特許 6936622 ガスバリア性フィルム、光学フィルム、及び、フレキシブルディスプレイ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6936622

(24)【登録日】2021年8月31日

(45)【発行日】2021年9月15日

(54)【発明の名称】ガスバリア性フィルム、光学フィルム、及び、フレキシブルディスプレイ

(51)【国際特許分類】

   B32B 7/02 20190101AFI20210906BHJP

   B32B 9/00 20060101ALI20210906BHJP

   G02B 5/30 20060101ALI20210906BHJP

   G09F 9/00 20060101ALI20210906BHJP

   C23C 16/42 20060101ALI20210906BHJP

【ＦＩ】

   B32B7/02

   B32B9/00 A

   G02B5/30

   G09F9/00 313

   G09F9/00 309Z

   C23C16/42

【請求項の数】18

【全頁数】22

(21)【出願番号】特願2017-99094(P2017-99094)

(22)【出願日】2017年5月18日

(65)【公開番号】特開2017-209991(P2017-209991A)

(43)【公開日】2017年11月30日

【審査請求日】2019年12月9日

(31)【優先権主張番号】特願2016-101869(P2016-101869)

(32)【優先日】2016年5月20日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002093

【氏名又は名称】住友化学株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100124062

【弁理士】

【氏名又は名称】三上 敬史

(72)【発明者】

【氏名】上野 敏幸

(72)【発明者】

【氏名】山下 恭弘

(72)【発明者】

【氏名】野殿 光紀

(72)【発明者】

【氏名】岡本 敏

【審査官】 吉川 潤

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−１５１５７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−０３０２２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−１７１２３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２６０９７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０５０７４３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１６／０６７７２７（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ ７／０２

Ｂ３２Ｂ ９／００

Ｇ０２Ｂ ５／３０

Ｇ０９Ｆ ９／００

Ｃ２３Ｃ １６／４２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

可撓性基材と、前記可撓性基材の少なくとも一方の表面上に形成された無機薄膜層とを備えるガスバリア性フィルムであって、
前記ガスバリア性フィルムの一方の表面と他方の表面との間の静止摩擦係数が０．８５以上２．０以下であり、
前記ガスバリア性フィルムから切り出した５０ｍｍ四方の部分を前記部分の中央部が水平面に接するように水平面上に載置した時における前記水平面から前記部分の四隅までの距離の平均値が２ｍｍ以下であり、
前記ガスバリア性フィルムの少なくとも一方の表面が前記無機薄膜層である、ガスバリア性フィルム。

【請求項2】

前記ガスバリア性フィルムの一方の表面の算術平均粗さと他方の表面の算術平均粗さとが異なる、請求項１に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項3】

前記ガスバリア性フィルムのいずれか一方の表面を白色干渉顕微鏡で観察した時の算術平均粗さＲａが３ｎｍ以上である、請求項１又は２に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項4】

前記ガスバリア性フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である、請求項１〜３の何れか一項に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項5】

前記ガスバリア性フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である、請求項１〜３の何れか一項に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項6】

前記無機薄膜層が、珪素原子、酸素原子、および炭素原子を含有する請求項１〜５の何れか一項に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項7】

請求項１〜６のいずれか１項記載のガスバリア性フィルムと、λ／４位相差フィルムと、直線偏光子層とを備える、光学フィルム。

【請求項8】

さらに、λ／２位相差フィルムを備える請求項７記載の光学フィルム。

【請求項9】

前記λ／４位相差フィルムが逆波長分散性をもつ請求項７又は８に記載の光学フィルム。

【請求項10】

前記可撓性基材がλ／４位相差フィルムである、請求項１〜６の何れか一項に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項11】

前記可撓性基材が、逆波長分散性をもつ、請求項１０に記載のガスバリア性フィルム。

【請求項12】

請求項１０又は１１に記載のガスバリア性フィルムと、直線偏光子層と、を備える、光学フィルム。

【請求項13】

さらに、λ／２位相差フィルムを備える請求項１２記載の光学フィルム。

【請求項14】

粘接着剤層をさらに備える、請求項７、８、９、１２、又は１３に記載の光学フィルム。

【請求項15】

８５℃８５％ＲＨ環境下で５００ｈｒ保管後における、ガスバリア性フィルムと前記粘接着剤層との間の接着強度が５００ｇｆ／１０ｍｍ以上である請求項１４に記載の光学フィルム。

【請求項16】

前記粘接着剤層の面内方向の水拡散係数が、６０℃９０％ＲＨ環境下において０．０５ｍｍ２／ｈｒ以下である請求項１４又は１５に記載の光学フィルム。

【請求項17】

請求項１〜６、１０、及び、１１のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムを備えるフレキシブルディスプレイ。

【請求項18】

請求項７〜９、１２〜１６のいずれか１項に記載の光学フィルムを備えるフレキシブルディスプレイ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガスバリア性フィルム、光学フィルム、及び、フレキシブルディスプレイに関する。

【背景技術】

【0002】

従来、有機ＥＬディスプレイ等に用いられるガスバリア性フィルムが知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】ＷＯ２０１３／１４７０９０号公報

【特許文献2】特開２０１４−１６８９３４号公報

【特許文献3】特開２００３−１９５２７１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、従来のガスバリア性フィルムでは、ロールに巻き取った後にロール内でフィルム同士がくっついてしまうブロッキング、及び、ロールに巻き取る際にフィルムの端面の位置が軸方向にずれてしまう巻ズレが発生しやすいことが判明した。

【0005】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、ブロッキング及び巻ズレを抑制できる、ガスバリア性フィルム及びこれを用いた光学フィルム等を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明に係るガスバリア性フィルムは、可撓性基材と、前記可撓性基材の少なくとも一方の表面上に形成された無機薄膜層とを備えるガスバリア性フィルムである。そして、前記ガスバリア性フィルムの一方の表面と他方の表面との間の静止摩擦係数が０．８５以上２．０以下であり、前記ガスバリア性フィルムから切り出した５０ｍｍ四方の部分を前記部分の中央部が水平面に接するように水平面上に載置した時における前記水平面から前記部分の四隅までの距離の平均値が２ｍｍ以下である。

【0007】

ここで、前記ガスバリア性フィルムのいずれか一方の表面を白色干渉顕微鏡で観察した時の算術平均粗さＲａが３ｎｍ以上であることができる。

【0008】

また、前記ガスバリア性フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることができ、０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることもできる。

