特許 6920423 光学積層体ならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6920423

(24)【登録日】2021年7月28日

(45)【発行日】2021年8月18日

(54)【発明の名称】光学積層体ならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル

(51)【国際特許分類】

   B32B 17/06 20060101AFI20210805BHJP

   B32B 17/10 20060101ALI20210805BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20210805BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20210805BHJP

   G02F 1/1333 20060101ALI20210805BHJP

   G06F 3/041 20060101ALI20210805BHJP

【ＦＩ】

   B32B17/06

   B32B17/10

   H05B33/14 A

   H01L27/32

   G02F1/1333

   G06F3/041 460

【請求項の数】8

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2019-512463(P2019-512463)

(86)(22)【出願日】2018年4月4日

(86)【国際出願番号】JP2018014367

(87)【国際公開番号】WO2018190208

(87)【国際公開日】20181018

【審査請求日】2019年9月12日

(31)【優先権主張番号】特願2017-78487(P2017-78487)

(32)【優先日】2017年4月11日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2017-253299(P2017-253299)

(32)【優先日】2017年12月28日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】306037311

【氏名又は名称】富士フイルム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002631

【氏名又は名称】特許業務法人イイダアンドパートナーズ

(74)【代理人】

【識別番号】100076439

【弁理士】

【氏名又は名称】飯田 敏三

(74)【代理人】

【識別番号】100161469

【弁理士】

【氏名又は名称】赤羽 修一

(72)【発明者】

【氏名】玉田 高

(72)【発明者】

【氏名】植木 啓吾

(72)【発明者】

【氏名】福重 裕一

(72)【発明者】

【氏名】高田 勝之

【審査官】 橋本 有佳

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１６／０９３１３３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１７−０２４１７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１７−０４２９８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１８／１５９７２７（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｇ０２Ｆ １／１３３３

Ｇ０６Ｆ ３／０４１

Ｈ０１Ｌ ２７／３２

Ｈ０５Ｂ ３３／１４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

厚みが１２０μｍ以下の薄ガラスと、前記薄ガラスの一方の側に配置される、厚み５μｍ以上４０μｍ以下の衝撃吸収層とを有し、該衝撃吸収層が、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する光学積層体。

【請求項2】

前記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が０．１ＭＰａ以上１０００ＭＰａ未満である、請求項１に記載の光学積層体。

【請求項3】

前記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとアクリル酸ｎ−ブチルとのブロック共重合体、並びに、イソプレン及び／又はブテンとスチレンとのブロック共重合体から選択される少なくとも一種を含む、請求項１又は２に記載の光学積層体。

【請求項4】

請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、画像表示装置の前面板。

【請求項5】

請求項４に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。

【請求項6】

前記画像表示素子が、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、インセルタッチパネル表示素子、又はオンセルタッチパネル表示素子である、請求項５に記載の画像表示装置。

【請求項7】

請求項４に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。

【請求項8】

請求項４に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学積層体ならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルに関する。

【背景技術】

【0002】

画像表示装置の前面板、特に、タッチパネルの前面板等の高い耐久性が求められる用途には、これまで、化学強化ガラス等のガラスが主に用いられている。近年、画像表示装置の軽量化、薄膜化に対する要求が高まっており、ガラスの薄膜化が検討されている。しかしながら、ガラスを薄くすると耐衝撃性が低下するという問題があった。

【0003】

かかる問題を解決するために、特許文献１には、厚みが１００μｍ以下の薄ガラスと、該薄ガラスの一方の側に配置される偏光板とを備え、該偏光板が、偏光子と、該偏光子の該薄ガラス側の面に配置される保護フィルムとを含む、光学積層体が開示されている。また、特許文献２には、厚みが１００μｍ以下の薄ガラスと、該薄ガラスの一方の側に配置される導電フィルムとを備え、該導電フィルムが、基材と、該基材の一方の側に配置される導電層とを含む、光学積層体が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１７−２４１７７号公報

【特許文献2】特開２０１７−４２９８９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記文献によれば、上記光学積層体は薄ガラスの破損が防止され、耐衝撃性に優れるとされているが、さらに高い耐衝撃性が求められる場合があった。

【0006】

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、より高い耐衝撃性を有する光学積層体、ならびに、これを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題は以下の手段により解決された。
（１）
厚みが１２０μｍ以下の薄ガラスと、この薄ガラスの一方の側に配置される、厚み５μｍ以上４０μｍ以下の衝撃吸収層とを有し、この衝撃吸収層が、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する光学積層体。
（２）
上記衝撃吸収層の貯蔵弾性率が０．１ＭＰａ以上１０００ＭＰａ未満である、（１）に記載の光学積層体。
（３）
上記衝撃吸収層が、メタクリル酸メチルとアクリル酸ｎ−ブチルとのブロック共重合体、並びに、イソプレン及び／又はブテンとスチレンとのブロック共重合体から選択される少なくとも一種を含む、（１）又は（２）に記載の光学積層体。
（４）
（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、画像表示装置の前面板。
（５）
（４）に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
（６）
上記画像表示素子が、液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス表示素子、インセルタッチパネル表示素子、又はオンセルタッチパネル表示素子である、（５）に記載の画像表示装置。
（７）
（４）に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
（８）
（４）に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。

