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特開2022-10750タッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022010750
(43)【公開日】2022-01-17
(54)【発明の名称】タッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G06F 3/044 20060101AFI20220107BHJP
【ＦＩ】
G06F3/044 122
G06F3/044 129
G06F3/044 127
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020111460
(22)【出願日】2020-06-29
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】中山 昌哉
(57)【要約】
【課題】タッチ操作の検出感度の向上、視認性の向上およびモアレ発生の抑制を図ることができるタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置を提供する。
【解決手段】タッチパネル用電極部材は、第１電極層と、第２電極層と、第１電極層および第２電極層の間に配置された透明絶縁部材とを備え、第１電極層の第１電極線（ＥＷ１）は、少なくとも、第１単位セルと、第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、第２電極層の第２電極線（ＥＷ２）は、第１帯状電極（１１）と第２帯状電極（２１）とが交差する交差領域（Ａ１）において、第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、平面視において、第３単位セル（Ｃ３）の繰り返しパターンである第３メッシュパターン（ＭＰ３）が形成されている。
【選択図】図５
【解決手段】タッチパネル用電極部材は、第１電極層と、第２電極層と、第１電極層および第２電極層の間に配置された透明絶縁部材とを備え、第１電極層の第１電極線（ＥＷ１）は、少なくとも、第１単位セルと、第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、第２電極層の第２電極線（ＥＷ２）は、第１帯状電極（１１）と第２帯状電極（２１）とが交差する交差領域（Ａ１）において、第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、平面視において、第３単位セル（Ｃ３）の繰り返しパターンである第３メッシュパターン（ＭＰ３）が形成されている。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１電極層と、
第２電極層と、
前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された透明絶縁部材と
を備え、
前記第１電極層は、それぞれ第１の方向に延び、前記第１の方向に直交する第２の方向に間隔を隔てて配列された複数の第１帯状電極を有し、
前記第２電極層は、それぞれ前記第２の方向に延び、前記第１の方向に間隔を隔てて配列されることにより前記複数の第１帯状電極に交差する複数の第２帯状電極を有し、
前記第１帯状電極は、第１パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第１パッドに接続された複数の第１電極線と、前記第１電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第１電極線で囲まれた領域内に配置された第１非接続線とを有し、
前記第２帯状電極は、第２パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第２パッドに接続された複数の第２電極線と、前記第２電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第２電極線で囲まれた領域内に配置された第２非接続線とを有し、
前記第１非接続線は、前記第２電極線の金属細線または前記第２非接続線の金属細線と交差する位置に配置された断線部を有し、
前記第１電極線と前記第１非接続線とにより、第１単位セルの繰り返しパターンである第１メッシュパターンが形成され、
前記第１電極線は、少なくとも、前記第１単位セルと、前記第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、
前記第２電極線と前記第２非接続線とにより、第２単位セルの繰り返しパターンである第２メッシュパターンが形成され、
前記第２電極線は、前記第１帯状電極と前記第２帯状電極とが交差する交差領域において、前記第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、前記第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、
平面視において、前記第１メッシュパターンと前記第２メッシュパターンが組み合わされて第３単位セルの繰り返しパターンである第３メッシュパターンが形成されている、タッチパネル用電極部材。
第２電極層と、
前記第１電極層および前記第２電極層の間に配置された透明絶縁部材と
を備え、
前記第１電極層は、それぞれ第１の方向に延び、前記第１の方向に直交する第２の方向に間隔を隔てて配列された複数の第１帯状電極を有し、
前記第２電極層は、それぞれ前記第２の方向に延び、前記第１の方向に間隔を隔てて配列されることにより前記複数の第１帯状電極に交差する複数の第２帯状電極を有し、
前記第１帯状電極は、第１パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第１パッドに接続された複数の第１電極線と、前記第１電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第１電極線で囲まれた領域内に配置された第１非接続線とを有し、
前記第２帯状電極は、第２パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第２パッドに接続された複数の第２電極線と、前記第２電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ前記第２電極線で囲まれた領域内に配置された第２非接続線とを有し、
前記第１非接続線は、前記第２電極線の金属細線または前記第２非接続線の金属細線と交差する位置に配置された断線部を有し、
前記第１電極線と前記第１非接続線とにより、第１単位セルの繰り返しパターンである第１メッシュパターンが形成され、
前記第１電極線は、少なくとも、前記第１単位セルと、前記第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、
前記第２電極線と前記第２非接続線とにより、第２単位セルの繰り返しパターンである第２メッシュパターンが形成され、