【0009】

また、前記無機薄膜層が、珪素原子、酸素原子、および炭素原子を含有することができる。

【0010】

本発明にかかる光学フィルムは、上述のガスバリア性フィルムと、λ／４位相差フィルムと、直線偏光子層と、を備える。

【0011】

ここで、上記光学フィルムは、さらに、λ／２位相差フィルムを備えることができる。

【0012】

また、前記λ／４位相差フィルムが逆波長分散性をもつことができる。

【0013】

さらに、上記ガスバリア性フィルムにおいて、前記可撓性基材がλ／４位相差フィルムであることができる。また、前記可撓性基材は逆波長分散性をもつことができる。

【0014】

本発明に係る他の光学フィルムは、上記のガスバリア性フィルムと、直線偏光子層と、を備える。

【0015】

ここで、光学フィルムは、さらに、λ／２位相差フィルムを備えることができる。

【0016】

光学フィルムは、さらに、前記ガスバリア性フィルムの他方の表面上に設けられた粘接着剤層をさらに備えることができる。

【0017】

ここで、８５℃８５％ＲＨ環境下で５００ｈｒ保管後における、ガスバリア性フィルムと前記粘接着剤層との間の接着強度が５００ｇｆ／１０ｍｍ以上であることができる。

【0018】

また、前記粘接着剤層の面内方向の水拡散係数が、６０℃９０％ＲＨ環境下において０．０５ｍｍ^２／ｈｒ以下であることができる。

【0019】

本発明に係るフレキシブルディスプレイは、上述のガスバリア性フィルム又は光学フィルムを備える。

【発明の効果】

【0020】

本発明によれば、ブロッキング及び巻ズレを抑制できる、ガスバリア性フィルム及びこれを用いた光学フィルム等が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】図１の（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施形態に係るガスバリア性フィルムの断面模式図である。

【図2】図２の（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施形態に係る光学フィルムの断面模式図である。

【図3】図３の（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施形態に係る別の光学フィルムの断面模式図である。

【図4】図４は、本発明の実施形態に係るフレキシブルディスプレイの断面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。

【0023】

本実施形態に係るガスバリア性フィルム１００は、図１の（ａ）及び（ｂ）に示すように、可撓性基材１０と、可撓性基材１０の少なくとも一方の表面上に形成される無機薄膜層２０とを備える。図１の（ａ）に示すように、無機薄膜層２０は、可撓性基材１０の一方の表面上にのみ設けられていてもよく、図２の（ｂ）に示すように、無機薄膜層２０は、可撓性基材１０の両方の表面上に設けられていてもよい。

【0024】

（可撓性基材１０）
可撓性基材１０は、無機薄膜層２０を保持可能な可撓性薄膜である。可撓性基材１０の例は、樹脂フィルムであり、無色透明な樹脂フィルムが好適である。
樹脂の例は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂；ポリアミド樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂；エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物；ポリアクリロニトリル樹脂；アセタール樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエーテルサルファイド（ＰＥＳ）が挙げられ、必要に応じてそれらの２種以上を組合せて用いることもできる。これらの中でも、透明性、耐熱性、線膨張性等の必要な特性に合せて、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂の中から選択して用いることが好ましく、ＰＥＴ、ＰＥＮ、環状ポリオレフィンを用いることがより好ましい。

【0025】

可撓性基材１０は、未延伸の樹脂基材であってもよく、未延伸の樹脂基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、樹脂基材の流れ方向（ＭＤ方向）、及び／又は、樹脂基材の流れ方向と直角方向（ＴＤ方向）に延伸した延伸樹脂基材であってもよい。

【0026】

可撓性基材１０は、上述した樹脂の層を２層以上積層した積層体であることもできる。可撓性基材１０が複数の層を有する場合、無機薄膜層２０と直接接触する層は他の層の表面を平坦化するための平坦化層として機能する層を有することができる。平坦化層の例は、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂などの樹脂層である。

【0027】

可撓性基材１０の厚みは、ガスバリア性フィルム１００を製造する際の安定性等を考慮して適宜設定されるが、真空中においても可撓性基材１０の搬送が容易であることから、５〜５００μｍであることが好ましい。さらに、後述するプラズマＣＶＤ法により無機薄膜層２０を形成する場合、可撓性基材１０の厚みは１０〜２００μｍであることがより好ましく、１５〜１００μｍであることがさらに好ましい。

【0028】

可撓性基材１０を構成する層は、λ／４位相差フィルム、λ／２位相差フィルムなどの、面内における直交２成分の屈折率が互いに異なる位相差フィルムであってもよい。位相差フィルムの材料としては、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、液晶化合物の配向固化層などを例示することができる。中でもポリカーボネート系樹脂フィルムが、コスト的に安価で均一なフィルムが入手可能であるため好ましく用いられる。製膜方法としては、溶剤キャスト法やフィルムの残留応力を小さくできる精密押出法などを用いることができるが、均一性の点で溶剤キャスト法が好ましく用いられる。延伸方法は、特に制限なく、均一な光学特性が得られるロール間縦一軸、テンター横一軸延伸など適用できる。

【0029】

可撓性基材１０を構成する層がλ／４位相差フィルムである場合の波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１００ｎｍ〜１８０ｎｍであることができ、好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。

【0030】

可撓性基材１０を構成する層がλ／２位相差フィルムである場合の波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであることができ、好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。

【0031】

可撓性基材１０が位相差フィルムである場合に、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆波長分散性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。

【0032】

可撓性基材１０が逆波長分散性を示す位相差フィルムである場合、可撓性基材１０の波長λでの位相差をＲｅ（λ）と表記したときに、可撓性基材１０は、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１及びＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１を満たすことができる。

【0033】

なお、可撓性基材１０の表面には、無機薄膜層２０等との密着性の観点から、その表面を清浄するための表面活性処理を施してもよい。このような表面活性処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理が挙げられる。

【0034】

（無機薄膜層２０）
無機薄膜層２０としては、公知のガスバリア性を有する無機材料の層を適宜利用することができる。無機材料の例は、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属酸炭化物、及び、これらのうちの少なくとも２種を含む混合物である。また、無機材料としては、上述した薄膜層を２層以上積層した多層膜を用いることもできる。

【0035】

中でも、無機薄膜層２０は、より高度な水蒸気透過防止性能を発揮できるといった観点、並びに、耐屈曲性、製造の容易性及び低製造コストといった観点から、少なくとも珪素原子（Ｓｉ）、酸素原子（Ｏ）、及び炭素原子（Ｃ）を含有することが好ましい。

【0036】

この場合、無機薄膜層２０は、一般式がＳｉＯ_αＣ_βで表される化合物が主成分であることができる。ここで、「主成分である」とは、材質の全成分の質量に対してその成分の含有量が５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上であることをいう。この一般式において、αは２未満の正数から選択され、βは２未満の正数から選択される。前記の一般式におけるαおよびβの一以上は、無機薄膜層２０の厚さ方向において一定の値でもよいし、変化していてもよい。
厚さ方向における変化とは、例えばαおよびβの数値が、それぞれ無機薄膜層２０の厚さ方向で周期的に増減を繰り返す性質を有する。高度な水蒸気透過防止機能を発揮できるといった観点、および耐屈曲性を発現するという観点から、無機薄膜層２０の厚さ方向における珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線において、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有し、かつ、Ｓｉ，Ｏ及びＣの全原子数に対する炭素の原子数比の平均値が、１１ａｔ％以上２１ａｔ％以下であることが好ましい。

