特許 6843352 硬化性組成物及びその硬化物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6843352

(24)【登録日】2021年2月26日

(45)【発行日】2021年3月17日

(54)【発明の名称】硬化性組成物及びその硬化物

(51)【国際特許分類】

   C08G 65/28 20060101AFI20210308BHJP

   C08G 59/68 20060101ALI20210308BHJP

   C07D 303/28 20060101ALI20210308BHJP

   C07D 305/06 20060101ALI20210308BHJP

   C08L 71/08 20060101ALN20210308BHJP

   C08L 63/00 20060101ALN20210308BHJP

【ＦＩ】

   C08G65/28

   C08G59/68

   C07D303/28

   C07D305/06

   !C08L71/08

   !C08L63/00 C

【請求項の数】10

【全頁数】28

(21)【出願番号】特願2017-20776(P2017-20776)

(22)【出願日】2017年2月7日

(65)【公開番号】特開2018-127410(P2018-127410A)

(43)【公開日】2018年8月16日

【審査請求日】2019年10月10日

(73)【特許権者】

【識別番号】519135633

【氏名又は名称】公立大学法人大阪

(73)【特許権者】

【識別番号】591147694

【氏名又は名称】大阪ガスケミカル株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100090686

【弁理士】

【氏名又は名称】鍬田 充生

(74)【代理人】

【識別番号】100142594

【弁理士】

【氏名又は名称】阪中 浩

(72)【発明者】

【氏名】岡村 晴之

(72)【発明者】

【氏名】松本 章一

(72)【発明者】

【氏名】三ノ上 渓子

(72)【発明者】

【氏名】宮内 信輔

【審査官】 小森 勇

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００２−３４８３５７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０８Ｇ ６５／２８

Ｃ０７Ｄ ３０３／２８

Ｃ０７Ｄ ３０５／０６

Ｃ０８Ｇ ５９／６８

Ｃ０８Ｌ ６３／００

Ｃ０８Ｌ ７１／０８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

カチオン重合性化合物と、ポリシランとを含む硬化性組成物であって、カチオン重合性化合物が、下記式（１）

【化1】

（式中、Ａｒ^１及びＡｒ^２はそれぞれアレーン環、Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれナフタレン環、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂ並びにＲ^２ａ及びＲ^２ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂはそれぞれ水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ０以上の整数を示す。）
で表される第１のカチオン重合性化合物を含む硬化性組成物。

【請求項2】

式（１）において、Ａｒ^１及びＡｒ^２がそれぞれＣ_６−１０アレーン環、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂがそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがそれぞれ水素原子又はＣ_１−６アルキル基、ｋ１及びｋ２がそれぞれ０〜４の整数、ｍ１及びｍ２がそれぞれ０〜６の整数、ｎ１及びｎ２がそれぞれ０〜２０の整数である請求項１記載の硬化性組成物。

【請求項3】

式（１）において、Ａｒ^１及びＡｒ^２がそれぞれベンゼン環、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂがそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがそれぞれＣ_１−４アルキル基、ｋ１及びｋ２がそれぞれ０〜２の整数、ｍ１及びｍ２がそれぞれ０〜２の整数、ｎ１及びｎ２がそれぞれ０〜８の整数である請求項１又は２記載の硬化性組成物。

【請求項4】

カチオン重合性化合物が、さらに、下記式（２）

【化2】

（式中、Ａｒ^３及びＡｒ^４並びにＺ^３及びＺ^４はそれぞれアレーン環、Ｒ^５ａ及びＲ^５ｂ並びにＲ^６ａ及びＲ^６ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^８ａ及びＲ^８ｂはそれぞれ水素原子又はメチル基、ｐ１及びｐ２、ｑ１及びｑ２並びにｒ１及びｒ２はそれぞれ０以上の整数、ｓ１及びｓ２は１〜４の整数を示す。）
で表される第２のカチオン重合性化合物を含む請求項１〜３のいずれかに記載の硬化性組成物。

【請求項5】

式（２）において、Ａｒ^３及びＡｒ^４がそれぞれＣ_６−１０アレーン環、Ｚ^３及びＺ^４がＣ_６−１２アレーン環、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂがそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、ｐ１及びｐ２がそれぞれ０〜４の整数、ｑ１及びｑ２がそれぞれ０〜６の整数、ｒ１及びｒ２がそれぞれ０〜２０の整数、ｓ１及びｓ２が１又は２である請求項４記載の硬化性組成物。

【請求項6】

第１のカチオン重合性化合物と第２のカチオン重合性化合物との割合が、前者／後者（重量比）＝５０／５０〜９９／１である請求項４又は５記載の硬化性組成物。

【請求項7】

ポリシランが、鎖状ポリＣ_１−６アルキルＣ_６−１４アリールシランを含む請求項１〜６のいずれかに記載の硬化性組成物。

【請求項8】

カチオン重合性化合物とポリシランとの割合が、前者／後者（重量比）＝９０／１０〜２０／８０である請求項１〜７のいずれかに記載の硬化性組成物。

【請求項9】

請求項１〜８のいずれかに記載の硬化性組成物が硬化した硬化物。

【請求項10】

温度２５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．６５〜１．７５である請求項９記載の硬化物。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ビスアリールフルオレン（ビスアリールベンゾフルオレン及びビスアリールジベンゾフルオレンなどを含む、以下同じ）骨格を有するオキセタン化合物を含むカチオン重合性化合物と、ポリシランとを含む硬化性組成物及びその硬化物に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、有機材料と無機材料とを分子レベルで複合化した有機無機ハイブリッド材料は、有機材料に由来する特性（例えば、軽量性、易加工性、柔軟性など）と、無機材料に由来する特性（耐熱性、耐候性、高弾性率など）とを両立し得る材料として注目されている。

【0003】

例えば、特開２０１６−２０４７２号公報（特許文献１）には、光カチオン重合性化合物（Ａ）、ポリシラン（Ｂ）及び可視光線を吸収して酸を発生する光酸発生剤（Ｃ）を含む光重合性樹脂組成物が開示されており、この組成物は、ポリシランの分解を抑制するために可視光を照射しても光感度に優れ、硬化物における硬度を向上できるため、光硬化塗膜、フォトレジスト、印刷製版材などに利用できることが記載されている。この文献の実施例では、９，９−ビス［３，４−ジグリシジルオキシ−フェニル］フルオレンと、ポリメチルフェニルシラン又はハイパーブランチドフェニルシランオリゴマーと、所定の光酸発生剤とを含む光重合性樹脂組成物を調製している。

【0004】

しかし、このような組成物から得られる硬化物の屈折率や不溶化率（又は硬化性）は十分でない場合があり、これらの特性に対する要求水準が高い用途には対応できない。

【0005】

なお、特開２０００−３３６０８２号公報（特許文献２）には、カチオン重合が可能な化合物として、９，９−ビスフェニルフルオレン骨格を有するオキセタン化合物が開示されている。しかし、特許文献２には、前記オキセタン化合物の硬化物における屈折率や不溶化率について具体的に記載されていないのみならず、前記オキセタン化合物とポリシランとを組み合わせて硬化性組成物を形成することについても何ら記載されていない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２０１６−２０４７２号公報（特許請求の範囲、実施例、段落［０００１］［０００９］）

【特許文献2】特開２０００−３３６０８２号公報（特許請求の範囲、実施例）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

従って、本発明の目的は、高い屈折率を有する硬化物を形成可能な硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。

【0008】

本発明の他の目的は、重合性官能基数が少ないカチオン重合性化合物を用いても、高い不溶化率（又は硬化性）を達成できる硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。

【0009】

本発明のさらに他の目的は、高い不溶化率と高い柔軟性（又は靱性）とを両立できる硬化物を形成可能な硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。

【0010】

本発明の別の目的は、縮合多環式芳香族骨格を含んでいても、溶媒に対する溶解性が高く、取り扱い性に優れた硬化性組成物及びその硬化物を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、ビスアリールフルオレン骨格を有するオキセタン化合物を含むカチオン重合性化合物と、ポリシランとを組み合わせると高屈折率な硬化物を形成できるのみならず、重合性官能基数が少ないカチオン重合性化合物を用いても、高い不溶化率も達成できることを見いだし、本発明を完成した。

【0012】

すなわち、本発明の硬化性組成物は、カチオン重合性化合物と、ポリシランとを含む硬化性組成物であって、カチオン重合性化合物が、下記式（１）で表される第１のカチオン重合性化合物を含む。

【0013】

【化1】

【0014】

（式中、Ａｒ^１及びＡｒ^２並びにＺ^１及びＺ^２はそれぞれアレーン環、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂ並びにＲ^２ａ及びＲ^２ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂはそれぞれ水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ０以上の整数を示す）。