前記第２電極線は、前記第１帯状電極と前記第２帯状電極とが交差する交差領域において、前記第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、前記第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、
平面視において、前記第１メッシュパターンと前記第２メッシュパターンが組み合わされて第３単位セルの繰り返しパターンである第３メッシュパターンが形成されている、タッチパネル用電極部材。
【請求項2】
前記第１帯状電極の前記第２の方向における第１電極幅Ｗ１と前記第２帯状電極の前記第１の方向における第２電極幅Ｗ２は、０．４＜Ｗ１／Ｗ２＜０．６を満たす、請求項１に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項3】
前記第１単位セル、前記第２単位セルおよび前記第３単位セルは、それぞれ菱形の形状を有し、
前記第１単位セルおよび前記第２単位セルは、互いに同じ大きさを有し、
前記第３単位セルは、前記第１単位セルに対して、辺の長さを１／２にした大きさを有する、請求項１または２に記載のタッチパネル用電極部材。
前記第１単位セルおよび前記第２単位セルは、互いに同じ大きさを有し、
前記第３単位セルは、前記第１単位セルに対して、辺の長さを１／２にした大きさを有する、請求項１または２に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項4】
前記第１電極層は、前記第１帯状電極から絶縁された金属細線により形成され且つ隣接する前記第１帯状電極間に配置された第１ダミー電極線を有し、
前記第２電極層は、前記第２帯状電極から絶縁された金属細線により形成され且つ隣接する前記第２帯状電極間に配置された第２ダミー電極線を有し、
前記第１電極線、前記第１非接続線および前記第１ダミー電極線により、前記第１メッシュパターンが形成され、
前記第２電極線、前記第２非接続線および前記第２ダミー電極線により、前記第２メッシュパターンが形成される、請求項１～３のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
前記第２電極層は、前記第２帯状電極から絶縁された金属細線により形成され且つ隣接する前記第２帯状電極間に配置された第２ダミー電極線を有し、
前記第１電極線、前記第１非接続線および前記第１ダミー電極線により、前記第１メッシュパターンが形成され、
前記第２電極線、前記第２非接続線および前記第２ダミー電極線により、前記第２メッシュパターンが形成される、請求項１～３のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項5】
前記第２電極線は、前記交差領域において、前記２倍ピッチ第２単位セルのみを有する、請求項１～４のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項6】
前記第２電極線は、前記交差領域において、前記３倍ピッチ第２単位セルのみを有する、請求項１～４のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項7】
前記透明絶縁部材は、樹脂基板からなる、請求項１～６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項8】
前記透明絶縁部材は、絶縁層からなり、
樹脂基板をさらに備え、
前記第１電極層、前記第２電極層および前記透明絶縁部材は、前記樹脂基板の一方の表面上に配置されている、請求項１～６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
樹脂基板をさらに備え、
前記第１電極層、前記第２電極層および前記透明絶縁部材は、前記樹脂基板の一方の表面上に配置されている、請求項１～６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項9】
前記透明絶縁部材は、絶縁層からなり、
ガラス基板をさらに備え、
前記第１電極層、前記第２電極層および前記透明絶縁部材は、前記ガラス基板の一方の表面上に配置されている、請求項１～６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
ガラス基板をさらに備え、
前記第１電極層、前記第２電極層および前記透明絶縁部材は、前記ガラス基板の一方の表面上に配置されている、請求項１～６のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材。
【請求項10】
請求項１～９のいずれか一項に記載のタッチパネル用電極部材を含むタッチパネル。
【請求項11】
請求項１０に記載のタッチパネルを含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、タッチセンサまたはタッチパネルの電極として利用されるタッチパネル用電極部材に関する。
また、この発明は、タッチパネル用電極部材を含むタッチパネルにも関している。
また、この発明は、タッチパネルを含む画像表示装置にも関している。
また、この発明は、タッチパネル用電極部材を含むタッチパネルにも関している。
また、この発明は、タッチパネルを含む画像表示装置にも関している。
【背景技術】
【0002】
近年、タブレット型コンピュータおよびスマートフォン等の携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、指、スタイラスペン等を画面に接触または近接させることにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルの普及が進んでいる。
【0003】
タッチパネルには、透明基板上に、指、スタイラスペン等の接触または近接によるタッチ操作を検出するための検出部が形成された導電性部材が用いられる。
検出部は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電性酸化物で形成されるが、透明導電性酸化物以外に金属等の不透明な導電材料でも形成される。金属等の不透明な導電材料は上述の透明導電性酸化物に比べて、パターニングがしやすく、屈曲性に優れ、抵抗がより低い等の利点があるため、タッチパネル等において銅または銀等の導電材料が導電性細線に用いられている。
検出部は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電性酸化物で形成されるが、透明導電性酸化物以外に金属等の不透明な導電材料でも形成される。金属等の不透明な導電材料は上述の透明導電性酸化物に比べて、パターニングがしやすく、屈曲性に優れ、抵抗がより低い等の利点があるため、タッチパネル等において銅または銀等の導電材料が導電性細線に用いられている。
【0004】
