井の形状で形成されている。また、筒部209は、ウエハ200の直近にウエハ200を囲むように設けられている。反応管203の筒部209の内部には、処理室201が形成されている。処理室201は、基板としてのウエハ200を処理可能に構成されている。また、処理室201は、ウエハ200を水平姿勢で垂直方向に多段に整列した状態で保持可能な基板保持具としてのボート217を収容可能に構成されている。
【0035】
反応管203の下端は、円筒体状のマニホールド226によって支持されている。マニホールド226は、例えばニッケル合金やステンレス等の金属で構成されるか、若しくは石英またはSiC等の耐熱性材料で構成されている。マニホールド226の上端部にはフランジが形成されており、このフランジ上に反応管203の下端部を設置して支持する。このフランジと反応管203の下端部との間にはOリング等の気密部材220を介在させて反応管203内を気密状態にしている。
【0036】
マニホールド226の下端の開口部には、シールキャップ219がOリング等の気密部材220を介して気密に取り付けられており、反応管203の下端の開口部側、すなわちマニホールド226の開口部を気密に塞ぐようになっている。シールキャップ219は、例えばニッケル合金やステンレス等の金属で構成され、円盤状に形成されている。シールキャップ219は、石英(SiO2)または炭化シリコン(SiC)等の耐熱性材料でその外側を覆うように構成されてもよい。
【0037】
シールキャップ219上にはボート217を支持するボート支持台218が設けられている。ボート支持台218は、例えば石英やSiC等の耐熱性材料で構成され断熱部として機能すると共にボートを支持する支持体となっている。ボート217は、ボート支持台218上に立設されている。ボート217は例えば石英やSiC等の耐熱性材料で構成されている。ボート217は図示しないボート支持台に固定された底板とその上方に配置された天板とを有しており、底板と天板との間に複数本の支柱が架設された構成を有している。ボート217には複数枚のウエハ200が保持されている。複数枚のウエハ200は、互いに一定の間隔をあけながら水平姿勢を保持しかつ互いに中心を揃えた状態で反応管203の管軸方向に多段に積載されボート217の支柱に支持されている。
【0038】
シールキャップ219の処理室201と反対側にはボートを回転させるボート回転機構267が設けられている。ボート回転機構267の回転軸265はシールキャップを貫通してボート支持台218に接続されており、ボート回転機構267によって、ボート支持台218を介してボート217を回転させることでウエハ200を回転させる。
【0039】
シールキャップ219は反応管203の外部に設けられた昇降機構としてのボートエレベータ115によって垂直方向に昇降され、これによりボート217を処理室201内に対し搬入搬出することが可能となっている。
【0040】
マニホールド226には、処理室201内に処理ガスを供給するガスノズルとしてのノズル340a〜340dを支持するノズル支持部350a〜350dが、マニホールド226を貫通するようにして設置されている。ここでは、4本のノズル支持部350a〜350dが設置されている。ノズル支持部350a〜350dは、例えばニッケル合金やステンレス等の材料により構成されている。ノズル支持部350a〜350cの反応管203側の一端には処理室201内へガスを供給するガス供給管310a〜310cがそれぞれ接続されている。また、ノズル支持部350dの反応管203側の一端には反応管203と筒部209の間に形成される間隙Sへガスを供給するガス供給管310dが接続されている。また、ノズル支持部350a〜350dの他端にはノズル340a〜340dがそれぞれ接続されている。ノズル340a〜340dは、例えば石英またはSiC等の耐熱性材料により構成されている。
【0041】