【0015】

前記式（１）において、Ａｒ^１及びＡｒ^２はそれぞれＣ_６−１０アレーン環（例えば、ベンゼン環）、Ｚ^１及びＺ^２はＣ_６−１２アレーン環（例えば、ナフタレン環）、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基）、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂはそれぞれ水素原子又はＣ_１−６アルキル基（例えば、Ｃ_１−４アルキル基）、ｋ１及びｋ２はそれぞれ０〜４（例えば、０〜２）程度の整数、ｍ１及びｍ２はそれぞれ０〜６（例えば、０〜２）程度の整数、ｎ１及びｎ２はそれぞれ０〜２０（例えば、０〜８）程度の整数であってもよい。

【0016】

また、前記カチオン重合性化合物は、下記式（２）で表される第２のカチオン重合性化合物をさらに含んでいてもよい。

【0017】

【化2】

【0018】

（式中、Ａｒ^３及びＡｒ^４並びにＺ^３及びＺ^４はそれぞれアレーン環、Ｒ^５ａ及びＲ^５ｂ並びにＲ^６ａ及びＲ^６ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^８ａ及びＲ^８ｂはそれぞれ水素原子又はメチル基、ｐ１及びｐ２、ｑ１及びｑ２並びにｒ１及びｒ２はそれぞれ０以上の整数、ｓ１及びｓ２は１〜４の整数を示す）。

【0019】

前記式（２）において、Ａｒ^３及びＡｒ^４はそれぞれＣ_６−１０アレーン環、Ｚ^３及びＺ^４はＣ_６−１２アレーン環、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、ｐ１及びｐ２はそれぞれ０〜４程度の整数、ｑ１及びｑ２はそれぞれ０〜６程度の整数、ｒ１及びｒ２はそれぞれ０〜２０程度の整数、ｓ１及びｓ２は１又は２であってもよい。また、前記第１のカチオン重合性化合物と前記第２のカチオン重合性化合物との割合は、前者／後者（重量比）＝５０／５０〜９９／１程度であってもよい。

【0020】

前記ポリシランは、鎖状ポリＣ_１−６アルキルＣ_６−１４アリールシランを含んでいてもよい。また、前記カチオン重合性化合物と前記ポリシランとの割合は、前者／後者（重量比）＝９０／１０〜２０／８０程度であってもよい。

【0021】

本発明は、前記硬化性組成物が硬化した硬化物も包含する。前記硬化物は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．６５〜１．７５程度であってもよい。

【0022】

なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「フルオレン骨格を有する化合物」は、フルオレン骨格のみならず、ベンゾフルオレン骨格、ジベンゾフルオレン骨格などのフルオレン環が内在する芳香族骨格を有する化合物を含む意味に用いる。

【発明の効果】

【0023】

本発明の硬化性組成物は、所定のオキセタン化合物を含むカチオン重合性化合物と、ポリシランとを含むため、高屈折率な硬化物を形成できる。また、重合性官能基数が少ないカチオン重合性化合物を用いても、高い不溶化率（又は硬化性）を達成できるのみならず、高い不溶化率と柔軟性（又は靱性）とを両立できる。さらに、オキセタン化合物が縮合多環式芳香族骨格を含んでいても、溶媒に対する溶解性が高いため、取り扱い性を向上できる。

【発明を実施するための形態】

【0024】

本発明の硬化性組成物は、ビスアリールフルオレン骨格を有するオキセタン化合物（第１のカチオン重合性化合物ともいう）を含むカチオン重合性化合物と、ポリシランとを含む。

【0025】

［カチオン重合性化合物］
（第１のカチオン重合性化合物）
第１のカチオン重合性化合物は、下記式（１）で表される。

【0026】

【化3】

【0027】

（式中、Ａｒ^１及びＡｒ^２並びにＺ^１及びＺ^２はそれぞれアレーン環、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂ並びにＲ^２ａ及びＲ^２ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂはそれぞれ水素原子又は置換基、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２はそれぞれ０以上の整数を示す）。

【0028】

前記式（１）において、環Ａｒ^１及びＡｒ^２で表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環などのＣ_６−１４アレーン環、好ましくはベンゼン環、ナフタレン環などＣ_６−１０アレーン環（特に、ベンゼン環）などが挙げられる。環Ａｒ^１及びＡｒ^２で表されるアレーン環の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。

【0029】

環Ａｒ^１及びＡｒ^２は、間に介在する５員環とともに縮合環骨格、例えば、環Ａｒ^１及びＡｒ^２のうち、双方がベンゼン環であるフルオレン骨格；一方がベンゼン環、他方がナフタレン環であるベンゾフルオレン骨格（例えば、ベンゾ［ａ］フルオレン骨格、ベンゾ［ｂ］フルオレン骨格、ベンゾ［ｃ］フルオレン骨格など）；双方がナフタレン環であるジベンゾフルオレン骨格（例えば、ジベンゾ［ｂ，ｈ］フルオレン骨格など）などのフルオレン環が内在する芳香族骨格（好ましくはフルオレン骨格又はベンゾフルオレン骨格、特に、フルオレン骨格）を形成してもよい。

【0030】

前記式（１）において、環Ｚ^１及びＺ^２で表されるアレーン環としては、ベンゼン環などの単環式アレーン環、多環式アレーン環などが挙げられ、多環式アレーン環には、縮合多環式アレーン環（縮合多環式芳香族炭化水素環）、環集合アレーン環（環集合芳香族炭化水素環）などが含まれる。

【0031】

縮合多環式アレーン環としては、例えば、縮合二環式アレーン環（例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ_{１０−１６}アレーン環）、縮合三環式アレーン環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環など）などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。好ましい環Ｚ^１及びＺ^２としては、ナフタレン環、アントラセン環などの縮合多環式Ｃ_{１０−１６}アレーン環（好ましくは縮合多環式Ｃ_{１０−１４}アレーン環）が挙げられ、特に、ナフタレン環が好ましい。

【0032】

環集合アレーン環としては、ビアレーン環（例えば、ビフェニル環、ビナフチル環、フェニルナフタレン環（１−フェニルナフタレン環、２−フェニルナフタレン環など）などのビＣ_６−１２アレーン環など）、テルアレーン環（例えば、テルフェニレン環などのテルＣ_６−１２アレーン環など）などが例示できる。好ましい環集合アレーン環は、ビＣ_６−１０アレーン環などが挙げられ、特にビフェニル環が好ましい。

【0033】

環Ｚ^１及びＺ^２の種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。環Ｚ^１及びＺ^２のうち、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６−１２アレーン環などが好ましく、なかでもベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６−１０アレーン環、特に、高屈折率化できる点からナフタレン環が好ましい。

【0034】

なお、前記５員環に結合する環Ｚ^１及びＺ^２の置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚ^１及びＺ^２がナフタレン環の場合、１−位又は２−位のいずれかの位置であってもよい。また、環Ｚ^１及びＺ^２がビフェニル環の場合、２−位、３−位、４−位のいずれかの位置であってもよい。

【0035】

前記式（１）において、置換基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂとしては、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基など）、アリール基（例えば、フェニル基などのＣ_６−１０アリール基など）など］、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）などが挙げられる。これらの基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂのうち、アルキル基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基）、シアノ基、ハロゲン原子が好ましく、特にアルキル基（特に、メチル基などのＣ_１−３アルキル基）が好ましい。

【0036】

基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂの置換数ｋ１及びｋ２は、０以上の整数、例えば、０〜８（例えば、０〜４）程度の整数、好ましくは０〜２程度の整数、さらに好ましくは０又は１、特に０である。なお、置換数ｋ１及びｋ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、環Ａｒ^１及びＡｒ^２に置換する基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、ｋ１及びｋ２が２以上である場合、同一の環Ａｒ^１及びＡｒ^２に置換する２以上の基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂの置換位置は、特に制限されず、例えば、環Ａｒ^１及びＡｒ^２並びに５員環がフルオレン環を形成する場合、２−位乃至７−位（２−位、３−位及び７−位など）であってもよい。

【0037】

前記式（１）において、置換基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂとしては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基など）；シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ_５−１０シクロアルキル基など）；アリール基［例えば、フェニル基、アルキルフェニル基（例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ_６−１２アリール基など］；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキル基など）など｝、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルコキシ基など）、シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシ基などのＣ_５−１０シクロアルキルオキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基などのＣ_６−１０アリールオキシ基など）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキルオキシ基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ_１−１０アルキルチオなど）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロヘキシルチオ基などのＣ_５−１０シクロアルキルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、チオフェノキシ基などのＣ_６−１０アリールチオ基など）、アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキルチオ基など）、アシル基（例えば、アセチル基などのＣ_１−６アシル基など）、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基［例えば、ジアルキルアミノ基（例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ_１−４アルキルアミノ基など）、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基（例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ_１−４アルキル−カルボニル）アミノ基など）など］などが例示できる。

【0038】

これらの基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂのうち、代表的には、ハロゲン原子、炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基）、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。好ましい基Ｒ^２としては、アルキル基（メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基など）、アリール基（フェニル基などのＣ_６−１４アリール基など）、アルコキシ基（メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルコキシ基など）、特に、アルキル基（特に、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基）、アリール基（フェニル基などのＣ_６−１０アリール基など）が挙げられる。