【0037】

さらに無機薄膜層２０は珪素原子、酸素原子および炭素原子以外の元素、例えば、水素原子、窒素原子、ホウ素原子、アルミニウム原子、リン原子、イオウ原子、フッ素原子および塩素原子のうちの一以上の原子を含有していてもよい。

【0038】

無機薄膜層２０が、珪素原子、酸素原子および炭素原子に加え、水素原子を含有する場合、一般式がＳｉＯ_αＣ_βＨ_γで表される化合物が主成分であることが好ましい。ここで、「主成分である」とは、材質の全成分の質量に対してその成分の含有量が５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上であることをいう。この一般式において、αは２未満の正数、βは２未満の正数、γは６未満の正数からそれぞれ選択される。前記の一般式におけるα、βおよびγの一以上は、前記薄膜層の厚さ方向で一定の値でもよいし、変化していてもよい。

【0039】

無機薄膜層２０は、無機薄膜層中の珪素原子（Ｓｉ）に対する炭素原子（Ｃ）の平均原子数比をＣ／Ｓｉで表した場合に、緻密性を高くし、微細な空隙やクラック等の欠陥を少なくする観点から、０．１０＜Ｃ／Ｓｉ＜０．７０（好ましくは、０．１０＜Ｃ／Ｓｉ＜０．５０）の範囲にあると好ましく、０．１５＜Ｃ／Ｓｉ＜０．６５（好ましくは、０．１５＜Ｃ／Ｓｉ＜０．４５）の範囲にあるとより好ましく、０．２０＜Ｃ／Ｓｉ＜０．４０の範囲にあるとさらに好ましく、０．２５＜Ｃ／Ｓｉ＜０．３５の範囲にあると特に好ましい。
また、無機薄膜層２０は、薄膜層中の珪素原子（Ｓｉ）に対する酸素原子（Ｏ）の平均原子数比をＯ／Ｓｉで表した場合に、緻密性を高くし、微細な空隙やクラック等の欠陥を少なくする観点から、１．４０＜Ｏ／Ｓｉ＜１．９０（好ましくは、１．５０＜Ｏ／Ｓｉ＜１．９０）の範囲にあると好ましく、１．５０＜Ｏ／Ｓｉ＜１．８５（好ましくは、１．５５＜Ｏ／Ｓｉ＜１．８５）の範囲にあるとより好ましく、１．６０＜Ｏ／Ｓｉ＜１．８０の範囲にあるとさらに好ましく、１．６５＜Ｏ／Ｓｉ＜１．７５の範囲にあると特に好ましい。
なお、平均原子数比Ｃ／ＳｉおよびＯ／Ｓｉは、下記条件にてＸＰＳデプスプロファイル測定を行い、得られた珪素原子、酸素原子及び炭素原子の分布曲線から、それぞれの原子の厚み方向における平均原子濃度を求めた後、平均原子数比Ｃ／ＳｉおよびＯ／Ｓｉを算出できる。
＜ＸＰＳデプスプロファイル測定＞
エッチングイオン種：アルゴン（Ａｒ^＋）
エッチングレート（ＳｉＯ_２熱酸化膜換算値）：０．０５ｎｍ／ｓｅｃ
エッチング間隔（ＳｉＯ_２換算値）：１０ｎｍ
Ｘ線光電子分光装置：Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、機種名「ＶＧ Ｔｈｅｔａ Ｐｒｏｂｅ」
照射Ｘ線：単結晶分光ＡｌＫα
Ｘ線のスポット及びそのサイズ：８００×４００μｍの楕円形

【0040】

無機薄膜層２０は、無機薄膜層表面に対して赤外分光測定（ＡＴＲ法）を行った場合、９５０〜１０５０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_１）と、１２４０〜１２９０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_２）との強度比が下記式（２）を満たす範囲にあってもよい。
０．０１≦Ｉ_２／Ｉ_１＜０．０５ （２）
赤外分光測定（ＡＴＲ法）から算出したピーク強度比Ｉ_２／Ｉ_１は、無機薄膜層２０中のＳｉ−Ｏ−Ｓｉに対するＳｉ−ＣＨ_３の相対的な割合を表すと考えられる。式（２）で表される関係を満たす無機薄膜層２０は、緻密性が高く、微細な空隙やクラック等の欠陥が少なくなるため、ガスバリア性に優れ、かつ耐衝撃性に優れたものとなると考えられる。ピーク強度比Ｉ_２／Ｉ_１の範囲について、無機薄膜層２０の緻密性を高く保持する観点から、０．０２≦Ｉ_２／Ｉ_１＜０．０４の範囲が好ましい。
さらに、上記ピーク強度比Ｉ_２／Ｉ_１の範囲を満たす場合には、ガスバリア性フィルム１００が適度に滑りやすくなり、よりブロッキングしにくくなる。逆にＩ_２／Ｉ_１が大きいすなわちＳｉ−Ｃが多すぎると屈曲性が悪く、かつ滑りにくくなる傾向があり、また、Ｉ_２／Ｉ_１が小さいすなわちＳｉ−Ｃが少なすぎても屈曲性が低下する傾向がある。
無機薄膜層２０の表面の赤外分光測定は、プリズムにゲルマニウム結晶を用いたＡＴＲアタッチメント（ＰＩＫＥ ＭＩＲａｃｌｅ）を備えたフーリエ変換型赤外分光光度計（日本分光製、ＦＴ／ＩＲ−４６０Ｐｌｕｓ）によって測定できる。

【0041】

無機薄膜層２０は、無機薄膜層表面に対して赤外分光測定（ＡＴＲ法）を行った場合、９５０〜１０５０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_１）と、７７０〜８３０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_３）との強度比が下記式（３）の範囲にあってもよい。
０．２５≦Ｉ_３／Ｉ_１≦０．５０ （３）
赤外分光測定（ＡＴＲ法）から算出したピーク強度比Ｉ_３／Ｉ_１は、無機薄膜層２０中のＳｉ−Ｏ−Ｓｉに対するＳｉ−ＣやＳｉ−Ｏ等の相対的な割合を表すと考えられる。式（３）で表される関係を満たす無機薄膜層は、高い緻密性を保持しつつ、炭素が導入されることから耐屈曲性に優れ、かつ耐衝撃性に優れたものとなると考えられる。ピーク強度比Ｉ_３／Ｉ_１の範囲について、無機薄膜層の緻密性と耐屈曲性のバランスを保つ観点から、０．２５≦Ｉ_３／Ｉ_１≦０．５０の範囲が好ましく、０．３０≦Ｉ_３／Ｉ_１≦０．４５の範囲がより好ましい。