特許文献１には、不透明な導電材料を用いたタッチパネルが記載されている。特許文献１のタッチパネルは、透明基板と、その透明基板上に形成され、第１方向に間隔をおいて配列された不透明な導電材料からなる複数の第１配線を含む第１束配線、および、第１方向と交差する第２方向に間隔をおいて配列された不透明な導電材料からなる複数の第２配線を含む第２束配線と、第１束配線および第２束配線と電気的に絶縁された不透明な導電材料からなる第３配線とを備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１４－１２００３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
このように、特許文献１に記載されているタッチパネルでは、第１束配線と第２束配線とが重なり合うことにより、複数のメッシュセルから形成されるメッシュパターンが形成される。このようなタッチパネルにおいて、メッシュピッチを小さな値に設定すると、電極の寄生容量が増大して、その結果、タッチ位置の検出感度が低下してしまう。
そこで、検出感度を向上させるために金属細線のメッシュピッチを大きくすると、隣接する金属細線の間隔が広がって、金属細線が目立ちやすくなり、視認性が低下するという問題が発生する。また、タッチパネルが、画像を表示するための液晶ディスプレイ等の上に配置され、画像表示装置として使用される場合に、金属細線のメッシュピッチを拡大すると、液晶ディスプレイ等の周期的な画素パターンとタッチパネルの金属細線からなるメッシュパターンとが干渉して発生するモアレが目立って視認されるという問題が生じる。
そこで、検出感度を向上させるために金属細線のメッシュピッチを大きくすると、隣接する金属細線の間隔が広がって、金属細線が目立ちやすくなり、視認性が低下するという問題が発生する。また、タッチパネルが、画像を表示するための液晶ディスプレイ等の上に配置され、画像表示装置として使用される場合に、金属細線のメッシュピッチを拡大すると、液晶ディスプレイ等の周期的な画素パターンとタッチパネルの金属細線からなるメッシュパターンとが干渉して発生するモアレが目立って視認されるという問題が生じる。
【0007】
この発明は、このような従来の問題点を解消するためになされたもので、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、画像表示装置に使用した際のモアレの発生を抑制することができるタッチパネル用電極部材を提供することを目的とする。
また、この発明は、このようなタッチパネル用電極部材を含むタッチパネルを提供することも目的とする。
また、この発明は、このようなタッチパネルを含む画像表示装置を提供することも目的とする。
また、この発明は、このようなタッチパネル用電極部材を含むタッチパネルを提供することも目的とする。
また、この発明は、このようなタッチパネルを含む画像表示装置を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
この発明に係るタッチパネル用電極部材は、第１電極層と、第２電極層と、第１電極層および第２電極層の間に配置された透明絶縁部材とを備え、第１電極層は、それぞれ第１の方向に延び、前記第１の方向に直交する第２の方向に間隔を隔てて配列された複数の第１帯状電極を有し、第２電極層は、それぞれ第２の方向に延び、第１の方向に間隔を隔てて配列されることにより複数の第１帯状電極に交差する複数の第２帯状電極を有し、第１帯状電極は、第１パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ第１パッドに接続された複数の第１電極線と、第１電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ第１電極線で囲まれた領域内に配置された第１非接続線とを有し、第２帯状電極は、第２パッドと、線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ第２パッドに接続された複数の第２電極線と、第２電極線から絶縁された線幅１μｍ以上１０μｍ以下の金属細線により形成され且つ第２電極線で囲まれた領域内に配置された第２非接続線とを有し、第１非接続線は、第２電極線の金属細線または第２非接続線の金属細線と交差する位置に配置された断線部を有し、第１電極線と第１非接続線とにより、第１単位セルの繰り返しパターンである第１メッシュパターンが形成され、第１電極線は、少なくとも、第１単位セルと、第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、第２電極線と第２非接続線とにより、第２単位セルの繰り返しパターンである第２メッシュパターンが形成され、第２電極線は、第１帯状電極と第２帯状電極とが交差する交差領域において、第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、平面視において、第１メッシュパターンと第２メッシュパターンが組み合わされて第３単位セルの繰り返しパターンである第３メッシュパターンが形成されていることを特徴とする。
【0009】
第１帯状電極の第２の方向における第１電極幅Ｗ１と第２帯状電極の第１の方向における第２電極幅Ｗ２は、０．４＜Ｗ１／Ｗ２＜０．６を満たすことが好ましい。
第１単位セル、第２単位セルおよび第３単位セルは、それぞれ菱形の形状を有し、第１単位セルおよび第２単位セルは、互いに同じ大きさを有し、第３単位セルは、第１単位セルに対して、辺の長さを１／２にした大きさを有することが好ましい。
第１単位セル、第２単位セルおよび第３単位セルは、それぞれ菱形の形状を有し、第１単位セルおよび第２単位セルは、互いに同じ大きさを有し、第３単位セルは、第１単位セルに対して、辺の長さを１／２にした大きさを有することが好ましい。
【0010】
第１電極層は、第１帯状電極から絶縁された金属細線により形成され且つ隣接する第１帯状電極間に配置された第１ダミー電極線を有し、第２電極層は、第２帯状電極から絶縁された金属細線により形成され且つ隣接する第２帯状電極間に配置された第２ダミー電極線を有し、第１電極線、第１非接続線および第１ダミー電極線により、第１メッシュパターンが形成され、第２電極線、第２非接続線および第２ダミー電極線により、第２メッシュパターンが形成されることが好ましい。
【0011】
第２電極線は、交差領域において、２倍ピッチ第２単位セルのみを有することができる。
また、第２電極線は、交差領域において、３倍ピッチ第２単位セルのみを有することもできる。
また、第２電極線は、交差領域において、３倍ピッチ第２単位セルのみを有することもできる。
【0012】
透明絶縁部材は、樹脂基板からなることができる。
また、透明絶縁部材は、絶縁層からなることもでき、この場合に、タッチパネル用電極部材は、樹脂基板をさらに備え、第１電極層、第２電極層および透明絶縁部材は、樹脂基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
また、透明絶縁部材は、絶縁層からなることもでき、この場合に、タッチパネル用電極部材は、ガラス基板をさらに備え、第１電極層、第２電極層および透明絶縁部材は、ガラス基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
