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特許6986201シリコン系ナノ粒子含有水素ポリシルセスキオキサン、ケイ素酸化物構造体及びそれらの製造方法
発明の名称 シリコン系ナノ粒子含有水素ポリシルセスキオキサン、ケイ素酸化物構造体及びそれらの製造方法
出願人 ＪＮＣ株式会社 （識別番号 311002067）
特許公開件数ランキング 1359 位（3件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 1120 位（2件）（共同出願を含む）
出願人 ＪＮＣ石油化学株式会社 （識別番号 596032100）
特許公開件数ランキング 7534 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 6045 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6986201
公報発行日 2021年12月22
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6986201
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