ガス供給管310aには、上流方向から順に、第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給源360a、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)320aおよび開閉弁であるバルブ330aがそれぞれ設けられている。ガス供給管310bには、上流方向から順に、第2処理ガスを供給する第2処理ガス供給源360b、MFC320bおよびバルブ330bがそれぞれ設けられている。ガス供給管310cには、上流方向から順に、第3処理ガスを供給する第3処理ガス供給源360c、MFC320cおよびバルブ330cがそれぞれ設けられている。ガス供給管310dには、上流方向から順に、不活性ガスを供給する不活性ガス供給源360d、MFC320dおよびバルブ330dがそれぞれ設けられている。ガス供給管310a,310bのバルブ330a,330bよりも下流側には、不活性ガスを供給するガス供給管310e,310fがそれぞれ接続されている。ガス供給管310e,310fには、上流方向から順に、MFC320e,320fおよびバルブ330e,330fがそれぞれ設けられている。
【0042】
主に、ガス供給管310a、MFC320a、バルブ330aにより第1処理ガス供給系が構成される。第1処理ガス供給源360a、ノズル支持部350a、ノズル340aを第1処理ガス供給系に含めて考えても良い。また、主に、ガス供給管310b、MFC320b、バルブ330bにより第2処理ガス供給系が構成される。第2処理ガス供給源360b、ノズル支持部350b、ノズル340bを第2処理ガス供給系に含めて考えても良い。また、主に、ガス供給管310c、MFC320c、バルブ330cにより第3処理ガス供給系が構成される。第3処理ガス供給源360c、ノズル支持部350c、ノズル340cを第3処理ガス供給系に含めて考えても良い。また、主に、ガス供給管310d、MFC320d、バルブ330dにより不活性ガス供給系が構成される。不活性ガス供給源360d、ノズル支持部350d、ノズル340dを不活性ガス供給系に含めて考えても良い。
【0043】
反応管203には排気口230が形成されている。排気口230は、第2ガス排気口237よりも下方に形成され、排気管231に接続されている。排気管231には処理室201内の圧力を検出する圧力検出器としての圧力センサ245および圧力調整部としてのAPC(Auto Pressure Controller)バルブ244を介して真空排気装置としての真空ポンプ246が接続されており、処理室201内の圧力が所定の圧力となるよう真空排気し得るように構成されている。真空ポンプ246の下流側の排気管231は排ガス処理装置(図示せず)等に接続されている。なお、APCバルブ244は、弁を開閉して処理室201内の真空排気・真空排気停止ができ、更に弁開度を調節してコンダクタンスを調整して処理室201内の圧力調整をできるようになっている開閉弁である。主に、排気管231、APCバルブ244、圧力センサ245により排気部として機能する排気系が構成される。なお、真空ポンプ246を排気系に含めてもよい。
【0044】
反応管203内には温度検出器としての温度センサ(不図示)が設置されており、温度センサにより検出された温度情報に基づきヒータ207への供給電力を調整することで、処理室201内の温度が所望の温度分布となるように構成されている。
【0045】
以上の処理炉202では、バッチ処理される複数枚のウエハ200がボート217に対し多段に積載された状態において、ボート217がボート支持台218で支持されながら処理室201に挿入され、ヒータ207が処理室201に挿入されたウエハ200を所定の温度に加熱するようになっている。
【0046】
(コントローラ構成) 図4に示すように、制御部(制御手段)であるコントローラ121は、各種プログラムを実行する実行部としてのCPU(Central Processing Unit)121a、RAM(Random Access Memory)121b、記憶部としての記憶装置121c、I/Oポート121dを備えたコンピュータとして構成されている。CPU121aによって読み出されたプログラムやデータ等が一時的に保持されるメモリ領域(ワークエリア)として構成されているRAM121b、記憶装置121c、I/Oポート121dは、内部バス121eを介して、CPU121aとデータ交換可能なように構成されている。また、コントローラ121には、例えばタッチパネル等として構成された表示部としての入出力装置122が接続されている。
【0047】
