発明の名称 半導体構造上にエピタキシャルスムージング加工を実行するためのシステムおよび方法
出願人 グローバルウェーハズ カンパニー リミテッド (識別番号 518112516)
特許公開件数ランキング 552 位(7件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 910 位(3件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6977100
公報発行日 2021年12月8
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6977100
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