特許第6812572号(P6812572)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6812572半導体ウェハの表面上への層の堆積の間に配向ノッチを有する半導体ウェハを保持するためのサセプタおよびサセプタを用いることによって層を堆積する方法
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  • 特許6812572-半導体ウェハの表面上への層の堆積の間に配向ノッチを有する半導体ウェハを保持するためのサセプタおよびサセプタを用いることによって層を堆積する方法 図000002
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