【0008】

本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方または両方の意味で用いられる。また、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方または両方の意味で用いられる。「（メタ）アクリル」は、アクリルとメタクリルの一方または両方の意味で用いられる。
本明細書に記載の各成分は、この成分を、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。また、各成分の含有量は、構造の異なる二種以上を併用する場合には、それらの合計含有量を意味する。
本明細書において、各層の厚みは、公知の膜厚測定法、例えば触針式膜厚計による膜厚測定法により求めることができる。複数箇所で測定する場合の各層の膜厚は、複数箇所での測定値の算術平均とする。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、薄ガラスが有する優れた硬度を維持しつつ、その薄ガラスが破損し難い、より高い耐衝撃性を有する光学積層体を提供することができる。また、この光学積層体を有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の光学積層体の構成を示す縦断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

本発明の光学積層体の好ましい実施形態について説明する。
［光学積層体］
本発明の光学積層体は、厚みが１２０μｍ以下の薄ガラスと、薄ガラスの一方の側に配置される、厚み５μｍ以上（好ましくは厚み１０μｍ超え）の衝撃吸収層とを備える。より詳細には、本発明の光学積層体を画像表示装置の前面板として用いた際に、薄ガラス表面のうち非視認側（画像表示素子が配置される側）の面上に、上記衝撃吸収層を備える。上記衝撃吸収層は、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する。
本発明の光学積層体は、薄ガラスを備えるため、硬度が高い。また、薄ガラスの一方の面上に、所定の厚みを有し、所定の特性を有する衝撃吸収層を備えるため、薄ガラスが破損し難く、より高い耐衝撃性を実現できる。
本発明の光学積層体は、その他の層をさらに備えてもよい。その他の層としては、反射防止層、防眩層、帯電防止層、保護層等が挙げられる。また、薄ガラスと衝撃吸収層とが、接着層を介して積層されてもよい。
本発明の光学積層体の光透過率は、好ましくは９０％以上である。光透過率は、島津製作所（株）製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３１５０を用いて、測定できる。

【0012】

以下、本発明の光学積層体について、詳細に説明する。
図１は、本発明の光学積層体の一実施形態の断面を模式的に示す図である。光学積層体４Ａは、薄ガラス１Ａと、この薄ガラス１Ａの片面に配された衝撃吸収層２Ａとを有する２層構成の光学積層体である。本発明の光学積層体は、薄ガラス１Ａと衝撃吸収層２Ａとの間に接着層を有する構成とすることもできる。また、薄ガラス１Ａの、衝撃吸収層２Ａの側とは反対側（図１の上側）に反射防止層、保護層等を有してもよい。また、衝撃吸収層２Ａの、薄ガラス１Ａの側とは反対側（図１の下側）にも、保護層等を設けることができる。

【0013】

＜薄ガラス＞
本発明の光学積層体が備える薄ガラスとしては、形状が板状のものであれば、その材料は特に限定されない。組成による分類によれば、たとえば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。ガラスのアルカリ金属成分（例えば、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ）の含有量は、好ましくは１５質量％以下であり、さらに好ましくは１０質量％以下である。

【0014】

薄ガラスの厚みは１２０μｍ以下であり、１００μｍ以下が好ましい。また、薄ガラスの厚みは８０μｍ以下でもよく、５０μｍ以下でもよく、４０μｍ以下でもよく、３５μｍ以下としてもよい。薄ガラスの厚みの下限は、好ましくは５μｍ以上であり、より好ましくは２０μｍ以上であり、さらに好ましくは３０μｍ以上である。

【0015】

薄ガラスの波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。薄ガラスの波長５５０ｎｍにおける屈折率は、好ましくは１．４〜１．６５である。

【0016】

薄ガラスの密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ^３〜３．０ｇ／ｃｍ^３であり、さらに好ましくは２．３ｇ／ｃｍ^３〜２．７ｇ／ｃｍ^３である。上記範囲の薄ガラスであれば、軽量の光学積層体が得られる。

【0017】

薄ガラスの作製方法は、特に限定されず、たとえば、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃〜１６００℃で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。また、薄ガラスの成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらの方法によって、板状に成形された薄ガラスは、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学研磨されてもよい。

【0018】

薄ガラスは、市販のものをそのまま用いてもよく、あるいは、市販の薄ガラスを所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販の薄ガラスとしては、例えば、コーニング社製「７０５９」、「１７３７」または「ＥＡＧＬＥ２０００」、旭硝子社製「ＡＮ１００」、ＮＨテクノグラス社製「ＮＡ−３５」、日本電気硝子社製「ＯＡ−１０」、ショット社製「Ｄ２６３」または「ＡＦ４５」等が挙げられる。

【0019】

＜衝撃吸収層＞
本発明の光学積層体が備える衝撃吸収層は、光学積層体を画像表示装置の前面板として用いた際に、表示内容の視認性を確保できる透明性を有し、かつ、前面板への押さえ付けや衝突等に由来する薄ガラスの破損を効果的に防ぐ。本発明に用いる衝撃吸収層は厚みが５μｍ以上であり、薄ガラスに負荷される衝撃を十分に緩和する観点からは１０μｍ以上が好ましく、１０μｍ超えがより好ましく、２０μｍ以上がさらに好ましい。また、衝撃吸収層の厚みは薄ガラスに負荷が加わった際の変形を防ぐ観点からは１００μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましい。