【0039】

基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂの置換数ｍ１及びｍ２は、０以上の整数であればよく、環Ｚ^１及びＺ^２の種類に応じて適宜選択できる。例えば、０〜８程度の整数であってもよく、好ましくは０〜４（例えば、０〜３）程度の整数、さらに好ましくは０〜２程度の整数（例えば、０又は１）、特に０であってもよい。なお、置換数ｍ１及びｍ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、置換数ｍ１及びｍ２が２以上である場合、同一の環Ｚ^１及びＺ^２に置換する２以上の基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂの種類は、それぞれ互いに同一又は異なっていてもよい。基Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂの置換位置は、特に制限されず、オキセタン環含有基の置換位置以外の位置に置換していればよい。

【0040】

前記式（１）において、基Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂには、直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基が含まれ、直鎖状アルキレン基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基などの直鎖状Ｃ_２−６アルキレン基（好ましくは直鎖状Ｃ_２−４アルキレン基、さらに好ましくは直鎖状Ｃ_２−３アルキレン基、特にエチレン基）が挙げられ、分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、プロピレン基、１，２−ブタンジイル基、１，３−ブタンジイル基などの分岐鎖状Ｃ_３−６アルキレン基（好ましくは分岐鎖状Ｃ_３−４アルキレン基、特にプロピレン基）などが挙げられる。これらの基Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂのうち、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基など）、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−３アルキレン基（特にエチレン基）であってもよい。なお、異なる環Ｚ^１及びＺ^２に置換したそれぞれのオキセタン環含有基において、基Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。

【0041】

オキシアルキレン基（ＯＲ^３ａ及びＯＲ^３ｂ）の繰り返し数ｎ１及びｎ２は、０以上の整数（例えば、０〜２０程度の整数）の範囲から選択でき、例えば、０〜１５（１〜１０）程度の整数、好ましくは０〜８（例えば、２〜７）程度の整数、さらに好ましくは０〜５（例えば、３〜５）程度の整数、特に０〜２程度の整数（例えば、０又は１、特に０）であってもよい。ｎ１及びｎ２が大きすぎると、屈折率が低下するおそれがある。また、ｎ１及びｎ２は、互いに同一又は異なっていてもよい。オキセタン環含有基において、繰り返し数ｎ１及びｎ２が２以上である場合、２以上の基Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂの種類は、互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

【0042】

なお、本明細書中において、特に断りのない限り、「オキシアルキレン基の繰り返し数」（及び後述する「オキシアルキレン基の合計数（合計付加数）」）とは、化合物１分子中におけるオキシアルキレン基の数（整数）、及び化合物の分子集合体におけるオキシアルキレン基の個数の平均値［すなわち、平均付加モル数］の双方を含む意味に用いる。そのため、繰り返し数ｎ１及びｎ２は、前記式（１）で表される化合物の分子集合体における平均値（相加平均又は算術平均）であってもよく、その範囲は、前記整数の範囲と好ましい態様も含めて同等程度であってもよい。

【0043】

また、前記式（１）において、繰り返し数ｎ１及びｎ２の合計数は、前記式（１）で表される化合物１分子中のオキシアルキレン基の合計数（合計付加数）を意味し、単にｎ１＋ｎ２という場合がある。ｎ１＋ｎ２は、例えば、０〜３０程度の整数の範囲から選択でき、例えば、０〜２５（例えば、１〜２０）程度の整数、好ましくは０〜１５（例えば、２〜１０）程度の整数、さらに好ましくは０〜８（例えば、４〜６）程度の整数、特に０〜４（例えば、０〜２、特に０）程度の整数であってもよい。また、ｎ１＋ｎ２は前記のように整数であってもよいが、前記式（１）で表される化合物の分子集合体における平均付加モル数であってもよく、その範囲は、例えば、前記整数の範囲と好ましい態様も含めて同等程度であってもよい。ｎ１＋ｎ２の値が大きすぎると、硬化物の単位量（例えば、単位重量）当たりのビスアリールフルオレン骨格含有量（例えば、含有モル数）が低下するため、前記骨格に由来する高屈折率、高耐熱性などの優れた特性が低下するおそれがある。なお、ｎ１＋ｎ２は、慣用の方法で測定することができ、例えば、前記式（１）で表される化合物の調製において、原料となるビスアリールフルオレン骨格を有するヒドロキシ化合物の量と、反応で消費されるアルキレンオキシド（アルキレンカーボネート又はハロアルカノール）の量との割合から、相加平均又は算術平均の値として算出する方法（例えば、国際公開第２０１３／０２２０６５号記載の方法など）などにより測定できる。

【0044】

前記式（１）において、基Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂは水素原子又は置換基であり、置換基としては、例えば、炭化水素基｛例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基など）；シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ_５−１０シクロアルキル基など）；アリール基［例えば、フェニル基、アルキルフェニル基（例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）など）、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ_６−１２アリール基など］；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキル基など）；アリル基など｝；フッ素含有基［例えば、フッ素原子；フッ化アルキル基（トリフルオロメチル基などのＣ_１−６フッ化アルキル基）などのフッ化炭化水素基など］；ヘテロアリール基（例えば、フリル基、チエニル基など）などが挙げられる。

【0045】

好ましい基Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂは、水素原子又は炭化水素基（例えば、水素原子又はアルキル基）などが挙げられ、さらに好ましくは水素原子又はＣ_１−６アルキル基（例えば、水素原子又はＣ_１−４アルキル基）、特に水素原子又はＣ_１−２アルキル基（例えば、メチル基又はエチル基、特にメチル基）であるのが好ましい。なお、基Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂの種類は、互いに異なっていてもよく、通常、同一である。

【0046】

オキセタン環含有基の置換位置は特に制限されず、環Ｚ^１及びＺ^２の適当な位置に置換でき、例えば、環Ｚ^１及びＺ^２がベンゼン環である場合には、対応するフェニル基の３−位又は４−位（特に４−位）に置換する場合が多い。また、環Ｚ^１及びＺ^２がナフタレン環である場合には、対応するナフチル基の５〜８−位のいずれかに置換している場合が多く、例えば、環Ａｒ^１及びＡｒ^２の間に介在する前記５員環に対して、ナフタレン環の１−位又は２−位が置換し（１−ナフチル又は２−ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して、１，５−位、２，６−位などの関係（特に２，６−位の関係）でオキセタン環含有基が置換している場合が多い。

【0047】

前記式（１）で表される第１のカチオン重合性化合物として、例えば、前記式（１）において、（Ａ）環Ａｒ^１及びＡｒ^２がベンゼン環である化合物、（Ｂ）環Ａｒ^１及びＡｒ^２のうち少なくとも一方がナフタレン環である化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの化合物のうち、（Ａ）環Ａｒ^１及びＡｒ^２がベンゼン環である化合物が好ましい。

【0048】

（Ａ）環Ａｒ^１及びＡｒ^２がベンゼン環である化合物
前記式（１）における環Ａｒ^１及びＡｒ^２がベンゼン環である化合物として代表的には、例えば、（Ａ１）環Ｚ^１及びＺ^２がベンゼン環であるビスフェニルフルオレン類、（Ａ２）環Ｚ^１及びＺ^２がナフタレン環であるビスナフチルフルオレン類などが挙げられる。

【0049】

（Ａ１）ビスフェニルフルオレン類として具体的には、例えば、（A1-1）前記式（１）において、ｎ１及びｎ２が０である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］フルオレン類｛例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−オキセタニル）メトキシ）−フェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１又は２、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアルキル基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−（モノ又はジ）アルキルフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−オキセタニル）メトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（（３−オキセタニル）メトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−（モノ又はジ）Ｃ_１−６アルキルフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１又は２、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアルキル基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−（モノ又はジ）アルキルフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−メチル−３−オキセタニル）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−（モノ又はジ）Ｃ_１−６アルキルフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアリール基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−アリールフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−オキセタニル）メトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−Ｃ_６−１０アリールフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアリール基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−アリールフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−Ｃ_６−１０アリールフェニル］フルオレンなど）など｝；（A1-2）前記式（１）において、ｎ１及びｎ２が１以上［例えば、１〜２０、好ましくは２〜１０（例えば、３〜８）、さらに好ましくは４〜７程度］である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−フェニル］フルオレン類（すなわち、前記（A1-1）に例示の化合物に対応してｎ１及びｎ２が１以上である化合物）｛例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−フェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）プロポキシ）−フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−フェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−フェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−フェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１又は２、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアルキル基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−（モノ又はジ）アルキルフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−（モノ又はジ）Ｃ_１−６アルキルフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１又は２、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアルキル基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−（モノ又はジ）アルキルフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−（モノ又はジ）Ｃ_１−６アルキルフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアリール基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−アリールフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−Ｃ_６−１０アリールフェニル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が１、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂがアリール基、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−アリールフェニル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［４−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−Ｃ_６−１０アリールフェニル］フルオレンなど）など｝などが挙げられる。