記憶装置121cは、例えばフラッシュメモリ、HDD(Hard Disk Drive)等で構成されている。記憶装置121c内には、基板処理装置の動作を制御する制御プログラムや、基板処理の手順や条件等が記載されたプロセスレシピ等が、読み出し可能に格納されている。プロセスレシピは、後述する基板処理工程における各手順をコントローラ121に実行させ、所定の結果を得ることが出来るように組み合わされたものであり、また、メンテナンスレシピは、ウエハ200を装置内に投入しない状態で、各手順をコントローラ121に実行させ、例えば、部品を保守することができるレシピであり、プログラムとして機能する。また、メンテナンスレシピも本処理として実行される場合がある。また、記憶装置121cには、ジョブが実行されることにより、装置を構成する各部品を動作させて生じる装置データが格納されている。これら装置データには、コントローラ121の計時部としてのタイムスタンプ機能により時刻データが付加されている。
【0048】
ここで、装置データは、上述のようにジョブを実行するときに収集されるデータである。例えば、基板処理装置10がウエハ200を処理するときの処理温度、処理圧力、処理ガスの流量など基板処理に関するデータ(例えば、設定値、実測値)や、製造した製品基板の品質(例えば、成膜した膜厚、及び該膜厚の累積値など)に関するデータや、基板処理装置1の構成部品(反応管、ヒータ、バルブ、MFC等)に関するデータ(例えば、設定値、実測値)など、基板処理装置がウエハ200を処理する際に各構成部品を動作させることにより発生するデータである。
【0049】
尚、レシピ実行中に収集される特定間隔の実測値、例えば、レシピ開始から終了までの実測値データやレシピ内の各ステップの統計量データは、プロセスデータとも称することがあるが、このプロセスデータも装置データに含む。尚、統計量データには、最大値、最小値、平均値等が含まれる。また、レシピの開始や終了を示す装置イベントを示すイベントデータ、プロセスレシピが実行されていない時(例えば、装置に基板が投入されていないアイドル時)の装置イベントを示すイベントデータ(例えば、メンテナンス履歴を示すデータ)も装置データに含む。また、アラーム(異常)及びアラート(警告)が発生した事象(発生・回復)を示すデータも装置データに含む。
【0050】
また、記憶装置121cには、本実施形態におけるチャート表示プログラム、画面遷移プログラム等が格納されている。CPU121aは、入出力装置122からの操作コマンドの入力等に応じて、これらのプログラムを実行するように構成されている。本実施形態においてCPU121aは表示制御部として機能する。また、記憶装置121cには、スケジュール画面や生産情報画面等の本実施形態におけるチャート表示用の画面ファイルを含む各種画面ファイルが格納されている。
【0051】
尚、本明細書においてプログラムという言葉を用いた場合は、プロセスレシピ(メンテナンスレシピ)単体のみを含む場合、制御プログラム単体のみを含む場合、または、それらの両方を含む場合がある。
【0052】
I/Oポート121dは、上述のMFC320a〜320f、バルブ330a〜330f、圧力センサ245、APCバルブ244、真空ポンプ246、ヒータ207、温度センサ、ボート回転機構267、ボートエレベータ115等に接続されている。
【0053】
CPU121aは、記憶装置121cから制御プログラム等を読み出して実行すると共に、入出力装置122からの操作コマンドの入力等に応じて記憶装置121cからプロセスレシピ(メンテナンスレシピ)を読み出すように構成されている。CPU121aは、I/Oポート121dを介して読み出したプロセスレシピの内容に沿うように、MFC320a〜320fによる各種ガスの流量調整動作、バルブ330a〜330fの開閉動作、APCバルブ244の開閉動作および圧力センサ245に基づくAPCバルブ244による圧力調整動作、真空ポンプ246の起動および停止、温度センサに基づくヒータ207の温度調整動作、ボート回転機構267によるボート217の回転および回転速度調節動作、ボートエレベータ115によるボート217の昇降動作等を制御するように構成されている。
【0054】
次に、図3を用いてプロセスジョブの本処理に相当する基板処理工程について説明する。本実施形態においては、コントローラ121がプロセスレシピを実行することにより、基板処理工程が行われる。また、プロセスレシピは、この本処理で実行される基板を処理するためのレシピであり、コントローラ121により制御される。以下、コントローラ121は、基板処理装置10を構成する各部の動作を制御してウエハ200に所定の処理を行う。
【0055】