【0020】

また、衝撃吸収層は、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する。本発明の光学積層体を、例えば、タッチパネル等の前面板として用いる場合、指圧やスタイラスペンによっては通常、薄ガラスに割れは生じない。他方、コンクリート等への落下、硬い物体による打撃等の、より強い衝撃が加わった場合には、薄ガラスには割れが生じやすい。このように硬い物体との衝突等の衝撃が生じた場合、この衝撃の振動数は通常、１０^４Ｈｚ程度を中心とした一定の振動数幅の範囲にある。本発明に用いる衝撃吸収層は、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有し、このような衝撃から薄ガラスを効果的に保護することができる。衝撃吸収層は、２５℃において、１０^２〜１０^１２Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有することが好ましく、１０^２〜１０^１０Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有することがより好ましく、１０^２〜１０^８Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有することがさらに好ましく、１０^３〜５×１０^７Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有することが特に好ましい。この場合、２５℃において、１０^１〜１０^１５Ｈｚ（好ましくは１０^２〜１０^１２Ｈｚ、より好ましくは１０^２〜１０^１０Ｈｚ、さらに好ましくは１０^２〜１０^８Ｈｚ、特に好ましくは１０^３〜５×１０^７Ｈｚ）の範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有していればよく、上記の範囲にｔａｎδの極大値を２つ以上有していてもよい。また、上記範囲以外の周波数の範囲に更にｔａｎδの極大値を有していてもよく、この極大値が最大値であってもよい。

【0021】

衝撃吸収層の、２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚ（好ましくは１０^２〜１０^１２Ｈｚ、より好ましくは１０^２〜１０^１０Ｈｚ、さらに好ましくは１０^２〜１０^８Ｈｚ、特に好ましくは１０^３〜５×１０^７Ｈｚ）の範囲内にあるｔａｎδの極大値は、衝撃吸収の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。また、硬度の観点から、この極大値は、３．０以下であることが好ましい。

【0022】

本発明では、衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係について、下記の方法で周波数−ｔａｎδのグラフを作成し、ｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数を求める。ｔａｎδは貯蔵弾性率に対する損失弾性率の比の値である。

【0023】

−試料（試験片）作製方法−
衝撃吸収層の構成材料を溶剤に溶解、または溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離ＰＥＴシートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが４０μｍになるよう塗布し、この塗布膜を乾燥させて衝撃吸収層を形成する。この衝撃吸収層を剥離ＰＥＴシートから剥離することにより、衝撃吸収層の試験片を作製する。

【0024】

−測定方法−
動的粘弾性測定装置（アイティー・エス・ジャパン（株）製ＤＶＡ−２２５）を用いて、あらかじめ温度２５℃、相対湿度６０％雰囲気下で２時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件下で測定を行う。「マスターカーブ」編集にて、２５℃における、周波数に対するｔａｎδ、貯蔵弾性率および損失弾性率のマスターカーブを得る。得られたマスターカーブからｔａｎδの極大値及びこの極大値を示す周波数を求める。
試料:５ｍｍ×２０ｍｍ
つかみ間距離:２０ｍｍ
設定歪み：０．１０％
測定温度:−４０℃〜４０℃
昇温条件:２℃/ｍｉｎ

【0025】

２５℃において１０^１〜１０^１５Ｈｚ（好ましくは１０^２〜１０^１２Ｈｚ、より好ましくは１０^２〜１０^１０Ｈｚ、さらに好ましくは１０^２〜１０^８Ｈｚ、特に好ましくは１０^３〜５×１０^７Ｈｚ）の範囲内にある衝撃吸収層のｔａｎδの極大値に対応する周波数において、衝撃吸収層の貯蔵弾性率（Ｅ’）は０．１ＭＰａ以上１０００ＭＰａ未満が好ましい。より好ましくは、Ｅ’は３０ＭＰａ以上である。Ｅ’が３０ＭＰａ以上であることで、硬度の過度の低下をより効果的に抑制できる。Ｅ’は５０ＭＰａ以上であることがより好ましい。また、Ｅ’は８００ＭＰａ以下であることも好ましく、６００ＭＰａ以下であることも好ましい。

【0026】

２５℃において、周波数１０^１〜１０^１５Ｈｚ（好ましくは１０^２〜１０^１２Ｈｚ、より好ましくは１０^２〜１０^１０Ｈｚ、さらに好ましくは１０^２〜１０^８Ｈｚ、特に好ましくは１０^３〜５×１０^７Ｈｚ）の範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層を構成する衝撃吸収層形成材料としては、（メタ）アクリレート樹脂やエラストマーが挙げられ、これらを組合せて用いることもできる。
エラストマーとしては、アクリル系ブロック（共）重合体、スチレン系ブロック（共）重合体が好ましい。アクリル系ブロック共重合体としては、メタクリル酸メチルとアクリル酸ｎ−ブチルとのブロック共重合体（「ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ共重合体」とも呼ぶ）等が挙げられる。スチレン系ブロック（共）重合体としては、イソプレンおよび／またはブテンとスチレンとのブロック共重合体等が挙げられる。共重合成分の種類や共重合比を調整することにより、ｔａｎδの極大値を所望の範囲に有する衝撃吸収層を形成することができる。
また、衝撃吸収層は、ウレタン変性ポリエステル樹脂およびウレタン樹脂から選択される少なくとも一種を含む樹脂を用いて構成されてもよい。
衝撃吸収層が含み得る樹脂又はエラストマーは通常の方法で合成でき、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえば、クラリティＬＡ１１１４、クラリティＬＡ２１４０Ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ２３３０、クラリティＬＡ４２８５、ＨＹＢＲＡＲ５１２７、ＨＹＢＲＡＲ７３１１Ｆ（（株）クラレ製、商品名）などが挙げられる。