【0042】

前記薄膜層は、薄膜層表面に対して赤外分光測定（ＡＴＲ法）を行った場合、７７０〜８３０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_３）と、８７０〜９１０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_４）との強度比が下記式（４）の範囲にあってもよい。
０．７０≦Ｉ_４／Ｉ_３＜１．００ （４）
赤外分光測定（ＡＴＲ法）から算出したピーク強度比Ｉ_４／Ｉ_３は、無機薄膜層２０中のＳｉ−Ｃに関連するピーク同士の比率を表すと考えられる。式（４）で表される関係を満たす無機薄膜層は、高い緻密性を保持しつつ、炭素が導入されることから耐屈曲性に優れ、かつ耐衝撃性に優れたものとなると考えられる。ピーク強度比Ｉ_４／Ｉ_３の範囲について、無機薄膜層の緻密性と耐屈曲性のバランスを保つ観点から、０．７０≦Ｉ_４／Ｉ_３＜１．００の範囲が好ましく、０．８０≦Ｉ_４／Ｉ_３＜０．９５の範囲がより好ましい。

【0043】

無機薄膜層２０の厚さは、無機薄膜層を曲げた時に割れ難くするという観点から、５〜３０００ｎｍであることが好ましい。さらに、グロー放電プラズマを用いて、プラズマＣＶＤ法により薄膜層を形成する場合には、基材を通して放電しつつ前記薄膜層を形成することから、１０〜２０００ｎｍであることがより好ましく、１００〜１０００ｎｍであることがさらに好ましい。

【0044】

無機薄膜層２０は、平均密度が１．８ｇ／ｃｍ^３以上の高い密度となっていてもよい。なお、無機薄膜層の「平均密度」は、ラザフォード後方散乱法（Rutherford Backscattering Spectrometry：ＲＢＳ）で求めた珪素の原子数、炭素の原子数、酸素の原子数と、水素前方散乱法（Hydrogen Forward scattering Spectrometry：ＨＦＳ）で求めた水素の原子数とから測定範囲の薄膜層の重さを計算し、測定範囲の薄膜層の体積（イオンビームの照射面積と膜厚との積）で除することで求められる。無機薄膜層２０が１．８ｇ／ｃｍ^３以上の密度を有していることにより、無機薄膜層２０は、緻密性が高く、微細な空隙やクラック等の欠陥を少ない構造を有する。さらに、無機薄膜層が珪素原子、酸素原子、炭素原子および水素原子からなる場合には、無機薄膜層の平均密度は２．２２ｇ／ｃｍ^３未満であることが好ましい。

【0045】

このような珪素原子、酸素原子、及び、炭素原子を含む無機材料の層は、化学気相成長法（ＣＶＤ法）で形成されることが好ましく、中でも、グロー放電プラズマなどを用いたプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ法）で形成されることがより好ましい。

【0046】

原料ガスの例は、珪素原子及び炭素原子を含有する有機ケイ素化合物である。このような有機ケイ素化合物の例は、ヘキサメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサンである。これらの有機ケイ素化合物の中でも、化合物の取り扱い性及び得られる無機薄膜層２０のガスバリア性等の特性の観点から、ヘキサメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが好ましい。また、これらの有機ケイ素化合物は、１種を単独で又は２種以上を組合せて使用することができる。

【0047】

また、上記原料ガスに対して、上記原料ガスと反応して酸化物、窒化物等の無機化合物を形成可能とする反応ガスを適宜選択して混合することができる。酸化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、酸素、オゾンを用いることができる。また、窒化物を形成するための反応ガスとしては、例えば、窒素、アンモニアを用いることができる。これらの反応ガスは、１種を単独で又は２種以上を組合せて使用することができ、例えば酸窒化物を形成する場合には、酸化物を形成するための反応ガスと窒化物を形成するための反応ガスとを組合せて使用することができる。原料ガスと反応ガスの流量比は、成膜する無機材料の原子比に応じて適宜調節できる。

【0048】

上記原料ガスを真空チャンバー内に供給するために、必要に応じて、キャリアガスを用いてもよい。さらに、プラズマ放電を発生させるために、必要に応じて、放電用ガスを用いてもよい。このようなキャリアガス及び放電用ガスとしては、適宜公知のものを使用することができ、例えば、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン等の希ガス；水素を用いることができる。

【0049】

また、真空チャンバー内の圧力（真空度）は、原料ガスの種類等に応じて適宜調整することができるが、０．５Ｐａ〜５０Ｐａの範囲とすることが好ましい。

【0050】

本実施形態にかかるガスバリア性フィルム１００において、ガスバリア性フィルム１００の一方の表面と他方の表面との間の静止摩擦係数は、０．８５以上２．０以下である。

【0051】

静止摩擦係数は、上面及び下面を有するガスバリア性フィルム１００を２枚に分割し、１枚目のガスバリア性フィルムの上面と、２枚目のガスバリア性フィルム１００の下面とを接触させるようにして、静止摩擦係数を測定すればよい。静止摩擦係数は、ＪＩＳ Ｐ８１４７の傾斜法に準拠し、温度２３℃、湿度５０ＲＨ％の環境下にて測定することができる。

【0052】

静止摩擦係数を調整するには、ガスバリア性フィルム１００の両面の表面粗さを調節すればよい。たとえば、図１の（ａ）のように、無機薄膜層２０が可撓性基材１０の一方面のみに設けられている場合には、無機薄膜層２０の露出面の表面粗さと、可撓性基材１０の露出面の表面粗さとを調節すればよい。図１の（ｂ）のように、無機薄膜層２０が可撓性基材１０の両方面に設けられている場合には、一方の無機薄膜層２０の露出面の表面粗さと、他方の無機薄膜層２０の露出面の表面粗さとを調節すればよい。ガスバリア性フィルム１００の少なくとも一方の面の表面粗さを大きくすると、表裏面間の静止摩擦係数は小さくなる傾向がある。

【0053】

無機薄膜層２０の表面粗さは、たとえば、無機薄膜層２０の成膜条件における真空チャンバー内の圧力（真空度）や成膜厚み等の条件や、無機成膜層の組成や密度（緻密性）や、成膜速度に応じて調節できる。特に、真空チャンバー内の圧力を適切に制御して無機薄膜層の密度を調節することにより表面粗さを調節することが好ましい。図１の（ｂ）のように、無機薄膜層２０が可撓性基材１０の両方面に設けられている場合には、片方の無機薄膜層のみ、密度を調節して表面粗さを３ｎｍ以上に設定することによりブロッキングの防止と水蒸気透過防止機能とを両立することができる。また、無機薄膜層２０の表面粗さは、下地となる可撓性基材１０の表面粗さや、無機薄膜層２０と可撓性基材１０との間に配置される中間層の表面粗さを調節することによっても調節できる。