(基板処理工程) 所定枚数のウエハ200が載置されたボート217が反応管203内に挿入され、シールキャップ219により、反応管203が気密に閉塞される。気密に閉塞された反応管203内では、ウエハ200が加熱されると共に、処理ガスが反応管203内に供給され、ウエハ200に所定の処理がなされる。
【0056】
所定の処理として、例えば、第1処理ガスとしてNH3ガスと、第2処理ガスとしてHCDSガスと、第3処理ガスとしてN2ガスとを交互供給することにより、ウエハ200上にSiN膜を形成する。
【0057】
まず、第2処理ガス供給系のガス供給管310bよりノズル340bのガス供給孔234b、ガス供給スリット235を介して処理室201内にHCDSガスを供給する。具体的には、バルブ330b、330fを開けることにより、キャリアガスと共に、ガス供給管310bからHCDSガスの処理室201内への供給を開始する。このとき、APCバルブ244の開度を調整して、処理室201内の圧力を所定の圧力に維持する。所定時間が経過したら、バルブ330bを閉じ、HCDSガスの供給を停止する。
【0058】
処理室201内に供給されたHCDSガスは、ウエハ200に供給され、ウエハ200上を平行に流れた後、第1ガス排気口236を通って間隙Sを上部から下部へと流れ、第2ガス排気口237、排気口230を介して排気管231から排気される。
【0059】
なお、処理室201内にHCDSガスを供給する間、ガス供給管310aに接続される不活性ガス供給管のバルブ330eおよびガス供給管310c,310dのバルブ330c,330dを開けてN2等の不活性ガスを流すと、ガス供給管310a,310c,310d内にHCDSガスが回り込むのを防ぐことができる。
【0060】
バルブ330bを閉じ、処理室201内へのHCDSガスの供給を停止した後は、処理室201内を排気し、処理室201内に残留しているHCDSガスや反応生成物等を排除する。この時、ガス供給管310a,310b,310c,310dからN2等の不活性ガスをそれぞれ処理室201内及び間隙Sに供給してパージすると、処理室201内及び間隙Sからの残留ガスを排除する効果をさらに高めることができる。
【0061】
次に、第1処理ガス供給系のガス供給管310aよりノズル340aのガス供給孔234a、ガス供給スリット235を介して処理室201内にNH3ガスガスを供給する。具体的には、バルブ330a、330eを開けることにより、キャリアガスと共に、ガス供給管310aからNH3ガスの処理室201内への供給を開始する。このとき、APCバルブ244の開度を調整して、処理室201内の圧力を所定の圧力に維持する。所定時間が経過したら、バルブ330aを閉じ、NH3ガスの供給を停止する。
【0062】
処理室201内に供給されたNH3ガスは、ウエハ200に供給され、ウエハ200上を平行に流れた後、第1ガス排気口236を通って間隙Sを上部から下部へと流れ、第2ガス排気口237、排気口230を介して排気管231から排気される。
【0063】
なお、処理室201内にNH3ガスを供給する間、ガス供給管310bに接続される不活性ガス供給管のバルブ330fおよびバルブ330c,330dを開けてN2等の不活性ガスを流すと、ガス供給管310b,310c,310d内にNH3ガスが回り込むのを防ぐことができる。
【0064】
バルブ330aを閉じ、処理室201内へのNH3ガスの供給を停止した後は、処理室201内を排気し、処理室201内に残留しているNH3ガスや反応生成物等を排除する。この時、ガス供給管310a,310b,310c,310dからN2等の不活性ガスをそれぞれ処理室201内及び間隙Sに供給してパージすると、処理室201内及び間隙Sからの残留ガスを排除する効果をさらに高めることができる。
【0065】
ウエハ200の処理が完了すると、上記した動作の逆の手順により、ボート217が反応管203内から搬出される。
【0066】
上述の実施形態では、第1処理ガスと第2処理ガスとを交互に供給する場合について説明したが、本発明は、第1処理ガスと第2処理ガスとを同時に供給する場合にも適用することができる。
【0067】
(実施例1) 図5は本実施形態におけるジョブのスケジュールを表示するチャート表示プログラムを示す処理フローである。
【0068】