【0027】

樹脂又はエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と硬度のバランスの観点から、１０，０００〜１，０００,０００が好ましく、５０，０００〜５００，０００がより好ましい。

【0028】

衝撃吸収層は樹脂および／またはエラストマーのみで構成してもよい。また、軟化剤、可塑剤、滑剤、架橋剤、架橋助剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、防菌・防かび剤、耐候剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、造核剤、顔料、染料、有機フィラー、無機フィラー、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、上述した以外の樹脂等の添加剤を含有する組成物を用いて衝撃吸収層を構成することもできる。

【0029】

衝撃吸収層に添加され得る無機フィラーは、特に限定されず、例えば、シリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子、マイカ、タルク等を使用することができ、これらは、１種または２種以上を併用することができる。衝撃吸収層への分散の点から、シリカ粒子が好ましい。

【0030】

無機フィラーの表面は、衝撃吸収層を構成する樹脂との親和性を高めるため、無機フィラーに結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤で処理されてもよい。このような表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が挙げられる。

【0031】

衝撃吸収層が無機フィラーを含む場合、無機フィラーの含有量は、衝撃吸収層の弾性率とｔａｎδのバランスを考慮して、衝撃吸収層固形分中、１〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、５〜１５質量％がさらに好ましい。無機フィラーのサイズ（平均一次粒径）は、１０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１５〜６０ｎｍである。無機フィラーの平均一次粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機フィラーの粒径が小さすぎると、弾性率の改良効果が得られず、大きすぎるとヘイズ上昇の原因となる場合がある。無機フィラーの形状は、板状、球形、非球形を問わない。

【0032】

無機フィラーの具体的な例としては、ＥＬＥＣＯＭ Ｖ−８８０２（日揮触媒化成（株）製、平均一次粒径１２ｎｍの球形シリカ微粒子）やＥＬＥＣＯＭ Ｖ−８８０３（日揮触媒化成（株）製、異形シリカ微粒子）、ＭＩＢＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０（日産化学工業（株）製、平均一次粒径４０〜５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径４０〜５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ−ＡＣ−５１４０Ｚ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径７０〜１００ｎｍの球形シリカ微粒子）等が挙げられる。

【0033】

衝撃吸収層に添加され得る添加剤としての樹脂は、特に限定されず、例えばロジンエステル樹脂、水添ロジンエステル樹脂、石油化学樹脂、水添石油化学樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、アルキルフェノール樹脂等を使用することができ、これらは、１種または２種以上を併用することができる。

【0034】

添加剤の含有量は、衝撃吸収層の貯蔵弾性率とｔａｎδのバランスを考慮して、衝撃吸収層固形分中、１〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、５〜１５質量％がさらに好ましい。

【0035】

添加剤の具体的な例としては、スーパーエステルＡ７５、同Ａ１１５、同Ａ１２５（以上、荒川化学工業社製、ロジンエステル樹脂）、ペトロタック６０、同７０、同９０、同１００、同１００Ｖ、同９０ＨＭ（以上、東ソー社製、石油化学樹脂）、ＹＳポリスターＴ３０、同Ｔ８０、同Ｔ１００、同Ｔ１１５、同Ｔ１３０、同Ｔ１４５、同Ｔ１６０（以上、ヤスハラケミカル社製、テルペンフェノール樹脂）等が挙げられる。

【0036】

＜光学積層体の作製方法＞
衝撃吸収層の形成方法には特に限定はなく、たとえば、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法又はインフレーション法等が挙げられる。詳細には、衝撃吸収層の上記構成材料（衝撃吸収材料）を溶媒に溶解又は分散させた液状物、又は上記衝撃吸収材料を構成する成分の溶融液を調製し、次いで、この液状物又は溶融液を薄ガラスに塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、衝撃吸収層が積層された光学積層体を作製することができる。

【0037】

また、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に衝撃吸収層材料を塗布、乾燥し、衝撃吸収層を含むシートを形成し、このシートの衝撃吸収層を薄ガラスと貼り合せることにより、衝撃吸収層が積層された光学積層体を作製することもできる。

【0038】

衝撃吸収層は、架橋構造を有してもよいし、構成材料の少なくとも一部が架橋されていてもよい。衝撃吸収材料の架橋方法については特に限定はなく、例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤（例えば、有機過酸化物等）を用いる方法から選ばれる手段が挙げられる。樹脂の架橋を電子線照射により行う場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）に対し、電子線照射装置により電子線を照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）について、紫外線照射装置により紫外線を照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、架橋剤を用いる場合は、得られた衝撃吸収層（架橋前）について、通常、窒素雰囲気等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより、必要に応じて配合された有機過酸化物等の架橋剤、更には架橋助剤の効果によって架橋を形成することができる。
本発明において衝撃吸収層は、より好ましくは架橋構造を有しない。