また、透明絶縁部材は、絶縁層からなることもでき、この場合に、タッチパネル用電極部材は、樹脂基板をさらに備え、第１電極層、第２電極層および透明絶縁部材は、樹脂基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
また、透明絶縁部材は、絶縁層からなることもでき、この場合に、タッチパネル用電極部材は、ガラス基板をさらに備え、第１電極層、第２電極層および透明絶縁部材は、ガラス基板の一方の表面上に配置されていることが好ましい。
【0013】
本発明に係るタッチパネルは、上記のタッチパネル用電極部材を含むことを特徴とする。
本発明に係る画像表示装置は、上記のタッチパネルを含むことを特徴とする。
本発明に係る画像表示装置は、上記のタッチパネルを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
この発明によれば、第１電極層の第１電極線と第１非接続線とにより、第１単位セルの繰り返しパターンである第１メッシュパターンが形成され、第１電極線は、少なくとも、第１単位セルと、第１単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第１単位セルとを有し、第２電極層の第２電極線と第２非接続線とにより、第２単位セルの繰り返しパターンである第２メッシュパターンが形成され、第２電極線は、第１帯状電極と第２帯状電極とが交差する交差領域において、第２単位セルの辺を２倍にした２倍ピッチ第２単位セル、または、第２単位セルの辺を３倍にした３倍ピッチ第２単位セルを有し、平面視において、第１メッシュパターンと第２メッシュパターンが組み合わされて第３単位セルの繰り返しパターンである第３メッシュパターンが形成されているため、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、画像表示装置に使用した際のモアレの発生を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】この発明の実施の形態１におけるタッチパネルの部分断面図である。
【図2】実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材の平面図である。
【図3】実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材の第１電極層のみを視認側から見た部分平面図である。
【図4】実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材の第２電極層のみを視認側から見た部分平面図である。
【図5】実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材の第１電極層と第２電極層を視認側から見た部分平面図である。
【図6】実施の形態１における画像表示装置の部分断面図である。
【図7】実施の形態２に係るタッチパネル用電極部材の第２電極層のみを視認側から見た部分平面図である。
【図8】実施の形態２に係るタッチパネル用電極部材の第１電極層と第２電極層を視認側から見た部分平面図である。
【図9】実施の形態３におけるタッチパネルの部分断面図である。
【図10】実施の形態４に係るタッチパネル用電極部材の部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下に、添付の図面に示す好適な実施の形態に基づいて、この発明に係るタッチパネル用電極部材、タッチパネルおよび画像表示装置を詳細に説明する。
なお、以下において、数値範囲を示す表記「～」は、両側に記載された数値を含むものとする。例えば、「ｓが数値ｔ１～数値ｔ２である」とは、ｓの範囲は数値ｔ１と数値ｔ２を含む範囲であり、数学記号で示せばｔ１≦ｓ≦ｔ２である。
「直交」および「平行」等を含め角度は、特に記載がなければ、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。
「透明」とは、光透過率が、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの可視光波長域において、少なくとも４０％以上のことであり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上、さらにより好ましくは９０％以上のことである。光透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
なお、以下において、数値範囲を示す表記「～」は、両側に記載された数値を含むものとする。例えば、「ｓが数値ｔ１～数値ｔ２である」とは、ｓの範囲は数値ｔ１と数値ｔ２を含む範囲であり、数学記号で示せばｔ１≦ｓ≦ｔ２である。
「直交」および「平行」等を含め角度は、特に記載がなければ、技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含むものとする。
「透明」とは、光透過率が、波長４００ｎｍ～８００ｎｍの可視光波長域において、少なくとも４０％以上のことであり、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上、さらにより好ましくは９０％以上のことである。光透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
【0017】
実施の形態１
図１に、この発明の実施の形態１におけるタッチパネル１の構成を示す。
タッチパネル１は、表面１Ａと裏面１Ｂを有しており、裏面１Ｂ側に液晶ディスプレイ等を有する図示しない表示モジュールが配置された状態で使用される。タッチパネル１の表面１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル１の操作者が、タッチパネル１を通して表示モジュールに表示された画像を観察する視認側となる。
タッチパネル１は、表面１Ａ側に配置された透明な絶縁性のカバーパネル２を有し、表面１Ａとは反対側のカバーパネル２の面上にタッチパネル用電極部材３が透明な接着剤４により接合されている。
図１に、この発明の実施の形態１におけるタッチパネル１の構成を示す。
タッチパネル１は、表面１Ａと裏面１Ｂを有しており、裏面１Ｂ側に液晶ディスプレイ等を有する図示しない表示モジュールが配置された状態で使用される。タッチパネル１の表面１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル１の操作者が、タッチパネル１を通して表示モジュールに表示された画像を観察する視認側となる。
タッチパネル１は、表面１Ａ側に配置された透明な絶縁性のカバーパネル２を有し、表面１Ａとは反対側のカバーパネル２の面上にタッチパネル用電極部材３が透明な接着剤４により接合されている。
【0018】