コントローラ121が起動されると、チャート表示プログラムが開始されるようになっており、先ずコントローラ121は、現在の時刻を取得する。次に、記憶部121c内を検索し、装置で実行される予定のジョブがあるか確認する。ジョブが無ければ、終了されるか待機状態が保持される。どちらにせよ後述する更新ボタンが押下されると、プログラムが再開され、現在の時刻を取得することから開始される。
【0069】
ジョブが検索されると、コントローラ121は、ジョブの情報を取得する。ジョブ情報(名称、レシピ名称、開始予定時刻、終了予定時刻等)だけでなく、ジョブで実行されるレシピ情報(名称、種別、処理室、プロセスデータ等)について少なくとも取得する。
【0070】
次に、ジョブが予約されているか、ジョブが現在実行されているかを判定する。具体的には、取得した現在時刻とジョブの開始予定時刻とを比較し、現在時刻が開始予定時刻を過ぎているか、また、ジョブ開始を示す装置データ(ジョブ実行開始時刻を示す時刻データ)の有無により判定する。
【0071】
ジョブが予約されていると、ジョブ情報から前処理の前処理開始時刻、前処理終了時刻から、前処理予定時間、本処理の本処理開始時刻、本処理終了時刻から、本処理予定時間、後処理の後処理開始時刻、後処理終了時刻から、後処理予定時間をそれぞれ算出し、算出された前処理予定時間、本処理予定時間、後処理予定時間をそれぞれ加算してジョブの実行予定時間を算出する。尚、前処理予定時間、本処理予定時間、後処理予定時間をそれぞれ識別可能に、例えば色分け表示してもよい。また、例えば、全てのジョブが予約中であった場合、一番始めに実行されるジョブの前処理予定時間は、現在時刻から前処理終了時刻までとなるように算出される。
【0072】
ジョブが現在実行されていると、コントローラ121は、前処理、本処理、後処理のうちどの処理が実行されているかを確認する。具体的には、コントローラ121は、現在時刻が前処理の開始予定時刻と終了予定時刻との間、本処理の開始予定時刻と終了予定時刻との間、後処理の開始予定時刻と終了予定時刻との間のうちどの間に該当するかを、例えば、取得した装置データから前処理開始、本処理開始、後処理開始のそれぞれを示す時刻データの有無により判定する。例えば、前処理開始の時刻データがあれば前処理中と判定する。
【0073】
前処理中と判定されると、次に、コントローラ121は、現在時刻と前処理の終了予定時刻を比較し、現在時刻が終了予定時刻を過ぎている場合、ジョブの開始時刻から現在時刻までを前処理実行時間として算出し、現在時刻が終了予定時刻前である場合、ジョブの開始時刻から前処理の終了予定時刻までを前処理実行時間として算出する。
【0074】
そして、コントローラ121は、この前処理実行時間と本処理予定時間、後処理予定時間をそれぞれ加算してジョブの実行予定時間として算出する。尚、現在実行されているジョブが、本処理中の場合、及び後処理中の場合もそれぞれ同じように算出される。よって詳細は省略するが、現在時刻が本処理中の場合、前処理実行時間と後処理予定時間に、現在時刻と終了予定時刻を比較して算出される本処理実行時間をそれぞれ加算してジョブの実行予定時間として算出される。
【0075】
次に、ジョブのリカバリ条件待ち発生の有無が判定される。例えば、前処理でリカバリ条件待ち発生の確認において、コントローラ121は、取得した装置データからリカバリ操作が必要であるアラームが発生中の状態であると、リカバリ条件待ちが発生していると判定し、リカバリ判定待ち情報として取得する。
【0076】
コントローラ121は、一つのジョブの実行予定時間の計算(チャート計算処理)が終了すると、次のジョブについても同様にチャート計算処理を行い、検索された全てのジョブについてジョブ実行予定時間を算出し、ジョブ実行予定時間をチャート処理結果情報として取得する。ここで、各ジョブの前処理、本処理、後処理の実行時間若しくは実行予定時間もチャート処理結果情報として取得される。
【0077】
そして、コントローラ121は、取得した現在時刻、ジョブ情報、レシピ情報、チャート処理結果情報、リカバリ条件待ち情報等の各種装置データに基づき(例えば、図6に示す)スケジュール画面ファイルを作成して、ジョブをそれぞれチャート表示するよう構成されている。また、コントローラ121は、現在時刻に相当する線アイコンをスケジュール画面に表示するように構成されている。
【0078】