【0054】

可撓性基材１０の表面粗さを調節するには、コロナ処理等の処理をすればよい。

【0055】

無機薄膜層２０の表面の算術平均粗さＲａは、３ｎｍ以上であることができる。算術平均粗さＲａは、ガスバリア性フィルムを粘着剤付きエポキシ板に貼りつけた後、その表面を白色干渉顕微鏡で観察することにより得ることができる。算術平均粗さＲａとは、ＪＩＳ Ｂ０６０１ ２００１による算術平均粗さである。

【0056】

また、本実施形態にかかるガスバリア性フィルム１００において、ガスバリア性フィルム１００から切り出した５０ｍｍ四方の部分を当該部分の中央部が水平面に接するように載置したとき、水平面から反り上がった四隅までの距離の平均値が２ｍｍ以下である。

【0057】

この平均値は以下のようにして測定できる。まず、ガスバリア性フィルム１００を温度２３℃、湿度５０ＲＨ％の条件に４８時間保持する。次に、当該ガスバリア性フィルム１００から５０ｍｍ四方の部分を切り出してサンプルを得る。サンプルの中央部が水平面に接するようにサンプルを水平面上に載置して、水平面から４隅までの距離を合計４点得る。
最後に、これら４点の平均値を得る。

【0058】

ガスバリア性フィルム１００の反りを低減して平面性を向上させるには、表裏面の各無機薄膜層の応力をバランスさせたり、片方の面の無機薄膜層とその下のコーティング層との応力をバランスさせたり、無機薄膜層自体の残留応力を低減したり、またこれらを組み合わせて両面の応力をバランスさせればよい。応力は、無機薄膜層形成時の成膜圧力、膜厚、コーティング層形成時の硬化収縮度合等により調整できる。

【0059】

ガスバリア性フィルム１００の４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度は、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることができ、０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であってもよい。水蒸気透過度は、特開２００５−２８３５６１号公報に開示された装置及び方法で測定できる。

【0060】

本実施形態に係るガスバリア性フィルム１００によれば、ロールに巻き取った後にロール内でフィルム同士がくっついてしまうブロッキング、及び、ロールに巻き取る際にフィルムの端面の位置が軸方向にずれてしまう巻ズレが抑制される。この理由は明らかではないが、ガスバリア性フィルム１００の平面性が高いことによりロールの巻き締まり時において接触面での応力の均一性が高く、局所的に高い応力で接触する部分ができにくくなってブロッキングを抑制できる点と、ガスバリア性フィルム１００の表裏面間の静止摩擦係数がある程度大きいことによりフィルム同士が滑りにくくなって、巻きずれしにくくなる点とが１つの要因となり得る。

【0061】

（光学フィルム２００）
続いて、本発明の実施形態に係る、光学フィルム２００について説明する。

【0062】

図２の（ａ）の光学フィルム２００は、粘接着剤層８０、上述のガスバリア性フィルム１００、粘接着剤層５、λ／４位相差フィルム３０、粘接着剤層５、直線偏光子層４０をこの順に有する。なお、ガスバリア性フィルム１００の一方の面上におけるλ／４位相差フィルム３０及び直線偏光子層４０の順番は逆でもよい。

【0063】

図２の（ｂ）の光学フィルム２００は、粘接着剤層８０、上述のガスバリア性フィルム１００、粘接着剤層５、λ／４位相差フィルム３０、粘接着剤層５、λ／２位相差フィルム５０、粘接着剤層５、直線偏光子層４０をこの順に有する。なお、ガスバリア性フィルム１００の一方の面上における、λ／４位相差フィルム３０、λ／２位相差フィルム５０、及び、直線偏光子層４０の順番は特に限定されず、任意の順番でよい。

【0064】

（粘接着剤層）
粘接着剤層５、８０としては、例えば粘着剤層、接着剤層等が挙げられる。
（粘着剤層）
粘着剤層は、光学フィルム２００をフレキシブル画像表示素子に貼りつけるための粘着剤として好適である。粘着層の例としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エポキシ系粘着剤等が挙げられる。粘着剤層の厚みは、たとえば、５〜１００μｍであり、好ましくは５〜５０μｍとすることができる。なお、この粘着剤層の表面には、使用に供されるまで、剥離フィルムを貼り合わせることできる。

【0065】

粘着剤層の面内方向の水拡散係数は、６０℃、湿度９０％ＲＨにおいて、０．０５ｍｍ^２／ｈｒであることができる。

【0066】

また、８５℃８５％ＲＨ環境下で５００ｈｒ保管後のガスバリア性フィルム１００と粘着剤層との間のＪＩＳ Ｋ ６８５４−２に準拠した接着強度が５００ｇｆ／１０ｍｍ以上であることができる。

【0067】

（接着剤層）
接着剤層は、フィルム同士を貼りつける接着剤として好適である。接着剤層の例は、たとえば、ポリビニルアルコール系接着剤等の水系接着剤、カチオン重合系またはラジカル重合系の活性エネルギー線硬化型接着剤である。接着剤層の厚みは、たとえば、０．１〜２０μｍであり、好ましくは０．２〜１０μｍであり、より好ましくは０．５〜５μｍである。

【0068】

また、８５℃８５％ＲＨ環境下で５００ｈｒ保管後のガスバリア性フィルム１００と接着剤層との間のＪＩＳ Ｋ ６８５４−２に準拠した接着強度が５００ｇｆ／１０ｍｍ以上であることができる。

【0069】

（λ／４位相差フィルム）
λ／４位相差フィルム３０は、λ／４板として機能する、すなわち、入射光に対して進相軸と遅相軸との間にπ/2（＝λ/4）の位相差を与えるフィルムである。

【0070】

λ／４位相差フィルム３０の５５０ｎｍの波長での面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１００ｎｍ〜１８０ｎｍであることができ、好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。

【0071】

λ／４位相差フィルム３０の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。厚みは、１μｍ〜８０μｍであることができ、１０μｍ〜６０μｍであることもでき、３０μｍ〜５０μｍであることもできる。

【0072】

λ／４位相差フィルム３０の材料としては、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、環状オレフィンポリマー、液晶化合物の配向固化層などを例示することができる。中でもポリカーボネート系樹脂フィルム、コスト的に安価で均一なフィルムが入手可能であるため好ましく用いられる。製膜方法としては、溶剤キャスト法やフィルムの残留応力を小さくできる精密押出法などを用いることができるが、均一性の点で溶剤キャスト法が好ましく用いられる。延伸方法は、特に制限なく、均一な光学特性が得られるロール間縦一軸、テンター横一軸延伸など適用できる。

【0073】

λ／４位相差フィルム３０は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆波長分散性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。