【0050】

（Ａ２）ビスナフチルフルオレン類として具体的には、例えば、（A2-1）前記式（１）において、ｎ１及びｎ２が０である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン類｛例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［６−（（３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［６−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレンなど）；（A2-2）前記式（１）において、ｎ１及びｎ２が１以上［例えば、１〜２０、好ましくは２〜１０（例えば、３〜８）、さらに好ましくは４〜７程度］である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン類（すなわち、前記（A2-1）に例示の化合物に対応してｎ１及びｎ２が１以上である化合物）｛例えば、前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂが水素原子である９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［６−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）プロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−（（３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど）；前記式（１）において、ｍ１及びｍ２が０、Ｒ^４ａ及びＲ^４ｂがアルキル基である９，９−ビス［（３−アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）プロポキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−６アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至イコサ）Ｃ_２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど）など｝などが挙げられる。

【0051】

なお、前記例示の化合物において、前記式（１）におけるｋ１及びｋ２が１以上である化合物も含む。また、本明細書及び特許請求の範囲において、「（ポリ）アルコキシ」とは、アルコキシ基及びポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。

【0052】

これらの前記式（１）で表される第１のカチオン重合性化合物は単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。好ましい第１のカチオン重合性化合物としては、例えば、（Ａ１）ビスフェニルフルオレン類［例えば、９，９−ビス［４−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−フェニル］フルオレン；９，９−ビス［４−（２−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）エトキシ）−フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ−フェニル］フルオレンなど］；（Ａ２）ビスナフチルフルオレン類などが挙げられ、なかでも、屈折率及び溶媒に対する溶解性を高めるためには、（Ａ２）ビスナフチルフルオレン類［例えば、９，９−ビス［（３−Ｃ_１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレンなどの（A2-1）９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレン類；９，９−ビス［（３−Ｃ_１−４アルキル−３−オキセタニル）メトキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−６アルコキシ−ナフチル］フルオレンなどの（A2-2）９，９−ビス［（３−オキセタニル）メトキシ（ポリ）アルコキシ−ナフチル］フルオレン類など］が好ましく、特に、９，９−ビス［６−（（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［（３−Ｃ_１−２アルキル−３−オキセタニル）メトキシ−ナフチル］フルオレンが好ましい。

【0053】

これらの第１のカチオン重合性化合物は、市販品を使用してもよく、慣用の方法（例えば、特開２０００−３３６０８２号公報記載の方法など）により調製してもよい。代表的な方法としては、例えば、下記式（１Ａ）で表される化合物と、下記式（１Ｂ）で表される化合物とを反応させて調製する方法などであってもよい。

【0054】

【化4】

【0055】

（式中、Ａｒ^１及びＡｒ^２、Ｚ^１及びＺ^２、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂ、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂ、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂ、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２は、それぞれ好ましい態様を含めて前記式（１）に同じ）。

【0056】

【化5】

【0057】

（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ^４は水素原子又は置換基を示す）。

【0058】

前記式（１Ａ）で表される化合物として具体的には、例えば、前記式（１）で表される第１のカチオン重合性化合物として例示した化合物の（３−オキセタニル）メチル基又は（３−アルキル−３−オキセタニル）メチル基を水素原子に置換したジヒドロキシ化合物などが挙げられる。前記式（１Ａ）で表される化合物は、市販品を使用してもよく、慣用の方法［例えば、環Ａｒ^１及びＡｒ^２に対応するフルオレノン化合物（ベンゾフルオレノン又はジベンゾフルオレノンを含む）と、環Ｚ^１及びＺ^２に対応するフェノール又はアルコールとを、硫酸などの酸触媒、β−メルカプトプロピオン酸などの助触媒など存在下で反応させる方法など］により調製してもよい。

【0059】

前記式（１Ｂ）において、Ｒ^４で表される水素原子又は置換基は、前記式（１）におけるＲ^４ａ及びＲ^４ｂと好ましい態様を含めて同様である。

【0060】

前記式（１Ｂ）において、Ｘで表されるハロゲン原子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、塩素であるのが好ましい。

【0061】

前記式（１Ｂ）で表される化合物として具体的には、例えば、３−クロロメチル−オキセタンなどの３−ハロメチル−オキセタン；３−クロロメチル−３−メチルオキセタン、３−クロロメチル−３−エチルオキセタンなどの３−ハロメチル−３−Ｃ_１−６アルキルオキセタンなどが挙げられる。これらの前記式（１Ｂ）で表される化合物のうち、３−ハロメチル−３−Ｃ_１−４アルキルオキセタン（特に、３−クロロメチル−３−メチルオキセタンなどの３−ハロメチル−３−Ｃ_１−２アルキルオキセタンなど）が好ましい。前記式（１Ｂ）で表される化合物は市販品などを使用できる。

【0062】

前記式（１Ｂ）で表される化合物の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モル（例えば、１〜２モル）、さらに好ましくは１．０５〜１．５モル（例えば、１．１〜１．３モル）程度であってもよい。

【0063】

反応は、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の存在下で行ってもよい。アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどが挙げられる。アルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）；アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）；アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）などが挙げられる。

【0064】

これらのアルカリ金属又はアルカリ金属化合物は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらのアルカリ金属又はアルカリ金属化合物のうち、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが好ましい。アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、１〜２モル、好ましくは１．１〜１．５モル、さらに好ましくは１．２〜１．４モル程度であってもよい。

【0065】

反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、例えば、テトラアルキルアンモニウムハライド（例えば、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどのテトラＣ_１−８アルキルアンモニウムハライドなど）などの有機アンモニウムハライドなどが挙げられる。これらの相間移動触媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの相間移動触媒のうち、テトラメチルアンモニウムブロミドなどのテトラＣ_１−４アルキルアンモニウムハライドなどが好ましい。相間移動触媒の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．００１〜１モル、好ましくは０．０１〜０．１モル、さらに好ましくは０．０２〜０．０５モル程度であってもよい。

【0066】

反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンなど）；エーテル類（ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類など）；アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）；スルホキシド類（ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など）；水などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、通常、トルエンなどの芳香族炭化水素類、ジオキサンなどの環状エーテル類、ＤＭＦなどのアミド類などであってもよい。溶媒の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部、好ましくは２００〜８００重量部、さらに好ましくは４００〜６００重量部程度であってもよい。

【0067】

反応は、反応促進剤の存在下で行ってもよい。反応促進剤としては、例えば、ヨウ化カリウムなどのアルカリ金属ヨウ化物などが挙げられる。反応促進剤の割合は、前記式（１Ａ）で表される化合物のヒドロキシル基１モルに対して、例えば、０．０１〜０．１モル、好ましくは０．０２〜０．０８モル、さらに好ましくは０．０４〜０．０６モル程度であってもよい。

【0068】

反応は、空気中又は不活性ガス（例えば、窒素；アルゴン、ヘリウムなどの希ガスなど）中で行ってもよい。また、反応は、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。反応温度は、例えば、５０〜１５０℃、好ましくは７０〜１２０℃程度であってもよい。反応時間は特に制限されず、例えば、１〜１２時間、好ましくは５〜７時間程度であってもよい。反応終了後、反応生成物は、洗浄、抽出、濃縮、ろ過、再沈殿、遠心分離、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの慣用の分離精製手段や、これらを組み合わせた方法により、分離精製してもよい。

【0069】

（第２のカチオン重合性化合物）
カチオン重合性化合物は、不溶化率を向上し易い点から、必要に応じて、下記式（２）で表される第２のカチオン重合性化合物を含んでいてもよい。

【0070】

【化6】

【0071】

（式中、Ａｒ^３及びＡｒ^４並びにＺ^３及びＺ^４はそれぞれアレーン環、Ｒ^５ａ及びＲ^５ｂ、Ｒ^６ａ及びＲ^６ｂはそれぞれ置換基、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂはそれぞれ直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^８ａ及びＲ^８ｂはそれぞれ水素原子又はメチル基、ｐ１及びｐ２、ｑ１及びｑ２並びにｒ１及びｒ２はそれぞれ０以上の整数、ｓ１及びｓ２は１〜４の整数を示す）。

【0072】

前記式（２）において、Ａｒ^３及びＡｒ^４、Ｚ^３及びＺ^４、Ｒ^５ａ及びＲ^５ｂ、Ｒ^６ａ及びＲ^６ｂ、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂ、ｐ１及びｐ２、ｑ１及びｑ２並びにｒ１及びｒ２は、前記式（１）におけるＡｒ^１及びＡｒ^２、Ｚ^１及びＺ^２、Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂ、Ｒ^２ａ及びＲ^２ｂ、Ｒ^３ａ及びＲ^３ｂ、ｋ１及びｋ２、ｍ１及びｍ２並びにｎ１及びｎ２にそれぞれ対応し、環又は基の種類や結合位置、数値範囲などの好ましい態様を含めて同様であってもよい。