このように、本実施形態のチャート表示プログラムによれば、処理開始時刻及び処理終了時刻をジョブ情報に保有すると、先ず、先頭のジョブ若しくは現在実行されているジョブの処理開始時刻及び処理終了時刻からジョブの実行予定時間を算出して先頭のジョブの終了予定時刻が算出される。この先頭のジョブの終了予定時刻を次実行予定のジョブに反映させ、それを検索されたジョブの数分繰返すことで予約されているジョブの実行予定時間を算出することができる。
【0079】
また、コントローラ121は、現在実行されているジョブについてリカバリ条件待ち情報を取得すると、図8に示すように、そのリカバリ条件待ちが発生したことを示すアイコンをスケジュール画面の所定の空間に表示させるよう構成されている。また、例えば、コントローラ121は、スケジュール画面の所定の領域に表示される後述する要因ボタンが押下されると、リカバリ条件待ちした要因の詳細を表示部に表示するように構成されている。
【0080】
図6は、コントローラ121がチャート表示プログラムを実行することにより入出力装置122の操作画面に表示されるスケジュール画面の一実施例を示す。図6に示すスケジュール画面500は、縦軸を装置で現在実行されているジョブを含む装置で実行される各種ジョブの予約の順番を示す項番セル501と、横軸をジョブ名称セル502と、PMセル503と、レシピ名称または終了予定時間セル504を含むジョブ情報と、所定の監視期間を示す日時505とした二次元空間を含む。ここで、PMは、処理モジュール(Processing Module)の略称PMである。
【0081】
また、スケジュール画面500の二次元空間には、現在の時刻を示す線506と、ジョブの実行時間又は実行予定時間を示すアイコンで表示されている現在実行されているジョブ507と、開始予定時刻から終了予定時刻までを示すアイコンで表示されている予約されているジョブ508が表示され、現在実行されているジョブ507と予約されているジョブ508はチャート表示されている。尚、レシピ名称または終了予定時間セル504にはレシピ名称(プロセスレシピ1)が表示されている。
【0082】
また、スケジュール画面500の二次元空間には、予約されているジョブ508の前処理ステップ508aと、本処理ステップ508bと、後処理ステップ508cが表示され、それぞれ各ステップで予め決定された色で表示されている。また、現在実行されているジョブ507についても同様に、図からは明確になっていないが、前処理ステップと本処理ステップと後処理ステップを独立して表示しており、それぞれ予め決定された色で表示されている。
【0083】
図7は、図6に示すスケジュール画面において、レシピ名称または終了予定時間セル504を押下して、終了予定時間に切替えたときを示す図である。
【0084】
図8は、スケジュール画面上にリカバリ条件待ちが発生したことを示すアイコン510の表示例である。現在実行されているレシピ507は現在時刻506を境に表示色が分かれていることが分かる。前処理(又は本処理)で何らかのトラブルが発生し、次の本処理(又は後処理)がトラブルから回復処理を待っている状態が続いている。リカバリ処理が行われると、アイコン510は表示されないようになる。尚、このアイコン510が表示されているときに、図9に示す要因ボタンが押下されると、このアイコン510が表示された詳細な要因が表示されるようになっている。
【0085】
図9は、スケジュール画面上の要因ボタン511を押下されると、表示部122に表示される要因詳細画面600である。要因詳細画面600は、リカバリ条件待ち要因のうち条件Aが押下(選択)された時の画面である。条件Aは、「EFEM」「メンテナンス」「PM1」「PM2」の4つの条件を含む。「EFEM」「PM1」「PM2」は収納室9としてのEFEM、処理炉202としての処理モジュール1、処理炉202としての処理モジュール2のメンテナンス状態解除待ちであり、「メンテナンス」は、メンテナンスによるスケジュール一時停止中である。また、リカバリ条件待ちが発生しているとき、スケジュール画面上で要因ボタン511を色分け表示してもよい。
【0086】
要因詳細画面600の下側には、「EFEM」の発生要因(メンテナンス状態解除待ち)とその要因に対する対処方法が記載されている。検索セルを押下すると、「EFEM」「メンテナンス」「PM1」「PM2」の4つの条件を選択する画面が表示されるので、「EFEM」以外の他の条件を選択することにより変更することができる。尚、図8には明確に示されていないが、リカバリ条件待ちが発生している条件のセルを色分け表示されている。下部のOKボタンが押下されると、要因詳細画面600の表示が解除され、スケジュール画面500に戻るよう構成されている。