【0039】

衝撃吸収層の膜厚は、衝撃吸収性の点から、５μｍ以上であり、より好ましくは１０μｍ超え、さらに好ましくは２０μｍ以上である。上限値は１００μｍ以下であることが実際的であり、８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下とすることも好ましい。

【0040】

＜その他の層＞
−接着層−
衝撃吸収層は、接着層を介して薄ガラスの一方の側に配置されてもよい。接着層は、乾燥や反応により接着性を発現する成分（接着剤）を含む組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、硬化反応により接着性を発現する成分を含む組成物（以下、「硬化性組成物」と称する場合がある。）を用いて形成される接着層は、かかる硬化性組成物を硬化させてなる硬化層である。

【0041】

接着剤としては、樹脂を用いることができる。一態様では、接着層は、この層の５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上を樹脂が占める層であることができる。樹脂としては、単一の樹脂を用いても、複数の樹脂の混合物を用いてもよい。樹脂の混合物を用いる場合、上記の樹脂が占める割合は、樹脂の混合物が占める割合をいう。樹脂の混合物としては、例えば、ある樹脂と、この樹脂の一部を変性した構造を有する樹脂の混合物、異なる重合性化合物を反応させて得られた樹脂の混合物等を挙げることができる。

【0042】

接着剤としては、任意の適切な性質、形態および接着機構を有する接着剤を用いることができる。具体的には、例えば、水溶性接着剤、紫外線硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、ラテックス型接着剤、マスチック接着剤、複層接着剤、ペースト状接着剤、発泡型接着剤、サポーテッドフィルム接着剤、熱可塑型接着剤、熱溶融型（ホットメルト）接着剤、熱固化接着剤、熱活性接着剤、ヒートシール接着剤、熱硬化型接着剤、コンタクト型接着剤、感圧性接着剤、重合型接着剤、溶剤型接着剤、溶剤活性接着剤等が挙げられ、水溶性接着剤および紫外線硬化型接着剤が好ましい。これらの中でも、透明性、接着性、作業性、製品の品質および経済性に優れる点で、水溶性接着剤が好ましく用いられる。

【0043】

水溶性接着剤は、たんぱく質、澱粉、合成樹脂等の天然または合成された水溶性成分を含むことができる。合成樹脂としては、例えば、レゾール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル樹脂及びセルロース誘導体（セルロース化合物）が挙げられる。これらの中でも、樹脂フィルムを貼り合わせる際の接着性に優れる点で、ポリビニルアルコール樹脂あるいはセルロース誘導体を含有する水溶性接着剤が好ましい。すなわち、接着層は、ポリビニルアルコール樹脂あるいはセルロース誘導体を含むことが好ましい。
接着層の厚みは、薄ガラスと衝撃吸収層を接着する点から１０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ〜５０μｍがさらに好ましい。

【0044】

接着層は、例えば、接着剤を含有する塗布液を薄ガラスまたは衝撃吸収層の少なくとも一方の表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布液の調製方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。塗布液としては、例えば、市販の溶液または分散液を用いてもよく、市販の溶液または分散液にさらに溶剤を添加して用いてもよく、固形分を各種溶剤に溶解または分散して用いてもよい。

【0045】

−衝撃吸収層の保護フィルム−
本発明の光学積層体は、衝撃吸収層の薄ガラスとは反対側の面に、剥離可能な保護フィルム層を設けることが好ましい。かかる保護フィルム層を有することにより、使用前の光学積層体の衝撃吸収層の破損および埃や汚れの付着を防ぐことができ、使用時には上記保護フィルム層を剥がすことができる。

【0046】

保護フィルム層と衝撃吸収層との間には、保護フィルム層の剥離を容易にするために、剥離層を設けることができる。かかる剥離層を設ける方法は、特に限定されず、例えば、保護フィルム層及び衝撃吸収層のうちの少なくともいずれかの表面に剥離コート剤を塗布することにより設けることができる。剥離コート剤の種類については特に限定されず、たとえば、シリコン系コート剤、無機系コート剤、フッ素系コート剤、有機無機ハイブリッド系コート剤等が挙げられる。

【0047】

保護フィルムと剥離層とを備える光学積層体は、通常は保護フィルム層表面に剥離層を設けた後、衝撃吸収層の表面に積層することにより得ることができる。この場合、上記剥離層は保護フィルム層表面ではなく、衝撃吸収層の表面に設けてもよい。

【0048】

−薄ガラスの保護フィルム−
本発明の光学積層体は、薄ガラスの衝撃吸収層とは反対側に、樹脂フィルムをさらに備えていてもよい。１つの実施形態においては、樹脂フィルムは、剥離可能に（例えば、任意の適切な粘着剤層を介して）積層され、本発明の光学積層体が使用に供されるまで薄ガラスを保護する保護フィルムである。