【0073】

前記式（２）において、Ｒ^８ａ及びＲ^８ｂは水素原子であるのが好ましい。また、Ｒ^８ａ及びＲ^８ｂの種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一である。

【0074】

前記式（２）において、ｓ１及びｓ２は、例えば、１〜３の整数、好ましくは１又は２、さらに好ましくは１であってもよい。本発明では、ｓ１及びｓ２が小さくても（又は重合性官能基数が少なくても）、不溶化率を有効に向上できる。

【0075】

また、前記式（２）で表される化合物１分子中におけるオキシアルキレン基の合計数（合計付加数）［単に、ｒ１×ｓ１＋ｒ２×ｓ２という場合がある］は、ｓ１及びｓ２の値に応じて選択でき、例えば、０〜６０程度の整数の範囲から選択でき、例えば、０〜４０（例えば、２〜３０）程度の整数、好ましくは０〜２０（例えば、４〜１６）程度の整数、さらに好ましくは０〜１２（例えば、６〜１０）程度の整数、特に０〜４（例えば、０〜２、特に０）程度の整数であってもよい。

【0076】

前記式（２）で表される第２のカチオン重合性化合物として、具体的には、例えば、前記式（１）で表される第１のカチオン重合性化合物として例示した化合物の（３−オキセタニル）メチル基又は（３−アルキル−３−オキセタニル）メチル基をグリシジル基に置換したジグリシジル化合物などが挙げられる。これらの第２のカチオン重合性化合物は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。第２のカチオン重合性化合物のうち、硬化性組成物及び硬化物を高屈折率化し易い観点から、９，９−ビス（グリシジルオキシナフチル）フルオレン；９，９−ビス［グリシジルオキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレン（例えば、９，９−ビス［６−（２−グリシジルオキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［グリシジルオキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシナフチル］フルオレンなど）などが好ましく、９，９−ビス［６−グリシジルオキシ−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス（グリシジルオキシナフチル）フルオレンが特に好ましい。

【0077】

前記式（２）で表される第２のカチオン重合性化合物は、市販品を使用してもよく、慣用の方法［例えば、特開２０１２−１０２２２８号公報に記載の方法、すなわち、前記式（２）で表される化合物に対応するジヒドロキシ化合物（前記式（１Ａ）で表される化合物）とエピクロロヒドリンとを、水酸化ナトリウムなどの塩基の存在下で反応させる方法など］により調製してもよい。

【0078】

第１のカチオン重合性化合物と第２のカチオン重合性化合物との割合は、例えば、前者／後者（重量比）＝５０／５０〜９９／１程度の範囲から選択でき、例えば、７０／３０〜９７／３、好ましくは８０／２０〜９５／５、さらに好ましくは８５／１５〜９５／５程度であってもよい。

【0079】

カチオン重合性化合物は、必ずしも必要ではないが、前記第１及び第２のカチオン重合性化合物に属さない他のカチオン重合性化合物（単に、第３のカチオン重合性化合物ともいう）を含んでいてもよい。第３のカチオン重合性化合物としては、例えば、オキセタン環含有化合物（例えば、（３−エチル−３−オキセタニル）メタノールなどの単官能性オキセタン化合物；ｐ−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼンなどの多官能性オキセタン化合物など）；慣用のエポキシ樹脂（例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂；グリシジルエステル型エポキシ樹脂；グリシジルアミン型エポキシ樹脂；脂環式エポキシ樹脂など）；ビニルエーテル基含有化合物（例えば、９，９−ビス［４−（２−ビニルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ビニルオキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ビニルオキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン；９，９−ビス［４−（２−ビニルオキシエトキシ）−２−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ビニルオキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ビニルオキシ（ポリ）アルコキシ−（モノ又はジ）アルキルフェニル］フルオレンなど）などが挙げられる。

【0080】

第１のカチオン重合性化合物及び第２のカチオン重合性化合物の合計量の割合は、カチオン重合性化合物全体に対して、例えば、１０重量％以上（例えば、３０〜１００重量％）程度の範囲から選択でき、例えば、５０重量％以上（例えば、５０〜９９重量％）、好ましくは７０重量％以上（例えば、７０〜９７重量％）、さらに好ましくは９０重量％以上（例えば、９０〜９５重量％）程度であってもよく、実質的に１００重量％（第３のカチオン重合性化合物を含まない態様）であってもよい。

【0081】

［ポリシラン］
ポリシランとしては、Ｓｉ−Ｓｉ結合を有する直鎖状、環状、分岐鎖状、又は網目状の化合物であれば特に限定されないが、通常、下記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される構造単位のうち少なくとも１つの構造単位を有するポリシランで構成されている場合が多い。

【0082】

【化7】

【0083】

（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１１は、同一又は相異なって、水素原子、ヒドロキシル基、有機基又はシリル基を示す）。

【0084】

前記式（３ａ）及び（３ｂ）において、Ｒ^９〜Ｒ^１１で表される有機基としては、例えば、炭化水素基（アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基）、これらの炭化水素基に対応するエーテル基（アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など）などが挙げられる。通常、前記有機基は、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基である場合が多い。また、水素原子やヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基などは末端に置換している場合が多い。

【0085】

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのＣ_１−１４アルキル基（好ましくはＣ_１−１０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１−６アルキル基）が挙げられる。

【0086】

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基などのＣ_１−１４アルコキシ基が挙げられる。

【0087】

アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基などのＣ_２−１４アルケニル基が挙げられる。

【0088】

シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基などのＣ_５−１４シクロアルキル基などが挙げられる。シクロアルキルオキシ基としては、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などのＣ_５−１４シクロアルキルオキシ基などが挙げられる。シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基などのＣ_５−１４シクロアルケニル基などが挙げられる。

【0089】

アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）、ナフチル基などのＣ_６−２０アリール基（好ましくはＣ_６−１５アリール基、さらに好ましくはＣ_６−１２アリール基）などが挙げられる。アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基などのＣ_６−２０アリールオキシ基などが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基などのＣ_６−２０アリール−Ｃ_１−４アルキル基などが挙げられる。アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基などのＣ_６−２０アリール−Ｃ_１−４アルキルオキシ基などが挙げられる。

【0090】

シリル基としては、シリル基、ジシラニル基、トリシラニル基などのＳｉ_１−１０シラニル基（好ましくはＳｉ_１−６シラニル基）などが挙げられる。

【0091】

また、Ｒ^９〜Ｒ^１１が、前記有機基（アルキル基、アリール基など）又はシリル基である場合には、その水素原子の少なくとも１つが、置換基（又は官能基）により置換されていてもよい。このような置換基（又は官能基）は、例えば、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基などの前記例示の基と同様であってもよい。

【0092】

これらのうち、Ｒ^９〜Ｒ^１１は、アルキル基（例えば、メチル基などのＣ_１−４アルキル基）、アリール基（例えば、フェニル基などのＣ_６−２０アリール基）などである場合が多い。

【0093】

ポリシランが非環状構造（鎖状（直鎖状、分岐鎖状）、網目状）の場合、末端基（末端置換基）は、通常、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（塩素原子など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シリル基などであってもよい。これらのうち、ヒドロキシル基、メチル基、フェニル基である場合が多く、なかでも、光酸発生剤から発生する酸をトラップすることなく、光硬化性を向上できる点から、フェニル基、メチル基が好ましく、末端基はトリメチルシリル基であってもよい。

【0094】

具体的なポリシランとしては、例えば、前記式（３ａ）で表される構造単位を有する直鎖状又は環状ポリシラン、前記式（３ｂ）で表される構造単位を有するポリシラン（分岐鎖状又は網目状ポリシラン）、前記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される構造単位を組み合わせて有するポリシラン（分岐鎖状又は網目状ポリシラン）などが挙げられる。これらのポリシランにおいて、前記式（３ａ）及び（３ｂ）で表される構造単位は、それぞれ、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。なお、分岐鎖状又は網目状ポリシランは、下記式（３ｃ）で表される構造単位をさらに含んでいてもよい。

【0095】

【化8】

【0096】

代表的なポリシランとしては、鎖状又は環状ポリシラン、例えば、ポリジアルキルシラン［例えば、ポリジメチルシラン、ポリメチルプロピルシラン、ポリメチルブチルシラン、ポリメチルペンチルシラン、ポリジブチルシラン、ポリジヘキシルシラン、ジメチルシラン−メチルへキシルシラン共重合体など］；ポリアルキルアリールシラン［例えば、ポリメチルフェニルシラン、メチルフェニルシラン−フェニルヘキシルシラン共重合体など］；ポリジアリールシラン（例えば、ポリジフェニルシランなど）；ジアルキルシラン−アルキルアリールシラン共重合体（例えば、ジメチルシラン−メチルフェニルシラン共重合体、ジメチルシラン−フェニルヘキシルシラン共重合体、ジメチルシラン−メチルナフチルシラン共重合体など）などが挙げられる。これらのポリシランは、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。