【0087】
また、スケジュール画面500に表示される更新ボタン509が押下されると、チャート表示の更新が行われる。つまり、図5に示すチャート表示プログラムが再起動され、新しく現在時刻が取得される。そして、この現在時刻から図5に示す処理フローが実行されて図6に示すスケジュール画面が更新される。
【0088】
具体的には、コントローラ121は、更新ボタン509の押下を検知すると、図5に示す処理フローが実行され、新しい現在時刻、ジョブ情報、レシピ情報が更新され、それに伴い、現在実行されているジョブの終了予定時刻及び予約されているジョブの開始予定時刻及び終了予定時刻を再計算し、計算された開始予定時刻及び終了予定時刻に基づき、現在実行されているジョブ実行時間及び実行予定時間及び予約されているジョブの実行予定時間を算出し、図6に示すスケジュール画面を更新して表示させるよう構成されている。
【0089】
図12に示すように、生産用のジョブ(プロセスジョブ)とメンテナンス用のジョブ(図12ではクリーニングジョブ)の違いを明確にして表示するよう項番セル501にアイコンが表示されるよう構成されている。更に、例えば、項番セル501には、ジョブで実行されたレシピが、プロセスレシピ(基板を処理するレシピ)か、若しくは、メンテナンスレシピ(クリーニングレシピ等の構成部品を保守するレシピ)かを識別するためのアイコンを表示させるよう構成されてもよい。
【0090】
(実施例2) 図10は本実施例における実行済ジョブのチャート表示プログラムを示す処理フローであり、図11は、チャート表示プログラムを実行することにより、入出力装置122の操作画面に表示される生産情報画面の一実施例を示す。
【0091】
生産情報画面に切替えるボタンが押下されると、実行済ジョブのチャート表示プログラムが開始されるように構成されている。先ずコントローラ121は、現在の時刻を取得する。次に、記憶部121c内を検索し、装置で実行されたジョブ(実行済ジョブ)があるか確認する。実行済ジョブが無ければ、終了される。また、図示しない更新ボタンが押下されると、プログラムが再起動され、現在の時刻を取得することから開始されるよう構成してもよい。
【0092】
実行済ジョブが検索されると、コントローラ121は、該実行済ジョブの情報を取得する。ジョブ情報(名称、レシピ名称、開始予定時刻、終了予定時刻等)だけでなく、ジョブで実行されるレシピ情報(名称、種別、処理室、プロセスデータ、生産情報等)を少なくとも取得する。また、ジョブを実行したときに収集され記憶部121cに格納された生産情報を含む装置データも取得される。
【0093】
また、コントローラ121は、ジョブ情報の前処理開始時刻、前処理終了時刻から前処理実行時間、本処理開始時刻、本処理終了時刻から本処理実行時間、後処理開始時刻、後処理終了時刻から後処理実行時間をそれぞれ算出し、算出されたこれら実行時間をそれぞれ加算して実行済ジョブの実行時間が計算される。そして、全ての実行済ジョブについて実行時間が計算される。これら全ての実行済ジョブの実行時間、前処理実行時間、本処理実行時間、後処理実行時間をそれぞれチャート処理結果情報として取得される。
【0094】
次に、コントローラ121は、取得した現在時刻、ジョブ情報、レシピ情報、実行済ジョブの実行時間等のチャート処理結果情報を含む各種装置データに基づき、(図11に示す)生産情報画面ファイルを作成して、実行済ジョブをそれぞれチャート表示するよう構成されている。
【0095】
図11に示す生産情報画面700は、縦軸を装置で実行された各種ジョブの順番を示す項番セル701と、横軸をジョブ名称セル702と、PMセル703と、レシピ名称セル704を含むジョブ情報と、所定の監視期間を示す日時705とした二次元空間を含む。ここで図5と同様、PMは、処理モジュール(Processing Module)の略称PMである。
【0096】
また、生産情報画面700の二次元空間には、ジョブの実行時間を示すアイコンで表示されている実行された実行済ジョブ706がチャート表示されており、実行済ジョブ706は、前処理ステップ706aと、本処理ステップ706bと、後処理ステップ706cとを有し、それぞれ各ステップで予め決定された色で表示されている。
