特許6984814IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

本出願は、2016年10月19日付で出願された大韓民国特許出願第10−2016−0135870号に基づいた優先権の利益を主張し、該当大韓民国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。 本出願は、光感応基を含むブロック共重合体に関するものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本出願は、ブロック共重合体およびその用途を提供する。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本出願はブロック共重合体に関するものである。本出願で用語ブロック共重合体は、互いに異なる2個の高分子セグメントが共有結合によって連結されている形態の共重合体である。
【発明の効果】
本出願は、ブロック共重合体およびその用途が提供され得る。本出願のブロック共重合体は優れた自己組織化特性または相分離特性を有すると同時に、一旦形成された自己組織化構造を変更できる特性を有するか、あるいは高分子膜に相分離構造のパターンが形成できるブロック共重合体を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図2】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図3】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図4】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図5】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図6】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図7】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図8】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図9】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図10】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図11】製造例によって製造された化合物または重合体についての分析結果。

【図12】実施例1において紫外線照射前後の重合体(D)についてのGPC曲線。

【図13】実施例2の重合体(D)に対して紫外線照射前の試料のTEMイメージであって、左側上端の小さいイメージは垂直方向に撮ったTEMイメージ。

【図14】実施例2の重合体(D)に対して紫外線照射後の試料のTEMイメージ。

【図15】実施例2の重合体(D)に対して紫外線照射前の試料のSAXSグラフ。

【図16】実施例2の重合体(D)に対して紫外線照射後の試料のSAXSグラフ。

【図17】実施例3において重合体(D)に対して紫外線照射前の薄膜試料の断面のTEMイメージ。

【図18】実施例3において重合体(D)に対して紫外線照射後の薄膜試料の断面のTEMイメージ。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

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