【0049】

薄ガラスの保護フィルムを構成する材料は、特に限定されず、たとえば、熱可塑性樹脂、熱または活性エネルギー線により硬化する硬化性樹脂等が挙げられる。好ましくは、熱可塑性樹脂である。熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリ（メタ）アクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。なかでもポリ（メタ）クリレート系樹脂が好ましく、より好ましくはポリメタクリレート系樹脂であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート系樹脂である。保護フィルムがポリメチルメタクリレート系樹脂を含んでいれば、薄ガラスを保護する効果が高まり、例えば、先端の尖った落下物に対してもキズ、穴等の発生を防止することができる。

【0050】

薄ガラスの保護フィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ〜１９００μｍであり、さらに好ましくは５０μｍ〜１５００μｍであり、より好ましくは５０μｍ〜１０００μｍであり、特に好ましくは５０μｍ〜１００μｍである。

【0051】

薄ガラスの保護フィルムは、目的に応じて添加剤を含有してもよい。この保護フィルムに用いる添加剤としては、例えば、希釈剤、老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤、柔軟剤、安定剤、可塑剤、消泡剤、補強剤等が挙げられる。添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜に設定される。

【0052】

−反射防止層−
本発明の光学積層体は、反射防止層をさらに備えていてもよい。反射防止層は、薄ガラスの衝撃吸収層とは反対側に配置され得る。

【0053】

反射防止層としては、反射防止の機能を有する限り、任意の適切な構成であり得る。好ましくは、上記反射防止層は、無機材料から構成される層である。

【0054】

反射防止層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等が挙げられる。１つの実施形態においては、反射防止層として、酸化チタン層と酸化ケイ素層とを交互に積層して得られた積層体が用いられる。このような積層体は、優れた反射防止機能を有する。

【0055】

［光学積層体を有する物品］
本発明の光学積層体を含む物品としては、家電業界、電気電子業界をはじめとする様々な産業界において耐衝撃性を向上することが求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置等を挙げることができる。これら物品に、好ましくは表面保護フィルムとして本発明の光学積層体を設けることにより、硬度と耐衝撃性に優れた物品を提供することが可能となる。本発明の光学積層体は、画像表示装置用の前面板に用いられる光学フィルムとして好ましく用いられ、タッチパネルの画像表示素子の前面板に用いられる光学フィルムであることがより好ましい。
本発明の光学積層体を用いることができるタッチパネルは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量式タッチパネル、投影型静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。詳細については、後述する。
なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサを含むものとする。タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれでもよい。

【0056】

＜画像表示装置＞
本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、本発明の光学積層体を有する前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネル等が挙げられる。
液晶表示装置は液晶セルと該液晶セルの視認側（フロント側）とバックライト側（リア側）に設けられた偏光板により構成されている。液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。
画像表示装置は、脆性が改良され、ハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
すなわち、本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。

【0057】

本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）表示素子であることも好ましい。
有機エレクトロルミネッセンス表示素子は、公知技術を、何ら制限なく適用することができる。有機エレクトロルミネッセンス表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩなどを挙げることができる。

【0058】

本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子がインセル（Ｉｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。インセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル内に内蔵したものである。
インセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。

【0059】

また、本発明の光学積層体を有する画像表示装置は、画像表示素子がオンセル（Ｏｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。オンセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル外に配置したものである。
オンセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１２−８８６８３号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩなどを挙げることができる。

【0060】

＜タッチパネル＞
本発明の光学積層体を有するタッチパネルは、本発明の光学積層体が有する衝撃吸収層の、薄ガラスと反対側の表面にタッチセンサフィルムを貼り合わせたタッチセンサを含むタッチパネルである。
タッチセンサフィルムとしては特に制限はなく、導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。導電性フィルムは、任意の支持体の上に導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。

【0061】

導電層の材料としては特に制限されず、例えば、インジウム・スズ複合酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）、スズ酸化物およびスズ・チタン複合酸化物（Ａｎｔｉｍｏｎｙ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；ＡＴＯ）、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、クロムやこれらの合金などがあげられる。導電層は、電極パターンであることが好ましい。また、透明電極パターンであることも好ましい。電極パターンは透明導電材料層をパターニングしたものでもよく、不透明な導電材料の層をパターン形成したものでもよい。

【0062】

−抵抗膜式タッチパネル−
本発明の光学積層体を有する抵抗膜式タッチパネルは、本発明の光学積層体を有する前面板を有する抵抗膜式タッチパネルである。
抵抗膜式タッチパネルは、導電性膜を有する上下１対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。なお抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。

【0063】

−静電容量式タッチパネル−
本発明の光学積層体を有する静電容量式タッチパネルは、本発明の光学積層体を有する前面板を有する静電容量式タッチパネルである。
静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、Ｘ軸電極およびＹ軸電極が、１枚の基板上の別々の面に形成される態様、１枚の基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極を上記順で形成する態様、１枚の基板上にＸ軸電極を形成し、別の基板上にＹ軸電極を形成する態様（この態様では、２枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる）等が挙げられる。なお静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。

【実施例】

【0064】

以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明がこれにより限定して解釈されない。以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。