【0097】
また、コントローラ121は、取得した装置データに異常が発生したことを示す異常データが含まれると、異常データが発生した実行済ジョブの項番セル701に異常アイコン707を表示するよう構成されている。尚、図6に示すスケジュール画面上で実行中のジョブにトラブルが発生したときにも同様に項番セル501に異常アイコンを設けるようにしてもよい。
【0098】
尚、図12に示すように、生産用のジョブ(プロセスジョブ)とメンテナンス用のジョブ(図12ではクリーニングジョブ)の違いを明確にして表示するよう項番セル701にアイコンが表示されるよう構成してもよい。
【0099】
本実施形態によれば、以下に示す(1)〜(7)における一つ以上の効果を奏する。
【0100】
(1)本実施形態によれば、チャート表示を行うことにより、予約中、前処理中、本処理中、後処理中よりなる群から選択されるジョブの進行状況を簡単に認識することができると共に予約している全てジョブの処理順番を認識できる。(2)本実施形態によれば、チャート表示を行うことにより、予約している全てジョブの開始時期及び終了予定時期が認識できるので、ジョブの実行計画を立てることができ、結果としてセットアップ作業を効率よく行うことができる。(3)本実施形態によれば、ジョブ単位でジョブがリカバリ条件待ちとなる要因情報を保有させているので、リカバリ条件待ちが発生したジョブを把握でき、その要因を認識できる。(4)本実施形態によれば、チャート表示を行うことにより、処理モジュール毎の利用頻度や使用間隔等のジョブ実行実績結果を把握できるだけでなく、他の処理モジュールとの実績との関係を認識できる。(5)本実施形態によれば、チャート表示を行うことにより、トラブル発生したジョブと前後に実行していたジョブとの関係性が把握できるので、トラブルシューティングが容易になる。(6)本実施形態によれば、生産ジョブとメンテナンスジョブを一目で識別可能となり、定期的なメンテナンスジョブなどが正常に実行しているか判断できる。(7)本実施形態によれば、処理開始時刻及び処理終了時刻をジョブ情報に保有し、先頭のジョブの開始時刻が決定すると、処理開始時刻及び処理終了時刻からジョブの実行予定時間を算出できるのでジョブの終了予定時刻が算出される。このジョブの終了予定時刻を時実行予定のジョブに反映させ、それを繰返すことで予約されているジョブの実行予定時間を算出することができる。
【0101】
本発明の実施形態における制御部121は、専用のコンピュータとして構成されている場合に限らず、汎用のコンピュータとして構成されていてもよい。例えば、上述のプログラムを格納した外部記憶装置(例えば、USBメモリ等の半導体メモリ等)123を用意し、この外部記憶装置123を用いて汎用のコンピュータにプログラムをインストールすること等により、本実施形態のコントローラ121を構成することができる。但し、コンピュータにプログラムを供給するための手段は、外部記憶装置123を介して供給する場合に限らない。例えば、インターネットや専用回線等の通信手段を用い、外部記憶装置123を介さずにプログラムを供給するようにしてもよい。記憶装置121cや外部記憶装置123は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体として構成される。以下、これらを総称して、単に、記録媒体ともいう。本明細書において記録媒体という言葉を用いた場合は、記憶装置121c単体のみを含む場合、外部記憶装置123単体のみを含む場合、または、それらの両方を含む場合がある。
【0102】
なお、本発明の実施形態に於ける基板処理装置1は、半導体を製造する半導体製造装置だけではなく、LCD(Liquid Crystal Display)装置の様なガラス基板を処理する装置でも適用可能である。又、露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置、プラズマを利用した処理装置等の各種基板処理装置にも適用可能であるのは言う迄もない。
【産業上の利用可能性】
【0103】
ジョブで実行される各種レシピの進捗状況を画面に表示することができ、画面上でジョブの進捗管理を行う基板処理装置に適用できる。
【符号の説明】
【0104】
10…基板処理装置、200…ウエハ、
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