タッチパネル用電極部材３は、透明絶縁基板５と、透明絶縁基板５上に形成され且つパターニングされた第２電極層６Ｂと、第２電極層６Ｂ上に形成された透明絶縁部材７Ｂと、透明絶縁部材７Ｂを介して第２電極層６Ｂと重なるように配置され且つパターニングされた第１電極層６Ａを有している。透明絶縁基板５としては、樹脂基板またはガラス基板等が用いられる。透明絶縁部材７Ｂは、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂとを互いに電気的に絶縁させる絶縁層として機能している。また、図１に示すように、平坦化またはパターニングされた第１電極層６Ａを保護する目的で、第１電極層６Ａを覆うように透明絶縁部材７Ａが配置されていてもよい。
【0019】
図２に、タッチパネル用電極部材３の平面図を示す。タッチパネル用電極部材３には、指およびスタイラスペン等によるタッチ操作を検出するための透過領域Ｓ１と、タッチパネル用電極部材３に、図示しないタッチパネル駆動回路に接続される周辺配線等を配置するための、透過領域Ｓ１の外側の領域である周辺領域Ｓ２が区画されている。なお、図２では、タッチパネル用電極部材３の構成を明確に示すため、透明絶縁部材７Ｂを省略している。
【0020】
第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂには、タッチ操作を検出するための電極およびそれに接続される周辺配線等がパターニングされている。第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂのうち、カバーパネル２側に位置する、すなわち、視認側に位置する第１電極層６Ａは、それぞれ第１の方向Ｄ１に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に直交する第２の方向Ｄ２に間隔を隔てて配列された複数の第１帯状電極１１を有している。これらの複数の第１帯状電極１１は、それぞれ、第１の方向Ｄ１の端部に第１パッド１２を有している。
また、第１電極層６Ａは、複数の第１帯状電極１１の間に配置され且つ複数の第１帯状電極１１と電気的に絶縁された複数の第１ダミー電極１５を有している。
また、第１電極層６Ａは、複数の第１帯状電極１１の間に配置され且つ複数の第１帯状電極１１と電気的に絶縁された複数の第１ダミー電極１５を有している。
【0021】
また、第１電極層６Ａは、複数の第１帯状電極１１の複数の第１パッド１２から引き出された複数の第１周辺配線１３と、複数の第１周辺配線１３のそれぞれに接続される複数の第１外部接続端子１４を有している。
【0022】
図示しない表示モジュール側に位置する第２電極層６Ｂは、それぞれ第２の方向Ｄ２に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に間隔を隔てて配列された複数の第２帯状電極２１を有している。これらの複数の第２帯状電極２１は、それぞれ、第２の方向Ｄ２の端部に第２パッド２２を有している。
また、第２帯状電極２１は、複数の第２帯状電極２１の間に配置され且つ複数の第２帯状電極２１と電気的に絶縁された複数の第２ダミー電極２５を有している。
また、第２帯状電極２１は、複数の第２帯状電極２１の間に配置され且つ複数の第２帯状電極２１と電気的に絶縁された複数の第２ダミー電極２５を有している。
【0023】
また、第２電極層６Ｂは、複数の第２帯状電極２１の複数の第２パッド２２から引き出された複数の第２周辺配線２３と、複数の第２周辺配線２３のそれぞれに接続される複数の第２外部接続端子２４を有している。
【0024】
ここで、第１電極層６Ａの複数の第１帯状電極１１と複数の第１ダミー電極１５、および、第２電極層６Ｂの複数の第２帯状電極２１と複数の第２ダミー電極２５は、タッチパネル用電極部材３に区画された透過領域Ｓ１に配置されている。
また、第１電極層６Ａの複数の第１パッド１２、複数の第１周辺配線１３、複数の第１外部接続端子１４、第２電極層６Ｂの複数の第２パッド２２、複数の第２周辺配線２３、複数の第２外部接続端子２４は、タッチパネル用電極部材３に区画された周辺領域Ｓ２に配置されている。
また、第１電極層６Ａの複数の第１パッド１２、複数の第１周辺配線１３、複数の第１外部接続端子１４、第２電極層６Ｂの複数の第２パッド２２、複数の第２周辺配線２３、複数の第２外部接続端子２４は、タッチパネル用電極部材３に区画された周辺領域Ｓ２に配置されている。
【0025】
図３に、第１帯状電極１１と第２帯状電極２１とが互いに重なる部分を含む領域Ｒにおける、第１帯状電極１１と第１ダミー電極１５の部分拡大平面図を示す。
第１帯状電極１１は、図３において実線で描かれた電極であり、第２の方向Ｄ２において第１電極幅Ｗ１を有する。また、第１帯状電極１１は、金属細線ＭＷ１により形成され、対応する第１パッド１２に接続された複数の第１電極線ＥＷ１と、金属細線ＭＷ１により形成され、複数の第１電極線ＥＷ１により囲まれた領域内に配置された複数の第１非接続線ＮＷ１とを有している。複数の第１非接続線ＮＷ１は、複数の第１電極線ＥＷ１に対して、ギャップＧ２を隔てて配置されることにより電気的に絶縁されている。複数の第１非接続線ＮＷ１は、それぞれの第１非接続線ＮＷ１内に形成された断線部Ｇ１を有している。
第１帯状電極１１は、図３において実線で描かれた電極であり、第２の方向Ｄ２において第１電極幅Ｗ１を有する。また、第１帯状電極１１は、金属細線ＭＷ１により形成され、対応する第１パッド１２に接続された複数の第１電極線ＥＷ１と、金属細線ＭＷ１により形成され、複数の第１電極線ＥＷ１により囲まれた領域内に配置された複数の第１非接続線ＮＷ１とを有している。複数の第１非接続線ＮＷ１は、複数の第１電極線ＥＷ１に対して、ギャップＧ２を隔てて配置されることにより電気的に絶縁されている。複数の第１非接続線ＮＷ１は、それぞれの第１非接続線ＮＷ１内に形成された断線部Ｇ１を有している。
【0026】
ここで、複数の第１電極線ＥＷ１と複数の第１非接続線ＮＷ１を形成する金属細線ＭＷ１の線幅は、観察者に視認されにくくするように、すなわち、視認性を確保するために、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下、特に、２．０μｍ～５．０μｍの範囲内に設定されることが好ましい。また、ギャップＧ２の長さおよび断線部Ｇ１の長さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、５．０μｍ～２０．０μｍであることがさらに好ましい。
【0027】
また、図３に示すように、複数の第１電極線ＥＷ１と複数の第１非接続線ＮＷ１とは、ギャップＧ２および断線部Ｇ１が形成された部分を含めて、菱形の第１単位セルＣ１が規則的に配列された第１メッシュパターンＭＰ１を形成している。ここで、複数の第１電極線ＥＷ１は、第１単位セルＣ１と、第１単位セルＣ１の辺の長さを２倍にした第２ピッチ第１単位セルＣ１２からなるメッシュパターンを形成している。また、複数の第１非接続線ＮＷ１は、１つの２倍ピッチ第１単位セルＣ１２内に４つの第１単位セルＣ１を形成するように配置されており、第１単位セルＣ１の１辺を構成する第１非接続線ＮＷの中点付近の位置に、断線部Ｇ１が形成されている。
【0028】
