【図1】製造例３のプロセスフロー図である。

【図2】直接及び二重焼結を用いて調製されたＮＭＣ試料のリチウム炭酸塩含量である。

【図3】前処理された遷移金属試料のＸＲＤパターンである。

【図4】二重焼結を使用して調製されたＮＭＣ試料の中間体及び最終製品のＸＲＤパターンである。

【図5】焙煎遷移金属源及び二重焼結を使用して調製されたＮＭＣ試料の中間生成物及び最終生成物のＸＲＤパターンである。

【図6】低いＬｉ：Ｍ比を有するＮＭＣ試料を用いた中間生成物のＸＲＤパターンである。

【図7】低いＬｉ：Ｍ比を有する中間生成物を使用して調製されたＮＭＣ試料のコインセルプロファイルである。

【図8】Ａｌ及びＡｌ／ＦコーティングされたＮＭＣ試料のコインセルプロファイルである。

【図9】焙煎遷移金属源を使用して調製されたＡｌ及びＡｌ／ＦコーティングされたＮＭＣ試料のコインセルプロファイルである

【図10】第１の焼結中に様々な空気流条件を使用して調製されたＮＭＣ試料の総塩基含有量である。

【図11】第１の焼結中に様々な空気流条件を使用して調製されたＮＭＣ試料のＬｉ／金属含有量である。