特許6872484レジスト組成物、レジストパターン形成方法、レジスト組成物の製造方法、ペロブスカイト材料のリソグラフィプロセスへの使用およびレジスト組成物で被覆された基板

発明の名称　レジスト組成物、レジストパターン形成方法、レジスト組成物の製造方法、ペロブスカイト材料のリソグラフィプロセスへの使用およびレジスト組成物で被覆された基板

出願人　エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．　（識別番号 504151804）

　　　　特許公開件数ランキング 227 位（139件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 342 位（75件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6872484

公報発行日　2021年5月19

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6872484

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