【0097】

これらのうち、カチオン重合を阻害せず、硬化物の安定性を向上できる点から、Ｒ^９がアリール基（特にＣ_６−２０アリール基）であり、かつＲ^１０がアリール基（特にＣ_６−２０アリール基）又はアルキル基（特にＣ_１−６アルキル基）である構造単位（３ａ）を有するポリシラン（特に鎖状又は環状ポリシラン）、例えば、ポリＣ_１−６アルキルＣ_６−２０アリールシラン（例えば、ポリＣ_１−３アルキルＣ_６−１０アリールシラン）、ポリジＣ_６−２０アリールシラン（例えば、ポリジＣ_６−１０アリールシラン）が好ましい。さらに、カチオン重合性化合物との相溶性などの点から、鎖状ポリアルキルアリールシラン（例えば、鎖状ポリＣ_１−６アルキルＣ_６−１４アリールシランなど）、環状ジアリールシランが好ましく、特に鎖状ポリアルキルアリールシラン（特にポリメチルフェニルシランなどの鎖状ポリＣ_１−３アルキルＣ_６−１０アリールシラン）が好ましい。

【0098】

本発明に用いるポリシランとしては、ポリシランの末端のケイ素原子に少なくとも１つの水酸基が直接結合したポリシラン、すなわち、末端に少なくとも１つのシラノール基（ヒドロキシル基）を有するポリシランが好ましい。ケイ素原子に直接結合した水酸基は、カチオン重合性化合物のオキセタニル基（及びエポキシ基）との良好な反応性を示し、紫外光照射及び／又は加熱により、カチオン重合性化合物とポリシランとの間に高度な架橋構造が形成される。ヒドロキシル基の含有割合としては、１つのケイ素原子当たり、例えば、平均０．００５〜２．５個程度、好ましくは平均０．０１〜１個程度、より好ましくは平均０．０５〜０．５個程度である。シラノール基（ヒドロキシル基）の含有割合が多すぎると、光酸発生剤による酸をトラップするためか、カチオン重合を阻害する虞がある。

【0099】

ポリシランの平均重合度は、ケイ素原子換算（すなわち、一分子あたりのケイ素原子の平均数）で、例えば、２〜２００（例えば、４〜１５０）、好ましくは８〜１００（１０〜５０）、さらに好ましくは１２〜３０（特に１５〜２０）程度であってもよい。ポリシランの数平均分子量Ｍｎは、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）による測定方法において、例えば、１００〜５００００（例えば、２００〜３００００）、好ましくは３００〜１００００、さらに好ましくは４００〜８０００（例えば、５００〜５０００）程度であってもよく、通常、７００〜４０００（例えば、１０００〜３０００）程度であってもよい。ポリシランの重量平均分子量Ｍｗは、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）による測定方法において、例えば、１０００〜１０００００（例えば、３０００〜５００００）、好ましくは５０００〜３００００、さらに好ましくは７０００〜２００００（例えば、９０００〜１５０００）程度であってもよい。重合度及び分子量が小さすぎると、硬化性組成物における反応性、並びに硬化物の屈折率、耐熱性及び撥水性が低下する虞があり、重合度及び分子量が大きすぎると、硬化物の機械的特性が低下する虞がある。

【0100】

ポリシランは、室温（例えば、１５〜２５℃程度）で、固体状、液体状のいずれであってもよく、例えば、取り扱い性などの点から、固体状であってもよく、組成物中に均一に分散し易い点から、液体状のポリシランであってもよい。

【0101】

カチオン重合性化合物（例えば、第１及び第２のカチオン重合性化合物の合計量など）とポリシランとの割合は、例えば、前者／後者（重量比）＝９９／１〜１０／９０程度の広い範囲から選択でき、例えば、９０／１０〜２０／８０（例えば、８０／２０〜２５／７５）、好ましくは７０／３０〜３０／７０（例えば、６５／３５〜３５／６５）、さらに好ましくは６０／４０〜４０／６０（例えば、５５／４５〜４５／５５）程度であってもよい。ポリシランの割合が少なすぎると、硬化物の高屈折率化や、耐熱性及び撥水性が低下する虞があり、多すぎると、硬化物の機械的特性が低下する虞がある。

【0102】

［他の成分］
（光酸発生剤）
本発明の硬化性組成物は、重合開始剤として、光酸発生剤を含んでいる場合が多い。光酸発生剤としては、慣用の光酸発生剤、例えば、イミジルスルホネート化合物、チオキサントンオキシムエステル化合物、オニウム塩、メタロセン錯体、スルホンイミド化合物、ジスルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、キノンジアジド化合物、ジアゾメタン化合物などであってもよいが、光照射によるポリシランの分解又は劣化を抑制できる観点から、可視光線を吸収して酸を発生する光酸発生剤であるのが好ましい。

【0103】

可視光線を吸収して酸を発生する光酸発生剤としては、例えば、フェニルチオフェン類［例えば、ビス（４−メチルフェニル）（５−フェニル−チオフェン−２−イル）スルホニウム ヘキサフルオロリン酸塩などのフェニルチオフェンスルホニウム塩など］；ジオキソロフェニルトリアジン類［例えば、２−ジオキソロフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−トリアジンなどのジオキソロフェニル−ビス（ハロアルキル）−トリアジンなど］；ベンゾチオフェン類［例えば、ビス（４−ｎ−ブトキシフェニル）（ベンゾチオフェン−２−イル）スルホニウム ヘキサフルオロリン酸塩などのベンゾチオフェンスルホニウム塩など］；チアントレン類［例えば、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−７−ｔ−ブチルチアントレン−２，３−ジカルボン酸イミドなどのＮ−ハロアルカンスルホニルオキシ−チアントレンジカルボン酸イミド；７−ｔ−ブチル−５−（４−メトキシフェニル）チアントレニウム−２，３−ジカルボン酸イミド トリフルオロメタンスルホン酸塩、７−ｔ−ブチル−５−（４−メトキシフェニル）チアントレニウム−２，３−ジカルボン酸イミド ヘキサフルオロリン酸塩などのチアントレニウムジカルボン酸イミド塩など］；フェノキサジン類；フェノキサチイン類；フェノチアジン類などが挙げられる。

【0104】

これらの光酸発生剤のうち、光硬化性のなどの点から、イミド環と共役（縮合）したチアントレン類が好ましく、下記式（４）で表される光酸発生剤が特に好ましい。

【0105】

【化9】

【0106】

（式中、Ｒ^１２はフルオロ炭化水素基、Ｒ^１３はアルキル基を示す）。

【0107】

前記式（４）において、Ｒ^１２のフルオロ炭化水素基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基などのパーフルオロＣ_１−４アルキル基や、ペンタフルオロフェニル基などのパーフルロＣ_６−１４アリール基などが挙げられる。これらのフルオロ炭化水素基のうち、パーフルオロＣ_１−２アルキル基（特にトリフルオロメチル基）が好ましい。

【0108】

前記置換基Ｒ^１３としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などのＣ_１−１０アルキル基などが挙げられる。これらのアルキル基のうち、メチル基やｔ−ブチル基などのＣ_１−４アルキル基が好ましく、ｔ−ブチル基が特に好ましい。置換基Ｒ^１３の置換位置は、例えば、６〜９−位のいずれかの位置が好ましく、７−位又は８−位が特に好ましい。

【0109】

式（４）で表される光酸発生剤のうち、光硬化性の点から、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−７−ｔ−ブチルチアントレン−２，３−ジカルボン酸イミドなどのＮ−パーフルオロＣ_１−２アルキルスルホニルオキシ−Ｃ_１−４アルキルチアントレン−２，３−ジカルボン酸イミドが特に好ましい。

【0110】

光酸発生剤の割合は、カチオン重合性化合物及びポリシランの総量１００重量部に対して、０．１〜３０重量部程度の範囲から選択でき、例えば、０．３〜２０重量部、好ましくは１〜１５重量部、さらに好ましくは２〜１０重量部（特に３〜８重量部）程度である。光酸発生剤の割合が少なすぎると、架橋密度を向上できず、硬化物の強度が低下する虞がある。一方、光酸発生剤の割合が多すぎると、組成物の安定性や塗工性が低下する虞がある。

【0111】

（溶媒）
本発明の光重合性組成物は、取り扱い性や塗工性を向上できる点から、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、例えば、炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、トルエンなど）；アルコール類（エタノール、プロパノールなど）；エーテル類［ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）など］；ケトン類［エチルメチルケトン（２−ブタノン）、シクロヘキサノンなど］；エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチルなど）；ジオール類（エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコールなど）；セロソルブ類［メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル（ジメトキシエタン）、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど］；カルビトール類［カルビトール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグライム）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなど］；セロソルブアセテート類（プロピレングリコールメチルアセテートなど）などが挙げられる。