第１ダミー電極１５は、複数の第１帯状電極１１間の隙間がタッチパネル用電極部材３の観察者により視認されにくくするための電極である。第１ダミー電極１５は、図３において分かりやすくするために点線で描かれているが、実際は、第１電極線ＥＷ１と第１非接続線ＮＷ１と同様に連続した金属細線で構成されている。第１ダミー電極１５は、第１帯状電極１１と同様に金属細線ＭＷ１により形成され、第１帯状電極１１に対してギャップＧ３を隔てて配置されており、第１パッド１２および第１帯状電極１１の複数の第１電極線ＥＷ１に対して電気的に絶縁された複数の第１ダミー電極線ＤＷ１を有している。
複数の第１ダミー電極線ＤＷ１は、ギャップＧ３が形成されている部分を含めて、第１電極線ＥＷ１と第１非接続線ＮＷ１と合わせて、透過領域Ｓ１の全体に、菱形の第１単位セルＣ１からなる第１メッシュパターンＭＰ１を形成している。なお、第１ダミー電極線ＤＷ１は、絶縁性を高めるために、断線部を有していてもよい。また、ギャップＧ３および第１ダミー電極線ＤＷ１に設ける断線部の長さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、５．０μｍ～２０．０μｍであることがさらに好ましい。
複数の第１ダミー電極線ＤＷ１は、ギャップＧ３が形成されている部分を含めて、第１電極線ＥＷ１と第１非接続線ＮＷ１と合わせて、透過領域Ｓ１の全体に、菱形の第１単位セルＣ１からなる第１メッシュパターンＭＰ１を形成している。なお、第１ダミー電極線ＤＷ１は、絶縁性を高めるために、断線部を有していてもよい。また、ギャップＧ３および第１ダミー電極線ＤＷ１に設ける断線部の長さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、５．０μｍ～２０．０μｍであることがさらに好ましい。
【0029】
図４に、領域Ｒにおける第２帯状電極２１と第２ダミー電極２５の部分拡大平面図を示す。
第２帯状電極２１は、図４において実線で描かれた電極であり、第１の方向Ｄ１において第１電極幅Ｗ１よりも広い第２電極幅Ｗ２を有する。
第２帯状電極２１は、図４において実線で描かれた電極であり、第１の方向Ｄ１において第１電極幅Ｗ１よりも広い第２電極幅Ｗ２を有する。
【0030】
また、第２帯状電極２１は、金属細線ＭＷ２により形成され、対応する第２パッド２２に接続された複数の第２電極線ＥＷ２と、金属細線ＭＷ２により形成され、複数の第２電極線ＥＷ２により囲まれた領域内に配置された複数の第２非接続線ＮＷ２とを有している。複数の第２非接続線ＮＷ２は、複数の第２電極線ＥＷ２に対してギャップＧ４を隔てて配置されることにより、電気的に絶縁されている。
【0031】
ここで、複数の第２電極線ＥＷ２および複数の第２非接続線ＮＷ２を形成する金属細線ＭＷ２の線幅は、視認性を確保するために、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下、特に、２．０μｍ～５．０μｍの範囲内に設定されることが好ましい。また、ギャップＧ４の長さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、５．０μｍ～２０．０μｍであることがさらに好ましい。
【0032】
また、図４に示すように、複数の第２電極線ＥＷ２と複数の第２非接続線ＮＷ２とは、ギャップＧ４が形成されている部分を含めて、菱形の第２単位セルＣ２が規則的に配列された第２メッシュパターンＭＰ２を形成している。ここで、複数の第２電極線ＥＷ２は、第２単位セルＣ２の辺の長さを２倍にした２倍ピッチ第２単位セルＣ２２からなるメッシュパターンを有している。複数の第２電極線ＥＷ２は、第１帯状電極１１が重なる交差領域Ａ１においては、第２単位セルＣ２の辺の長さを２倍にした２倍ピッチ第２単位セルＣ２２からなるメッシュパターンのみを有している。また、複数の第２非接続線ＮＷ２は、１つの２倍ピッチ第２単位セルＣ２２内に４つの第２単位セルＣ２を形成するように配置されている。
【0033】
第２ダミー電極２５は、複数の第２帯状電極２１間の隙間がタッチパネル用電極部材３の観察者により視認されにくくするための電極である。第２ダミー電極２５は、図４において分かりやすくするために点線で描かれているが、実際は、第２電極線ＥＷ２と第２非接続線ＮＷ２と同様に連続した金属細線で構成されている。第２ダミー電極２５は、第２帯状電極２１と同様に金属細線ＭＷ２により形成され、第２帯状電極２１に対してギャップＧ５を隔てて配置されており、第２パッド２２および第２帯状電極２１の複数の第２電極線ＥＷ２に対して電気的に絶縁された複数の第２ダミー電極線ＤＷ２を有している。
【0034】
複数の第２ダミー電極線ＤＷ２は、ギャップＧ５が形成されている部分を含めて、第２電極線ＥＷ２と第２非接続線ＮＷ２と合わせて、透過領域Ｓ１の全体に、菱形の第２単位セルＣ２からなる第２メッシュパターンＭＰ２を形成している。なお、第２非接続線ＮＷ２と第２ダミー電極線ＤＷ２は、絶縁性を高めるために、断線部を有していてもよい。また、ギャップＧ５および第２ダミー電極線ＤＷ２に設ける断線部の長さは、０．５μｍ～５０．０μｍであることが好ましく、１．０μｍ～３０．０μｍであることがより好ましく、５．０μｍ～２０．０μｍであることがさらに好ましい。
【0035】
図５に、領域Ｒにおけるタッチパネル用電極部材３の部分拡大平面図を示す。図５では、分かりやすくするために、第１帯状電極１１は比較的細い実線で描かれており、第２帯状電極２１は比較的太い実線で描かれている。また、分かりやすくするために、第１ダミー電極１５は比較的細い点線で描かれており、第２ダミー電極２５は比較的太い点線で描かれている。しかし、実際には、金属細線ＭＷ１の線幅と金属細線ＭＷ２の線幅は互いに同じでもよい。
【0036】
タッチパネル用電極部材３において、複数の第１帯状電極１１および複数の第１ダミー電極１５と、複数の第２帯状電極２１および複数の第２ダミー電極２５とが互いに組み合わされて、すなわち、第１メッシュパターンＭＰ１と第２メッシュパターンＭＰ２とが互いに組み合わされて、菱形の複数の第３単位セルＣ３が規則的に配列されて構成される繰り返しパターンである、第３メッシュパターンＭＰ３が形成されている。
【0037】
実施の形態１の一例として、図５では、第１単位セルＣ１と第２単位セルＣ２は、互いに同一の大きさを有する菱形である。第１単位セルＣ１と第２単位セルＣ２は、第３単位セルＣ３が第１単位セルＣ１と第２単位セルＣ２に対して、辺の長さを１／２にした大きさを有するように、第１メッシュパターンＭＰ１と第２メッシュパターンＭＰ２とが互いにずれて配置されている。つまり、第１単位セルＣ１と第２単位セルＣ２は、第１単位セルＣ１の中心と第２単位セルＣ２の頂点が互いに一致するように配置されている。
【0038】
また、複数の第１帯状電極１１における複数の第１非接続線ＮＷ１に形成された断線部Ｇ１は、複数の第２帯状電極２１における第２電極線ＥＷ２と交差する位置および第２非接続線ＮＷ２と交差する位置に配置されている。ここで、平面視において金属細線ＭＷ１、ＭＷ２が互いに重なる箇所は、観察者に目立って視認されることがある。複数の第１非接続線ＮＷ１に形成された断線部Ｇ１により、金属細線ＭＷ１、ＭＷ２が互いに重なる箇所、すなわち、金属細線ＭＷ１、ＭＷ２が目立って視認される箇所を減らし、タッチパネル用電極部材３の視認性を向上させることができ、さらに、寄生容量を低減することができる。
