特許6974799膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物

発明の名称　膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物

出願人　日産化学工業株式会社　（識別番号 3986）

　　　　特許公開件数ランキング 405 位（79件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 200 位（156件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6974799

公報発行日　2021年12月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6974799

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6974799「膜密度が向上したレジスト下層膜を形成するための組成物」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録