【0074】

λ／４位相差フィルム３０が逆波長分散性を示す場合には、視野角補償が向上するという効果がある。この場合、λ／４位相差フィルム３０の波長λでの面内位相差をＲｅ（λ）と表記したときに、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１及びＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１を満たすことができる。

【0075】

（λ／２位相差フィルム５０）
λ／２位相差フィルム５０は、λ／２板として機能する、すなわち、入射光に対して進相軸と遅相軸との間にπ（＝λ/２）の位相差を与えるフィルムである。

【0076】

λ／２位相差フィルム５０の波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであることができ、好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。

【0077】

λ／２位相差フィルム５０の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、１μｍ〜８０μｍであることができ、１０μｍ〜６０μｍであることもでき、３０〜５０μｍであることもできる。

【0078】

λ／２位相差フィルム５０の材料や製法は、λ／４位相差フィルム３０と同様とすることができる。

【0079】

（直線偏光子層４０）
直線偏光子層４０は、直線偏光機能を有するフィルムである。このような直線偏光子層４０の例は、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムである。吸収異方性を有する色素の例は、ヨウ素などの二色性色素であり、基材の例はポリビニルアルコール系樹脂である。

【0080】

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムの製法の１例は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

【0081】

直線偏光子層４０の厚さは５〜４０μｍとすることができ、５〜３０μｍとすることもできる。

【0082】

直線偏光子層４０の一方面又は両面は、トリアセチルセルロース等の保護フィルムを有していることもできる。

【0083】

円偏光を得るために、λ／４位相差フィルム３０の進相軸と、直線偏光子層４０の透過軸とが４５°で交差するように、λ／４位相差フィルム３０及び直線偏光子層４０を配置することができる。

【0084】

図２の（ａ）のような光学フィルム２００では、ガスバリア機能に加えて、λ／４位相差フィルム３０及び直線偏光子層４０によって直線偏光を円偏光に変換する機能を付与できる。また、図２の（ｂ）のような光学フィルム２００では、λ／２位相差フィルム５０を所定角度でさらに設けることにより、光学フィルム２００に逆波長分散性を付与することができる。

【0085】

また、ブロッキング及び巻ズレを抑制できるガスバリア性フィルム１００を用いているので、キズなどの外観不良がなく、面品質が良い光学フィルムが得られるという効果がある。

【0086】

（光学フィルム３００）
続いて、本発明の実施形態に係る、光学フィルム３００について説明する。

【0087】

図３の（ａ）の光学フィルム３００は、粘接着剤層８０、上述のガスバリア性フィルム１００、粘接着剤層５、直線偏光子層４０をこの順に有する。本実施形態では、ガスバリア性フィルム１００の可撓性基材１０として、上記光学フィルム２００のλ／４位相差フィルム３０が用いられている。

【0088】

図３の（ｂ）の光学フィルム２００は、粘接着剤層８０、上述のガスバリア性フィルム１００、粘接着剤層５、λ／２位相差フィルム５０、粘接着剤層５、直線偏光子層４０をこの順に有する。本実施形態では、ガスバリア性フィルム１００の可撓性基材１０として、上記光学フィルム２００のλ／４位相差フィルム３０が用いられている。なお、ガスバリア性フィルム１００上における、λ／２位相差フィルム５０、及び、直線偏光子層４０の順番は逆でもよい。

【0089】

また、図３の（ａ）及び（ｂ）では、ガスバリア性フィルム１００の粘接着剤層８０側の面のみに無機薄膜層２０が設けられているが、直線偏光子層４０及びλ／２位相差フィルム５０側にさらに無機薄膜層２０が設けられていてもよい。

【0090】

図３の（ａ）のような光学フィルム３００では、ガスバリア機能に加えて、λ／４位相差フィルム３０及び直線偏光子層４０によって直線偏光を円偏光に変換する機能を付与できる。また、図２の（ｂ）のような光学フィルム２００では、λ／２位相差フィルム５０を所定角度でさらに設けることにより、光学フィルム３００に逆波長分散性を付与することができる。

【0091】

また、ブロッキング及び巻ズレを抑制できるガスバリア性フィルム１００を用いているので、キズなどの外観不良がなく、面品質が良い光学フィルムが得られるという効果がある。

【0092】

（フレキシブルディスプレイ）
本実施形態に係るフレキシブルディスプレイ１０００は、図４に示すように、フレキシブル画像表示パネル７００、及び、フレキシブル画像表示パネル７００の表面上に設けられた、ガスバリア性フィルム１００を備える。フレキシブルディスプレイ１０００は、ガスバリア性フィルム１００に代えて、光学フィルム２００又は光学フィルム３００であることができる。

【0093】

フレキシブル画像表示パネル７００としては、公知のＴＦＴ等の液晶パネル、有機ＥＬパネルを使用できる。

【0094】

光学フィルム２００、３００の粘接着剤層８０を利用してフレキシブル画像表示パネル７００に光学フィルム２００、３００を固定することが好ましい。ガスバリア性フィルム１００の一方面に、粘接着剤層を設けて、フレキシブル画像表示パネル７００に貼りつけてもよい。

【実施例】

【0095】

以下、具体的実施例により、本発明について詳しく説明する。ガスバリア性フィルムの静止摩擦係数測定、算術平均粗さＲａ測定、水蒸気透過度測定、平面性測定、ロール搬送性の評価、及び、搬送後の外観の評価；粘接着剤層の調製、水拡散係数の評価、及び、ガスバリア性フィルムと粘接着剤層との剥離強度測定；ガスバリア性フィルムの湿熱耐久試験を以下の方法で行った。

【0096】

＜ガスバリア性フィルムの静止摩擦係数の測定＞
ＪＩＳ Ｐ ８１４７の傾斜法に準拠してガスバリア性フィルムの静止摩擦係数を測定した。温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下にて、一方のガスバリア性フィルムを一方の面（Ａ面）が上向きになるように傾斜台へ固定し、別のガスバリア性フィルムを上記Ａ面とは反対のＢ面が下向きになるようにおもり用試験片に固定し、測定した。

【0097】

＜ガスバリア性フィルムの算術平均粗さＲａの測定＞
ガスバリア性フィルムを粘着付きエポキシ板に面固定させた後、白色干渉顕微鏡（Ｍｉｃｒｏｍａｐ、菱化システム社製）を用いて以下の条件にてガスバリア性フィルムの表面の算術平均粗さＲａを測定した。
［測定条件］
対物レンズ：１０倍
データ点数：６４０×４８０点

【0098】

＜ガスバリア性フィルムの水蒸気透過度の測定＞
温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件において、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によってガスバリア性フィルムの水蒸気透過度を測定した。

【0099】

＜ガスバリア性フィルムの平面性の評価＞
ガスバリア性フィルム１００を温度２３℃、湿度５０ＲＨ％の条件に４８時間保持する。次に、当該ガスバリア性フィルム１００から５０ｍｍ四方の部分を切り出してサンプルを得る。サンプルの中央部が水平面に接するようにサンプルを水平面上に載置し、水平面から４隅までの距離をそれぞれ得る。そして、得られた４つの距離の平均値を得る。