【0039】
ここで、実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材３を備えたタッチパネル１が、例えば図６に示すように、画像を表示するための表示モジュール８上に配置されることにより、画像表示装置９が構成される。図６において、表示モジュール８は、透明な接着剤４Ａによりタッチパネル１の裏面１Ｂに接着されている。また、表示モジュール８は、詳細には図示しないが、液晶ディスプレイ等の表示画面と、表示画面における画像の表示等を制御するためのコントローラ等を含んでいる。画像表示装置９の操作者は、表示モジュール８に表示される画像を、タッチパネル１を通して視認し、視認された画像に基づいてタッチパネル１を介してタッチ操作を行う。
【0040】
一般的に、このような画像表示装置では、表示モジュールの画素パターンとタッチパネルのセンサを構成する金属細線により形成されるメッシュパターンとの干渉により、モアレが発生することがある。
【0041】
実施の形態１のタッチパネル用電極部材３では、図５に示すように、第１電極層６Ａにおける第１メッシュパターンＭＰ１および第２電極層６Ｂにおける第２メッシュパターンＭＰ２とが互いにずれて配置されることにより、第１メッシュパターンＭＰ１の第１単位セルＣ１および第２メッシュパターンＭＰ２の第２単位セルＣ２よりも小さい第３単位セルＣ３が規則的に配列された第３メッシュパターンＭＰ３が形成される。そのため、第１帯状電極１１および第１ダミー電極１５を構成する金属細線ＭＷ１、第２帯状電極２１および第２ダミー電極２５を構成する金属細線ＭＷ２をタッチパネル用電極部材３の観察者に視認されにくくするだけではなく、表示モジュール８の画素パターンと金属細線ＭＷ１、ＭＷ２との干渉によるモアレの発生を低減することが可能である。
【0042】
また、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３では、複数の第１帯状電極１１の第１電極幅Ｗ１よりも複数の第２帯状電極２１の第２電極幅Ｗ２の方が広くなっている。そのため、画像表示装置９においては、表示モジュール８の動作より発生する電磁波が、表示モジュール８側に配置された複数の第２帯状電極２１により遮蔽されやすくなり、タッチ操作がなされる際に、その検出信号におけるノイズを低減して、タッチ操作の検出感度を向上できる。また、第１帯状電極１１の第１電極幅Ｗ１を小さくすると、電極の電気抵抗が高くなり、タッチ操作の検出感度が低下することから、第１帯状電極１１の第１電極幅Ｗ１と第２帯状電極２１の第２電極幅Ｗ２は、０．４＜Ｗ１／Ｗ２＜０．６の関係を満たすことが好ましい。なお、第１電極幅Ｗ１は、第１帯状電極１１の第２の方向Ｄ２における最大の長さであり、第２電極幅Ｗ２は、第２帯状電極２１の第１の方向Ｄ１における最大の長さである。
【0043】
また、複数の第１帯状電極１１を構成する複数の第１電極線ＥＷ１は、第１単位セルＣ１と２倍ピッチ第１単位セルＣ１２からなるメッシュパターンを形成しているため、例えば、複数の第１電極線ＥＷ１が第１単位セルＣ１のみからなるメッシュパターンを形成する場合と比較して、第１帯状電極１１における寄生容量を低減することができる。また、複数の第２帯状電極２１を構成する複数の第２電極線ＥＷ２は、交差領域Ａ１において２倍ピッチ第２単位セルＣ２２のみからなるメッシュパターンを形成しているため、例えば、複数の第２電極線ＥＷ２が第２単位セルＣ２のみからなるメッシュパターンを形成する場合と比較して、第２帯状電極２１における寄生容量を低減することができる。
【0044】
さらに、第２帯状電極２１における複数の第２電極線ＥＷ２の占有率は、第１帯状電極１１における複数の第１電極線ＥＷ１の占有率よりも小さくてもよい。
【0045】
第１帯状電極１１における複数の第１電極線ＥＷ１の占有率とは、平面視において、１つの第１帯状電極１１に含まれる複数の第１電極線ＥＷ１の合計面積を、その第１帯状電極１１に含まれる複数の第１電極線ＥＷ１と複数の第１非接続線ＮＷ１の合計面積で除したものである。また、第２帯状電極２１における複数の第２電極線ＥＷ２の占有率とは、平面視において、１つの第２帯状電極２１に含まれる複数の第２電極線ＥＷ２の合計面積を、その第２帯状電極２１に含まれる複数の第２電極線ＥＷ２と複数の第２非接続線ＮＷ２の合計面積で除したものである。
【0046】
ここで、第２帯状電極２１の第２電極幅Ｗ２は、第１帯状電極１１の第１電極幅Ｗ１よりも広く、一般的には、電極幅が広くなるほど、寄生容量が大きくなり、電気抵抗は小さくなる。実施の形態１のタッチパネル用電極部材３では、第２帯状電極２１における複数の第２電極線ＥＷ２の占有率は、第１帯状電極１１における複数の第１電極線ＥＷ１の占有率よりも小さくすることで、第２帯状電極２１の第２電極幅Ｗ２が第１帯状電極１１の第１電極幅Ｗ１よりも広くても、寄生容量は大きくならずに、第２帯状電極２１の電気抵抗を、第１帯状電極１１の電気抵抗と同程度にできる。これにより、第１帯状電極１１の全体の電気抵抗と第２帯状電極２１の全体の電気抵抗との差を低減し、タッチ操作の検出感度が低下することを防止できる。
【0047】
以上から、本発明の実施の形態１に係るタッチパネル用電極部材３によれば、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、画像表示装置９に使用した際のモアレの発生を抑制することができる。
【0048】
なお、図３の例において、第１帯状電極１１の複数の第１電極線ＥＷ１は、複数の第１単位セルＣ１と複数の２倍ピッチ第１単位セルＣ１２からなるメッシュパターンを形成しているが、第１帯状電極１１の電気抵抗と第２帯状電極２１の電気抵抗とが一定の範囲内にあり、タッチ操作に対する検出感度を大きく低下させるものでなければ、複数の第１電極線ＥＷ１により形成されるメッシュパターンは、異なる大きさの単位セルをさらに含むことができる。例えば、複数の第１電極線ＥＷ１により形成されるメッシュパターンは、第１単位セルＣ１の１辺の長さを３倍にした３倍ピッチ第１単位セル、または、他の形状のメッシュセルをさらに含むことができる。
【0049】
また、第１メッシュパターンＭＰ１と第２メッシュパターンＭＰ２が互いに組み合わされて形成される第３メッシュパターンＭＰ３のメッシュピッチを、第２の方向Ｄ２において隣接する２つの第３単位セルＣ３の中心間の距離と定義することができる。この場合に、第３メッシュパターンＭＰ３のメッシュピッチの大きさは、特に制限されないが、視認性を考慮して、５０μｍ～５００μｍであることが好ましく、１５０μｍ～３００μｍであることがさらに好ましい。
【0050】
第３メッシュパターンＭＰ３の構成単位となる第３単位セルＣ３は、菱形の形状を有しているが、画像表示装置９におけるモアレ抑制の観点から、この菱形の鋭角の大きさは、例えば、２０度～７０度が好ましく、菱形の１辺の長さは１００μｍ～３００μｍであることが好ましい。
【0051】