【0112】

これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。これらの溶媒のうち、エーテル類、ケトン類、セロソルブ類、カルビトール類、セロソルブアセテート類などが好ましい。

【0113】

溶媒は、塗布に適した塗布液粘度が得られるように適量使用してもよい。代表的な溶媒の割合としては、カチオン重合性化合物及びポリシランの総量１００重量部に対して、例えば、１００〜１００００重量部、好ましくは２００〜１０００重量部、さらに好ましくは３００〜５００重量部程度であってもよい。

【0114】

（他の添加剤）
本発明の硬化性組成物は、さらに慣用の他の添加剤を含んでいてもよい。他の添加剤としては、例えば、増感剤（クマリン類、キノリン類、キノン類、フェノキサジン類、芳香族炭化水素類（ピレン類など）、アミン類など）、反応性ポリマー（フェノール系樹脂などのオキセタニル基（及び／又はエポキシ基）に対する反応性基を有するポリマーなど）、着色剤（染顔料）、増粘剤、安定剤（老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤など）、消泡剤、レベリング剤、分散剤、難燃剤、帯電防止剤、充填剤、滑剤などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。これらの添加剤の割合は、添加剤の種類に応じて適宜選択できるが、例えば、カチオン重合性化合物１００重量部に対して、１００重量部以下（例えば、０．１〜５０重量部）、好ましくは０．３〜３０重量部、さらに好ましくは０．５〜２０重量部程度である。

【0115】

硬化性組成物は、カチオン重合性化合物及びポリシラン、並びに必要に応じて他の成分（光酸発生剤、慣用の添加剤など）を配合し、必要に応じて溶媒又は分散剤により、溶解、分散及び混合などで均一に混合することによって得られる。

【0116】

［硬化物及びその製造方法］
本発明では、前記硬化性組成物に光（例えば、可視光線など）を照射して光硬化物を形成する光硬化工程を含む製造方法により硬化物（三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物など）を製造してもよい。

【0117】

光硬化工程において、光硬化物（光硬化膜、光硬化パターンなど）は、前記硬化性組成物を基材上に塗布して塗膜を形成した後、光（例えば、可視光線）を照射（露光）することにより形成してもよい。そのため、硬化性組成物は、例えば、基材上での塗膜（薄膜）の製造などに使用してもよい。硬化性組成物を基材に塗布し、塗膜を製造する場合は、溶媒を含む硬化性組成物（カチオン重合性化合物、ポリシラン及び光酸発生剤などを前記溶媒に溶解又は分散させた溶液又は分散液）を基材に塗布してもよい。

【0118】

塗布方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などが挙げられる。

【0119】

塗膜の厚みは、硬化物の用途に応じて、通常、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択できる。フォトレジストの場合、塗膜の厚みは、通常、０．０５〜１０μｍ程度であり、例えば、０．１〜５μｍ程度であってもよい。プリント配線基板の場合、塗膜の厚みは、通常、１０μｍ〜５ｍｍ程度であり、例えば、１００μｍ〜１ｍｍ程度であってもよい。光学薄膜の場合、塗膜の厚みは、通常、０．１〜１００μｍ程度であり、例えば、０．３〜５０μｍ程度であってもよい。

【0120】

光の波長は、光酸発生剤の種類に応じて適宜選択してもよく、ポリシランの分解又は劣化を抑制できる点から、可視光線であるのが好ましい。可視光線の波長としては、３８０〜７８０ｎｍであればよいが、酸を発生し易く、光硬化性を向上できる点から、例えば、３８０〜６００ｎｍ、好ましくは３８５〜５００ｎｍ、さらに好ましくは３９０〜４５０ｎｍ（特に４００〜４１０ｎｍ）程度であり、高圧水銀ランプやＬＥＤレーザーなどで照射できるｈ線（４０５ｎｍ）が特に好ましい。

【0121】

光の照射光量（露光量）は、塗膜の厚みなどに応じて、硬化性組成物の硬化が可能な範囲から選択でき、例えば、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上（例えば、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２）であってもよく、例えば１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ^２、さらに好ましくは１０００〜２５００ｍＪ／ｃｍ^２（特に１５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２）程度であってもよい。露光量が少なすぎると、光硬化性が低下する虞がある。

【0122】

光源としては、例えば、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、レーザー光（ＬＥＤレーザーなど）などが挙げられる。

【0123】

硬化性組成物は、パターンや画像の形成（プリント配線板の製造など）に使用してもよい。プリント配線板を製造する場合は、基材上に樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、形成した塗膜を光照射（パターン露光）してもよい。パターン露光は、レーザ−光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。パターン露光により生成した非照射領域（未露光部）を、現像剤で現像（又は溶解）して除去することによりパターン又は画像を形成してもよい。現像剤としては、例えば、水、アルカリ水溶液、親水性溶媒（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類など）や、これらの混合液などが挙げられる。

【0124】

本発明では、硬化物の強度をさらに向上させるために、光硬化に加えて加熱処理してもよい。加熱処理は、前記光硬化工程において、光の照射とともに、硬化性組成物を加熱してもよく、光硬化工程を経た光硬化物を加熱する加熱工程を設けることにより加熱してもよい。加熱によって重合反応が促進され、高度の３次元架橋が起こり、高強度の硬化物を得ることができる。これらのうち、硬化物の架橋強度や不溶化率を向上できる点から、加熱工程を設ける方法が好ましい。

【0125】

特に、硬化性組成物をパターンや画像の形成に使用する場合、塗膜をパターン露光した後に加熱してもよい。塗膜をパターン露光した後に加熱する場合、現像した後に加熱してもよく、加熱した後に現像してもよい。加熱により、基材上に残った塗膜の照射領域（露光部）で、高度に架橋してもよい。加熱により、可視光線であっても、基材上に、精細で高精度のパターンを形成できる。従って、本発明の硬化性組成物は、精密なパターンを必要とする用途、例えば、電子機器のプリント配線基板などの製造に使用してもよい。

【0126】

加熱温度としては、例えば、８０〜２００℃、好ましくは１１０〜１８０℃、さらに好ましくは１４０〜１６０℃（特に１４５〜１５５℃）程度であってもよい。加熱時間は、例えば、５秒〜１時間、好ましくは３０秒〜２０分、さらに好ましくは１〜１０分（特に３〜８分）程度であってもよい。本発明では、可視光線の照射であっても、強固な硬化物を形成できる。

【0127】

光学薄膜を形成する場合には、基材上に硬化性組成物の層を複数形成してもよい。また、基材上に他の機能層などを形成した後、その機能層の上に、硬化性組成物の層を形成してもよい。本発明の樹脂組成物は、可視光の透過性に優れ、高い屈折率を有し、光学的特性にも優れるため、特に、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの光学薄膜に使用してもよい。

【0128】

基材の材質は、用途に応じて選択され、例えば、プリント配線基板や光学薄膜の場合には、半導体（シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム、炭化シリコンなど）、金属（アルミニウム、銅など）、セラミック（酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）など）、透明無機材料（ガラス、石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなど）、透明樹脂（ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネートなど）などであってもよい。

【0129】

得られた硬化物は、架橋強度に優れており、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）による不溶化率は２０％以上（例えば、３０〜１００％程度）であってもよく、例えば、５０〜１００％、好ましくは６０〜１００％（例えば、６５〜９９．９％）、さらに好ましくは７０〜１００％（特に７５〜９９．９％）程度である。本発明では、不溶化率は、後述する実施例に記載の方法のように、ＴＨＦ中に１０分間浸漬する前後の膜厚比から算出できる。不溶化率が高くなると、硬化物は脆くなる傾向にあるにもかかわらず、得られた硬化物は、意外にも優れた柔軟性（又は靱性）を有している。そのため、本発明の硬化物は、高い不溶化率と柔軟性とを両立できる。

【0130】

また、本発明の硬化性組成物及び硬化物は、光照射の前後における不溶化率の差が大きいため、パターン形成において優れたコントラスト（現像性）を示す。そのため、光照射前における不溶化率は、例えば、３０％以下（例えば、０〜２０％）、好ましくは１０％以下（例えば、０〜５％）、さらに好ましくは１％以下（例えば、実質的に０％）程度であってもよい。また、光照射の前後における不溶化率の差は、例えば、３０％以上（例えば、４０〜１００％）、好ましくは５０％以上（例えば、６０〜９９．９％）程度であってもよい。

【0131】

得られた硬化物は高い屈折率を有しており、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおいて、１．６以上（例えば、１．６２〜１．８程度）であってもよく、例えば１．６４〜１．７７（例えば、１．６５〜１．７５）、好ましくは１．６６〜１．７４（例えば、１．６７〜１．７３）、さらに好ましくは１．６８〜１．７２（特に１．６９〜１．７１）程度であってもよい。

