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特許6901995膜厚測定方法、窒化物半導体積層物の製造方法および窒化物半導体積層物
発明の名称 膜厚測定方法、窒化物半導体積層物の製造方法および窒化物半導体積層物
出願人 株式会社サイオクス （識別番号 515131378）
特許公開件数ランキング 1788 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 1520 位（0件）（共同出願を含む）
出願人 住友化学株式会社 （識別番号 2093）
特許公開件数ランキング 75 位（8件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 38 位（10件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6901995
公報発行日 2021年7月14
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6901995
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