【0065】

［実施例１〜１４、比較例１〜８］
衝撃吸収層と薄ガラスとが積層されてなる、実施例１〜１４、比較例１〜８の光学積層体を作製した。詳細を以下に説明する。

【0066】

＜衝撃吸収層（ＣＵ層）形成用組成物の調製＞
下記表１に示す組成で各成分を混合し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１〜ＣＵ−１３を調製した。

【0067】

【表1】

【0068】

表１に記載した材料の詳細を以下に示す。

【0069】

＜樹脂／エラストマー＞
・クラリティＬＡ２２５０：クラレ社製、ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ共重合体エラストマー
・クラリティＬＡ２１４０Ｅ：クラレ社製、ＰＭＭＡ−ＰｎＢＡ共重合体エラストマー
・ハイブラー７３１１Ｆ：クラレ社製、ポリスチレン−水素添加されたイソプレン共重合体エラストマー
・クラプレンＵＣ−２０３Ｍ：クラレ社製、重合性基含有ポリイソプレン
・バイロンＵＲ−６１００：東洋紡社製、ポリエステルウレタン樹脂の４５％希釈液（希釈溶媒の組成は、質量比でシクロヘキサノン：ソルベッソ１５０：イソホロン＝４０：４０：２０）
・セロキサイド２０２１Ｐ：ダイセル社製、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
・アロンオキセタンＯＸＴ−２２１：東亞合成社製、３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３ −イル）メトキシ］メチル｝オキセタン
・合成例１：特開２０１４−２１０４２１号公報の段落＜００８６＞に記載の方法により、合成した
・ダイヤナールＢＲ８８：三菱レイヨン社製、ＰＭＭＡ樹脂
・ＮＫオリゴＵＡ−１２２Ｐ：新中村化学工業社製、紫外線硬化モノマー
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）

【0070】

＜無機フィラー＞
・ＭＩＢＫ−ＳＴ：日産化学工業社製、平均粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ微粒子

【0071】

＜添加剤＞
・スーパーエステルＡ１１５：荒川化学工業社製、ロジンエステル
・クリアロンＰ１５０：ヤスハラケミカル社製、水添テルペン
・アデカオプトマーＳＰ−１７０：ＡＤＥＫＡ社製、スルホニウム塩系光カチオン重合開始剤
・ＭＳ５１：多摩化学工業社製、メチルシリケートオリゴマー
・オルガノシリカゾル：日産化学工業社製 ３０％ＩＰＡ希釈液
・Ｄ―２０：信越化学社製、チタネート化合物
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：ＢＡＳＦ社製光重合剤

【0072】

＜溶媒＞
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
・ＩＰＡ：イソプロピルアルコール

【0073】

＜実施例１＞
薄ガラス(縦８ｃｍ、横８ｃｍ、厚み１００μｍ)の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１を塗布し、乾燥させてＣＵ層を形成した。
塗布および乾燥の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法により、搬送速度３０ｍ／分の条件で、ＣＵ層形成用組成物を乾燥後の膜厚が２０μｍになるように塗布した。次いで、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥させ、実施例１の光学積層体を作製した。

【0074】

＜実施例２、４、５及び８＞
ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１に代えてＣＵ層形成用組成物ＣＵ−２、ＣＵ−３、ＣＵ−４、及びＣＵ−５を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２、４、５及び８の光学積層体を作製した。

【0075】

＜実施例３＞
薄ガラスの厚みを５０μｍとした以外は、実施例２と同様にして、実施例３の光学積層体を作製した。

【0076】

＜実施例６＞
ＣＵ層形成用組成物の膜厚を５μｍとした以外は、実施例５と同様にして、実施例６の光学積層体を作製した。

【0077】

＜実施例７＞
ＣＵ層形成用組成物の膜厚を４０μｍとした以外は、実施例５と同様にして、実施例７の光学積層体を作製した。

【0078】

＜実施例９＞
ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１に代えてＣＵ層形成用組成物ＣＵ−６を使用し、ＣＵ層形成用組成物の膜厚を４０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例９の光学積層体を作製した。

【0079】

＜実施例１０＞
−ＣＵ層シートの作製−
上記で調製したＣＵ層形成用組成物ＣＵ−２を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した剥離シート（リンテック社製、商品名：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１）の剥離処理面に、乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布した。雰囲気温度６０℃で１５０秒間加熱し、ＣＵ層ＣＵ−２を形成した。このＣＵ層ＣＵ−２と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した別の剥離シート（リンテック社製、商品名：ＳＰ−ＰＥＴ３８０１）の剥離処理面とを貼り合わせて、剥離シート／ＣＵ層ＣＵ−２／剥離シートの順に積層された、Ｃｕ層シートＣＵ−２を作製した。

【0080】

−光学積層体の作製−
薄ガラス（厚み１００μｍ）の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−９をスポイトを用いて線状に塗布した。次いで、上記薄ガラスとＣｕ層シートＣＵ−２とを、上記接着剤組成物を介して、貼り合わせた。この貼り合わせは、ラミネータを用いてロール間で行った。
その後、得られた積層体のＣｕ層シートＣＵ−２側から紫外光を照射して（照射強度５０ｍｗ／ｃｍ^２、照射時間３０秒）、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−９を半硬化させた。紫外光照射は高圧水銀ランプを使用した。次いで、８０℃の温度下で６０分間、オーブン内で積層体を加熱し、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−９を完全硬化させて、実施例１０の光学積層体を作製した。ＣＵ−９の層は接着層として存在し、その厚みは５μｍであった。