【実施例】

【0132】

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。また、各種評価方法及び使用した原料を下記に示す。

【0133】

［評価方法］
（不溶化率）
実施例及び比較例で得られた硬化物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中に２０℃で１０分間浸漬した後、１時間放置することにより乾燥し、浸漬前後における硬化物の平均厚み（乾燥後）の比（浸漬後／浸漬前）を不溶化率として算出した。なお、硬化物の平均厚みは、非接触型膜厚測定装置（Nanometrics Japan（株）製「Nanospec/AFT M-3000」）を用いて９箇所で測定した厚みの相加平均により算出した。

【0134】

（コントラスト）
実施例及び比較例において形成した光照射前の薄膜（硬化性組成物の塗布後、溶媒を除去することにより形成した薄膜）に対して、上記不溶化率の評価を行い、下記基準によりコントラスト（現像性）を評価した。

【0135】

○：光照射前後における不溶化率の差が６０％以上である
×：光照射前後における不溶化率の差が６０％未満である。

【0136】

（屈折率）
多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製、「ＤＲ−Ｍ４」）を使用して、温度２５℃の条件下、実施例及び比較例で得られた硬化物のＤ線（波長５８９ｎｍ）における屈折率ｎＤを測定した。なお、測定には、波長５８９ｎｍの干渉フィルターを使用した。

【0137】

（柔軟性又は靱性）
実施例及び比較例で得られた硬化物を指で触った感触から、以下の基準で評価した。

【0138】

○：膜が柔らかく割れ難い
×：膜が脆く割れる。

【0139】

［原料］
（カチオン重合性化合物）
ＢＮＦＯ：９，９−ビス［６−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ−２−ナフチル］フルオレン、後述する合成例１により合成
ＢＰＥＦ−９ＥＯ−Ｏ：９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］フルオレンに平均値で９モルのエチレンオキシドが付加した付加体のビス（（３−メチル−３−オキセタニル）メチル）エーテル、後述する合成例２により合成
ＢＮＦＧ：９，９−ビス（６−グリシジルオキシ−２−ナフチル）フルオレン、特開２０１２−１０２２２８号公報の合成例１に準じて合成
ＢＰＦＧ：９，９−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）フルオレン、特開２０１２−１０２２２８号公報の合成例２に準じて合成
ＢＣＡＦＧ：９，９−ビス（３，４−ジグリシジルオキシ−フェニル）フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製「ＢＣＡＦＧ」
（ポリシラン）
ＰＭＰＳ：ポリメチルフェニルシラン、大阪ガスケミカル（株）製「ＰＭＰＳ」、数平均分子量Ｍｎ＝２１００、重量平均分子量Ｍｗ＝１１０００、末端ヒドロキシル基を有する鎖状ポリシラン
（光酸発生剤）
ＳＩＮ−１１：Ｎ−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−７−ｔ−ブチル−チアントレン−２，３−ジカルボン酸イミド、（株）三宝化学研究所製「ＳＩＮ−１１」
（溶媒）
シクロヘキサノン：ナカライテスク（株）製。

【0140】

［合成例１］
９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレン（ＢＮＦ、大阪ガスケミカル（株）製、９１ｇ、２０２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ、４５５ｇ）に溶解し、次いで、炭酸カリウム（７２．６ｇ、５２５ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム（ＫＩ、３．３５ｇ、１９．８ｍｍｏｌ）を添加して６０℃で撹拌した。この溶液に、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（５８．８ｇ、４８７ｍｍｏｌ）を６０℃で滴下し、滴下終了後、８０℃に昇温して５時間反応させ、さらに、１００℃に昇温して１時間反応させた。反応終了後、水１．４Ｌを添加し、酢酸エチル３００ｇによる抽出を３回行った。次いで、水３００ｇでの洗浄を６回行い、得られた有機相（酢酸エチル相）を減圧濃縮して、１２２ｇ（収率９７．６％）の化合物を淡橙色結晶の形態で得た。得られた化合物を^１Ｈ ＮＭＲにより分析したところ、９，９−ビス［６−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシ−２−ナフチル］フルオレン（ＢＮＦＯ、下記式（１ａ）で表される化合物）であった。

【0141】

【化10】

【0142】

［実施例１］
サンプル管に、ＢＮＦＯ ４５重量部、ＢＮＦＧ ５重量部、ＰＭＰＳ ５０重量部、シクロヘキサノン（溶媒）３６０重量部及び光重合開始剤としてのＳＩＮ−１１ ５重量部を撹拌して均一に混合した。得られた混合液をシリコン基板上に２０００ｒｐｍ、２０秒の条件でスピンコートして、ホットプレートにて６０℃で２分間プリベークして溶媒を除去し、膜厚０．５〜２．０μｍの薄膜を形成した。得られた薄膜に、ＬＥＤレーザー（ボールセミコンダクター社製「ＢＰ３００」、３００ｍＷ）を用いて、波長４０５ｎｍの可視光線を１６００ｍＪ／ｃｍ^２照射した後、１５０℃で５分間加熱した。得られた硬化物の屈折率は１．７０２７、不溶化率は７９％であった。

【0143】

［実施例２］
ＢＮＦＯ ６０．３重量部、ＢＮＦＧ ６．７重量部、ＰＭＰＳ ３３重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の屈折率は１．６９８３、不溶化率は７５％であった。

【0144】

［実施例３］
ＢＮＦＯ ６７．５重量部、ＢＮＦＧ ７．５重量部、ＰＭＰＳ ２５重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の屈折率は１．６８１７、不溶化率は６４％であった。

【0145】

［合成例２］
９，９−ビス［４−（ヒドロキシポリエトキシ）フェニル］フルオレン（９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンにエチレンオキシドが平均値で９モル付加した付加体、ＢＰＥＦ−９ＥＯ、大阪ガスケミカル（株）製、１２５ｇ、１５０ｍｍｏｌ）をジオキサン（１６１ｇ）とトルエン（４０．６ｇ）に溶解し、次いで、テトラメチルアンモニウムブロミド（１．５ｇ、９．７５ｍｍｏｌ）、３−クロロメチル−３−メチルオキセタン（１８１ｇ、１．５ｍｏｌ）を混合し、７０℃で溶解させた後、微粉末の水酸化ナトリウム３０ｇ（７５０ｍｍｏｌ）を１３分かけて滴下して、６０℃で１１ｈ撹拌させた。反応終了後、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ、３７０ｇ）を添加し、水１００ｇによる抽出を６回行った。得られた有機相（ＭＩＢＫ相）を減圧濃縮して、１２２ｇ（収率８１．３％）の化合物を褐色粘性物の形態で得た。得られた化合物を^１Ｈ ＮＭＲにより分析したところ、９，９−ビス［４−（３−メチル−３−オキセタニル）メトキシポリエトキシ−フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ−９ＥＯ−Ｏ、下記式（１ｂ）で表される化合物）であった。

【0146】

【化11】

【0147】

（式中、ｎ１＋ｎ２は、平均値で１１を示す）。

【0148】

［実施例４］
ＢＰＥＦ−９ＥＯ−Ｏ ６０．３重量部、ＢＮＦＧ ６．７重量部、ＰＭＰＳ ３３重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の屈折率は１．６６９８、不溶化率は７１％であった。

【0149】

［比較例１］
ＢＮＦＧ ６７重量部、ＰＭＰＳ ３３重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製しようとしたところ、ＢＮＦＧの反応性が低いためか硬化物が形成できず、不溶化率は０％であった。

【0150】

［比較例２］
ＢＣＡＦＧ ６７重量部、ＰＭＰＳ ３３重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の屈折率は１．６１８５、不溶化率は９２％であった。

【0151】

［参考例１］
ＰＭＰＳを添加することなく、ＢＮＦＯ ９０重量部、ＢＣＡＦＧ １０重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の不溶化率は６０％であった。

【0152】

［参考例２］
ＰＭＰＳを添加することなく、ＢＮＦＯ ９０重量部、ＢＮＦＧ １０重量部、シクロヘキサノン３６０重量部及びＳＩＮ−１１ ５重量部の混合液を用いる以外は、実施例１と同様にして硬化物を調製した。得られた硬化物の屈折率は１．６６８４、不溶化率は７０％であった。

【0153】

実施例及び比較例で得られた結果を表１に示す。

【0154】

【表1】

【0155】

表１から明らかなように、実施例では、比較例に比べて、屈折率が高かった。また、実施例では、比較例１と同様に２官能性のカチオン重合性化合物を用いているにも拘らず、意外なことに高い不溶化率を示し、コントラストも良好であった。さらに、実施例では、比較例２に比べて柔軟性にも優れており、高い不溶化率と柔軟性とを両立できた。

【産業上の利用可能性】

【0156】

本発明の硬化性組成物及びその硬化物は、塗料、電線被覆材、電子機器の封止材及び絶縁材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着材、光学薄膜（液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板など）などの用途に好適に利用できる。