【0100】

＜ガスバリア性フィルムの搬送性の評価＞
幅３００ｍｍ〜２０００ｍｍ、長さ１００ｍ以上のガスバリア性フィルムのロールを用意し、ロールからフィルムを巻出して別の芯にロール状に巻き取った。この工程で、ブロッキングや巻ズレが発生せず、巻出し及び巻取りに支障がない場合を、「良好」とした。ブロッキングが発生した場合は「ブロッキング」と、巻ズレが発生した場合を「巻ズレ」と評価した。

【0101】

＜搬送後のガスバリア性フィルムの外観の評価＞
上記の搬送テストの後、ガスバリア性フィルムから２１０ｍｍ×２９７ｍｍの矩形領域を切り出し、表面検査ランプ（ＦＹシリーズ、フナテック社製）での全面目視確認、およびマイクロスコープ（品名デジタルマイクロスコープ、ハイロックス社製、対物レンズ３５倍）での全面観察を行った。傷（搬送傷）が無ければ「外観良」とし、一つでも傷（搬送傷）を確認した場合を「外観不良」と判定した。

【0102】

＜粘着剤層の調製＞
アクリル共重合樹脂（日本合成化学工業社製、コーポニールＮ−７１３６）に酸化カルシウムを５０ｗｔ％混合して均一分散させた後、離型ＰＥＴフィルム上に塗布し、乾燥させて厚み２５μｍの粘着剤層を作製した。この粘着剤層をホットステージ上で温度１００℃で１時間乾燥させた。

【0103】

＜粘着剤層の水拡散係数の評価＞
ガラス板上に、２５ｍｍ×２５ｍｍの矩形状にカルシウムを厚さ１００ｎｍで蒸着した後、矩形状のカルシウムよりも大きなサイズの矩形状の粘着剤層を、矩形状のカルシウムの外側に均等幅Ｌではみ出るように貼り付けた後、さらに粘着剤層の上にガラス板を貼り付けて、水拡散係数評価セルを作製した。この水拡散係数評価セルを温度６０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、矩形状のカルシウムのエッジシュリンクが開始した時間をθ（ｈｒ）、粘着剤層の各辺とカルシウムの各辺との間の距離（上記均等幅）をＬ（ｍｍ）とした場合、Ｄ＝Ｌ^２／６θの式から算出して水拡散係数Ｄ（ｍｍ^２／ｈｒ）を求めた。水拡散係数は、０．０３ｍｍ^２／ｈｒであった。

【0104】

＜ガスバリア性フィルムと粘着剤層の間の剥離強度の測定＞
ガスバリア性フィルムと粘着剤層の間の剥離強度測定を、ＪＩＳ Ｋ ６８５４−２に準拠して実施した。
２枚のガスバリア性フィルムを、気泡が入らないようにして粘着剤層で貼りつけて、ガスバリア性フィルム／粘着剤層／ガスバリア性フィルムの３層積層体を得た。この３層積層体を、温度８５℃、湿度８５％ＲＨの環境下で５００ｈｒ静置した。その後、一方のガスバリア性フィルムをＳＵＳ板に接着剤で面固定して引張試験機の下側に固定し、他方のガスバリア性フィルムを１８０度折り曲げて、引張試験機の上側のチャックに固定し、温度２３℃、湿度５０％ＲＨの環境下にて、引張速度２．５ｍ／ｍｉｎで剥離して剥離強度を測定した。

【0105】

＜粘着剤層の湿熱耐久試験＞
温度２３℃のグローブボックス中（水分濃度１０ｐｐｍ以下）で、ガスバリア性フィルムと、ホットステージ上で温度１００℃で１時間乾燥させた粘着剤層とを、気泡が入らないようにしてラミネートしてガスバリア性フィルム／封止粘着フィルムの積層体を作製した。次に、ガラス板上に２５ｍｍ×２５ｍｍの矩形状にカルシウムを厚さ１００ｎｍで蒸着した後、５０ｍｍ×５０ｍｍの矩形状に切り出したガスバリア性フィルム／封止粘着フィルムの積層体の封止粘着フィルムを、カルシウム蒸着部の４辺と積層体の４辺がそれぞれ平行になるように、グローブボックス内で気泡が入らないようにしてガラス板に貼り付けて、湿熱耐久試験セルを作製した。積層体の４辺とカルシウムの４辺の間の距離は、それぞれ１２．５ｍｍとするように貼り付けた。

【0106】

得られた湿熱耐久試験セルを、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れて１０００時間静置させた後、セルを取り出して、カルシウム蒸着面が点欠陥、透過率低下、エッジシュリンク（４辺端部からの透明化）の何れも生じていない場合を「劣化なし」と判定した。

【0107】

（無機薄膜層の製法１）
可撓性基材を真空チャンバー内の送り出しロールに装着し、真空チャンバー内を１×１０^−３Ｐａ以下にした後、可撓性基材に無機薄膜層の成膜を行う。無機薄膜層を形成させるために用いるプラズマＣＶＤ装置においては、一対のロール状電極表面にそれぞれ可撓性基材を密接させながら搬送させ、一対の電極間でプラズマを発生させて、原料をプラズマ中で分解させて可撓性基材上に無機薄膜層を形成させる。前記の一対の電極は、磁束密度が電極および可撓性基材表面で高くなるように電極内部に磁石が配置されており、プラズマ発生時に電極及び可撓性基材上でプラズマが高密度に拘束される。無機薄膜層の成膜にあたっては、成膜ゾーンとなる電極間の空間に向けてヘキサメチルジシロキサンガスを１００ｓｃｃｍ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｃｕｂｉｃ Ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ Ｍｉｎｕｔｅ、０℃、１気圧基準）、酸素ガスを９００ｓｃｃｍ導入し、電極ロール間に０．６ｋＷ、周波数７０ｋＨｚの交流電力を供給し、放電してプラズマを発生させる。次いで、真空チャンバー内の排気口周辺における圧力が１Ｐａになるように排気量を調節した後、プラズマＣＶＤ法により可撓性基材上に緻密な無機薄膜層を形成する。