【0081】

＜実施例１１＞
薄ガラス（厚み１００μｍ）の表面上に、上記で作製したＣＵ層シートＣＵ−２を、厚み２０μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ−２０５７）を介して、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせることで、実施例１１の光学積層体を作製した。

【0082】

＜実施例１２＞
薄ガラス(縦８ｃｍ、横８ｃｍ、厚み１００μｍ)の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１１を塗布し、乾燥させてＣＵ層を形成した。
塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＣＵ層形成用組成物を乾燥後の膜厚が２０μｍになるように塗布した。次いで、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、塗布したＣＵ層形成用硬化性組成物を硬化させて実施例１２の光学積層体を作製した。

【0083】

＜実施例１３、１４＞
ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１１に代えてＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１２、ＣＵ−１３を使用した以外は、実施例１２と同様にして、実施例１３、１４の光学積層体を作製した。

【0084】

＜比較例１＞
薄ガラス（厚み１００μｍ）の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−７を乾燥後の膜厚が１５μｍになるように塗布し、雰囲気温度５０℃で３０分間、次いで７０℃で２時間、さらに１００℃で１時間乾燥させることにより、比較例１の光学積層体を作製した。

【0085】

＜比較例２＞
薄ガラス（厚み１００μｍ）の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−８を塗布し、ＣＵ層形成用組成物の乾燥後の膜厚が７５μｍとなるように、雰囲気温度７０℃で６分間、次いで１４０℃で４０分間乾燥させ、比較例２の光学積層体を作製した。

【0086】

＜比較例３＞
ＣＵ層シートＣＵ−２を貼り合わせなかった以外は、実施例１０と同様にして、比較例３の光学積層体を作製した。

【0087】

＜比較例４＞
ＣＵ層シートＣＵ−２に代えて、アクリル系樹脂シート（三菱ケミカル社製、商品名「アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ」、厚み７５μｍ）を使用した以外は、実施例１０と同様にして、比較例４の光学積層体を作製した。

【0088】

＜比較例５＞
ＣＵ層形成用組成物シートＣＵ−２に代えて、シクロオレフィン系樹脂シート（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１６」、厚み１００μｍ）を使用した以外は、実施例１０と同様にして、比較例５の光学積層体を作製した。

【0089】

＜比較例６＞
薄ガラス（厚み１００μｍ）の表面上に、ＣＵ層形成用組成物ＣＵ−１０を硬化後の膜厚が８μｍになるようにワイヤバーコータを用いて塗布した後、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥させることにより溶剤を除去した。さらに、高圧水銀ランプ（１６０Ｗ／ｃｍ）を照射することによって比較例６の光学積層体を作製した。

【0090】

＜比較例７＞
ＣＵ層形成用組成物の膜厚を１μｍとした以外は、実施例５と同様にして、比較例７の光学積層体を作製した。

【0091】

＜比較例８＞
ＣＵ層形成用組成物からなる層を設けなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例８の光学フィルムを作製した。

【0092】

［試験例］ 衝撃吸収性試験
ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル ＸＧ、厚み０．４ｍｍ、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ）と、上記で作製した各光学積層体（実施例１〜１１、比較例１〜７）ないし薄ガラス（比較例８）とを、ＣＵ層の、薄ガラス側とは反対側の面がガラス板と向かい合うようにして、厚み２０μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ−２０５７）を介して、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせた。ステンレスからなる基台の上に、上記の光学積層体を貼り合わせたガラス板を、厚さ２０ｍｍ、幅５ｍｍのテフロン（登録商標）製スペーサー（１０ｃｍ四方のスペーサーから、中央部９ｃｍ四方を打ち抜いた形状のスペーサー）がガラス板とステンレス基台の間に挟まるように設置した。次いで、鉄球（直径３．２ｃｍ、質量１３０ｇ）を、所定高さから落下させ、上記の光学積層体ないし薄ガラスの、薄ガラスに鉄球が接触するように衝突させた。その後、薄ガラスを観察し、ひびや割れなどが観察されなかった高さの中で一番高い値を耐衝撃高さ（ｃｍ）とした。
結果を下記表２に示す。

【0093】

【表2】

【0094】

上記表２に示されるように、衝撃吸収層がｔａｎδの極大値を１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲に有しない場合、衝撃吸収層の厚みを厚くしても、光学積層体は衝撃吸収性に劣る結果となり、いずれも、衝撃吸収層を設けていない薄ガラスそのものと同等のひび割れやすさであった（比較例１〜６、８）。
また、衝撃吸収層がｔａｎδの極大値を１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲に有していても、衝撃吸収層の厚さが十分でないと、やはり衝撃吸収性に劣る結果となった（比較例７）。
これに対し、衝撃吸収層がｔａｎδの極大値を１０^１〜１０^１５Ｈｚの範囲に有し、かつ衝撃吸収層の厚さも５μｍ以上を確保した光学積層体は、いずれも衝撃吸収性に優れる結果となった（実施例１〜１４）。

【符号の説明】

【0095】

１Ａ 薄ガラス
２Ａ 衝撃吸収層
４Ａ 光学積層体

【図1】