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特許 6986917出願番号 特願 2017-194319
基板液処理装置
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 34位 457件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 25位 495件（※）
公報発行日 2021年12月22
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6986917 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
処理液を用いて基板を液処理する基板液処理装置
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、処理槽から沸騰した処理液の飛沫が飛び出して蓋体の上に乗ること、あるいは蓋体の外方に飛散することを防止または大幅に抑制することができる蓋体構成を備えた基板液処理装置を提供することを目的としている。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の一実施形態によれば、処理液を貯留することができ、上部開口を有する内槽と、前記内槽の外側に設けられ、前記処理液が前記内槽から流入する外槽と、前記内槽の前記上部開口の第１部分を覆う閉鎖位置と、前記上部開口の第１部分を開放する開放位置との間で移動可能な第１蓋体と、前記内槽の前記上部開口の第２部分を覆う閉鎖位置と、前記上部開口の第２部分を開放する開放位置との間で移動可能な第２蓋体と、を備え、・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明の実施形態によれば、第１蓋体及び第２蓋体との間の隙間から処理液が飛び出すことを防止することができるか、あるいは大幅に抑制することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】基板液処理システムの全体構成を示す概略平面図である。
【図2】基板液処理システムに組み込まれたエッチング装置の構成を示す系統図である。
【図3】エッチング装置の処理槽の概略横断方向縦断面図である。
【図4】処理槽の概略長手方向縦断面図である。
【図5】処理槽の概略平面図である。
【図6】閉鎖位置にある蓋体及びその周辺の部材のみを取り出して詳細に示した処理槽の横断方向縦断面図である。
【図7】蓋体の斜視図である。
【図8】図６に示した閉鎖位置から開放位置に移動した蓋体を示した横断方向縦断面図である。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
３４Ａ 内槽
３４Ｂ 外槽
７１ 第１蓋体
７２ 第２蓋体
７１１Ｒ，７２１Ｒ 底壁
７１２Ｒ，７２２Ｒ 側壁
７１Ｒ，７２Ｒ 凹所
７３ 覆い、シール
７３ 板状体
Ｈ 高さ
Ｇ 隙間
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