【0108】

得られた無機薄膜層を酸素原子、珪素原子、炭素原子、及び、水素原子から構成され、赤外分光測定（ＦＴ−ＩＲ）を行ったところ、得られた赤外吸収スペクトルから、９５０〜１０５０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_１）と、１２４０〜１２９０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_２）との吸収強度比（Ｉ_２／Ｉ_１）を求めると、Ｉ_２／Ｉ_１＝０．０３であった。また、９５０〜１０５０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_１）と、７７０〜８３０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_３）との吸収強度比（Ｉ_３／Ｉ_１）を求めると、Ｉ_３／Ｉ_１＝０．３７であった。また、７７０〜８３０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_３）と、８７０〜９１０ｃｍ^−１に存在するピーク強度（Ｉ_４）との吸収強度比（Ｉ_４／Ｉ_３）を求めると、Ｉ_４／Ｉ_３＝０．９１であった。また、ＸＰＳデプスプロファイル測定を行い、得られた珪素原子、酸素原子及び炭素原子の分布曲線から、それぞれの原子の厚み方向における平均原子濃度を求めた後、平均原子数比Ｃ／ＳｉおよびＯ／Ｓｉを算出した結果、平均原子数比Ｃ／Ｓｉ＝０．６５、Ｏ／Ｓｉ＝１．５８であった。

【0109】

（無機薄膜層の製法２）
酸素ガスの供給量を２０００ｓｃｃｍとし、電極ロール間に供給する交流電力を０．８ｋＷとし、真空チャンバー内の排気口周辺における圧力が３Ｐａになるように排気量を調整する以外は製法１と同様にして、可撓性基材上に無機薄膜層を形成する。

【0110】

製法２によって得た無機薄膜層のＸＰＳデプスプロファイル測定を行い、得られた珪素原子、酸素原子及び炭素原子の分布曲線から、それぞれの原子の厚み方向における平均原子濃度を求めた後、平均原子数比Ｃ／ＳｉおよびＯ／Ｓｉを算出した結果、平均原子数比Ｃ／Ｓｉ＝０．２９、Ｏ／Ｓｉ＝１．７４であった。

【0111】

（無機薄膜層の製法３）
酸素ガスの供給量を１４００ｓｃｃｍとし、電極ロール間に供給する交流電力を１．２ｋＷとし、真空チャンバー内の排気口周辺における圧力が５Ｐａになるように排気量を調節する以外は、製法１と同様にして、可撓性基材上に無機薄膜層を形成する。

【0112】

（実施例１）
可撓性基材として算術平均粗さＲａが０．８ｎｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン社製、ＺＦ１６、厚み５０μｍ：ＣＯＰ１と記載する。）のみを使用し、その一方の面（Ａ面）へ製法１により膜厚３００ｎｍの無機薄膜層Ａを形成した。無機薄膜層Ａの算術平均粗さＲａは１．２ｎｍであった。次に、可撓性基材のもう一方の面（Ｂ面）へ製法３により厚み３００ｎｍの無機薄膜層Ｂを形成して、ガスバリア性フィルムを得た。無機薄膜層Ａと無機薄膜層Ｂの応力がバランスするように、成膜圧力および厚みを調整した結果、平面性は０．２ｍｍだった。無機薄膜層Ｂの算術平均粗さＲａは３．８ｎｍであった。表裏面間の静止摩擦係数は１．６であった。

【0113】

（実施例２）
ＣＯＰ１の一方の面（Ａ面）へコロナ処理した後に、当該Ａ面に透明ＵＶ硬化樹脂で平坦化層（東亜合成ＵＶ３７０１、膜厚１．５μｍ、平均面粗さ０．５ｎｍ）を形成して、２層を有する可撓性基材を得た。この可撓性基材の一方の面（平坦化層を有するＡ面）に製法１により膜厚８５０ｎｍの無機薄膜層Ａを形成した。平坦化層側の無機薄膜層Ａの算術平均粗さＲａは０．９ｎｍであった。可撓性基材のもう一方の面（Ｂ面）へ製法３の条件で膜厚８５０ｎｍの無機薄膜層Ｂを形成して、ガスバリア性フィルムを得た。無機薄膜層Ａ＋平坦化層と、無機薄膜層Ｂとの応力がバランスするように、成膜圧力および厚みを調整した結果、平面性は０．３ｍｍだった。ＣＯＰ１側の無機薄膜層Ｂの算術平均粗さＲａは４．５ｎｍであった。表裏面間の静止摩擦係数は１．０であった。

【0114】

（実施例３）
シクロオレフィンポリマー製のλ／４位相差フィルム（日本ゼオン社製、ＺＭ１６−１３８、厚み８６μｍ、算術平均粗さＲａ０．９ｎｍ：ＣＯＰ２と記載する。）の一方の面（Ａ面）へコロナ処理した後に、当該Ａ面にＵＶ硬化樹脂で平坦化層（東亜合成ＵＶ３７０１、膜厚１．５μｍ、平均面粗さ０．５ｎｍ）を形成した可撓性基材を用いる以外は、実施例２と同様とした。平坦化層側の無機薄膜層Ａの算術平均粗さＲａは０．９ｎｍであった。ＣＯＰ２側の無機薄膜層Ｂの算術平均粗さＲａは４．３ｎｍであった。無機薄膜層Ａ＋平坦化層と、無機薄膜層Ｂとの応力がバランスするように、成膜圧力および厚みを調整した結果、平面性は０．４ｍｍだった。

【0115】

（実施例４）
ＣＯＰ１の一方の面（Ａ面）へ製法２により膜厚２２０ｎｍの無機薄膜層Ａを形成した。
無機薄膜層Ａの算術平均粗さＲａは１．０ｎｍであった。次に、可撓性基材のもう一方の面（Ｂ面）へ製法３により厚み３００ｎｍの無機薄膜層Ｂを形成して、ガスバリア性フィルムを得た。無機薄膜層Ａと無機薄膜層Ｂの応力がバランスするように厚みを調整した結果、平面性は０．５ｍｍだった。無機薄膜層Ｂの算術平均粗さＲａは３．８ｎｍであった。表裏面間の静止摩擦係数は０．９であった。

【0116】

（比較例１）
ＣＯＰ１の両面ともに製法１の条件で無機薄膜層Ａ、Ｂを形成する以外は、実施例１と同様とした。無機薄膜層Ａ、Ｂの算術平均粗さＲａは１．２ｎｍであった。

【0117】

（比較例２）
ＰＥＴフィルム（二軸延伸、片面離型処理、厚み７５μｍ）を可撓性基材とし、ＰＥＴフィルムの離型処理した面とは反対面上に、製法１の条件で膜厚５００ｎｍの無機薄膜層Ａを形成した。無機薄膜層Ａの算術平均粗さＲａは１．８ｎｍであった。ＰＥＴフィルムの離型処理した面の算術平均粗さＲａは３．０ｎｍであった。
条件及び結果を表１及び表２に示す。

【表1】

【表2】

【符号の説明】

【0118】

５…粘接着剤層、１０…可撓性基材、２０…無機薄膜層、３０…λ／４位相差フィルム、４０…直線偏光子層、５０…λ／２位相差フィルム、８０…粘接着剤層、１００…ガスバリア性フィルム、２００，３００…光学フィルム、１０００…フレキシブルディスプレイ。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】