実施の形態２
実施の形態１では、第１帯状電極１１と第２帯状電極２１が互いに重なる交差領域Ａ１において、複数の第２電極線ＥＷ２は、複数の２倍ピッチ第２単位セルＣ２２からなるメッシュパターンのみを形成しているが、複数の第２電極線ＥＷ２により形成されるメッシュパターンは、これに限定されない。
実施の形態１では、第１帯状電極１１と第２帯状電極２１が互いに重なる交差領域Ａ１において、複数の第２電極線ＥＷ２は、複数の２倍ピッチ第２単位セルＣ２２からなるメッシュパターンのみを形成しているが、複数の第２電極線ＥＷ２により形成されるメッシュパターンは、これに限定されない。
【0052】
図７に、実施の形態２における第２電極層３１の第２帯状電極３２および第２ダミー電極３３の部分拡大平面図を示す。第１電極層６Ａの第１帯状電極１１と第２電極層３１の第２帯状電極３２が互いに重なる交差領域Ａ２において、第２帯状電極３２の複数の第２電極線ＥＷ２は、第２単位セルＣ２の１辺の長さを３倍にした３倍ピッチ第２単位セルＣ２３のみからなるメッシュパターンを形成している。また、複数の第２非接続線ＮＷ２は、３倍ピッチ第２単位セルＣ２３の内部に、複数の第２電極線ＥＷ２に対してギャップＧ４を隔てて配置されており、複数の第２電極線ＥＷ２と複数の第２非接続線ＮＷ２とで、ギャップＧ４が形成されている部分を含めて、複数の第２単位セルＣ２からなる第２メッシュパターンＭＰ２が形成されている。
【0053】
このように、交差領域Ａ２において、複数の第２電極線ＥＷ２は、３倍ピッチ第２単位セルＣ２３のみからなるメッシュパターンを形成するため、実施の形態２における第２帯状電極３２内の寄生容量は、実施の形態１における第２帯状電極２１内の寄生容量と比較して容易に小さくされることができ、これにより、実施の形態２のタッチパネル用電極部材をタッチパネルに使用した場合のタッチ操作に対する検出感度を容易に向上させることができる。
【0054】
図８に、領域Ｒにおけるタッチパネル用電極部材３４の部分拡大平面図を示す。図８では、図５と同様に分かりやすいように、第１帯状電極１１は比較的細い実線で描かれており、第２帯状電極３２は比較的太い実線で描かれている。第１ダミー電極１５は比較的細い点線で描かれており、第２ダミー電極３３は比較的太い点線で描かれている。しかし、実際には、金属細線ＭＷ１と金属細線ＭＷ２の線幅は互いに同じでもよい。
【0055】
実施の形態２に係るタッチパネル用電極部材３４において、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３と同様にして、複数の第１帯状電極１１および複数の第１ダミー電極１５と、複数の第２帯状電極３２および複数の第２ダミー電極３３とが互いに組み合わされて、第３単位セルＣ３が規則的に配列されて構成される第３メッシュパターンＭＰ３が形成されている。また、第１帯状電極１１における複数の第１非接続線ＮＷ１に形成された断線部Ｇ１は、実施の形態１における断線部Ｇ１と同様に、第２帯状電極３２における第２電極線ＥＷ２と交差する位置および第２非接続線ＮＷ２と交差する位置に配置されている。
【0056】
そのため、実施の形態２に係るタッチパネル用電極部材３４によれば、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３と同様に、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、画像表示装置９に使用した際のモアレの発生を抑制することができる。
【0057】
実施の形態３
実施の形態１において、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂは、いずれも透明絶縁基板５に対して視認側すなわちカバーパネル２側に配置されているが、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂの配置位置は、これに限定されない。
実施の形態１において、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂは、いずれも透明絶縁基板５に対して視認側すなわちカバーパネル２側に配置されているが、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂの配置位置は、これに限定されない。
【0058】
図９に、本発明の実施の形態３におけるタッチパネル４１の構成を示す。
タッチパネル４１は、表面４１Ａと裏面４１Ｂを有しており、裏面４１Ｂ側に表示モジュール８が配置された状態で使用される。タッチパネル４１の表面４１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル４１の観察者にとっては視認側となる。
タッチパネル４１は、表面４１Ａと裏面４１Ｂを有しており、裏面４１Ｂ側に表示モジュール８が配置された状態で使用される。タッチパネル４１の表面４１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル４１の観察者にとっては視認側となる。
【0059】
図９に示すように、タッチパネル４１は、視認側に配置されたカバーパネル２と、視認側とは反対側において、接着剤４によりカバーパネル２に接合されたタッチパネル用電極部材４２とを有している。タッチパネル用電極部材４２は、透明絶縁部材４３と、透明絶縁部材４３の視認側の面４３Ａ上に形成された第１電極層６Ａと、透明絶縁部材４３の面４３Ａとは反対側の面４３Ｂ上に形成された第２電極層６Ｂを有している。透明絶縁部材４３は、第１電極層６Ａおよび第２電極層６Ｂを支持する基板として機能しており、透明絶縁部材４３としては、樹脂基板またはガラス基板等が用いられる。また、図９に示すように、平坦化および第１電極層６Ａを保護する目的で第１電極層６Ａ上に透明絶縁部材７Ａが配置されていてもよい。また、第２電極層６Ｂを保護する目的で第２電極層６Ｂ上に透明絶縁部材７Ｂが配置されていてもよい。
【0060】
このように、透明絶縁部材４３の一方の面４３Ａ側に第１電極層６Ａが配置され、透明絶縁部材４３の他方の面４３Ｂ側に第２電極層６Ｂが配置されている場合であっても、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３のように、透明絶縁基板５の一方の面側に第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂの双方が配置されている場合と同様にして、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、タッチパネル４１を画像表示装置９に使用した際のモアレの発生を抑制することができる。
【0061】
なお、実施の形態３の態様は、実施の形態１に適用されるが、実施の形態２に対しても同様に適用されることができる。
【0062】
実施の形態４
実施の形態１のタッチパネル用電極部材３において、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂは、透明絶縁基板５に支持されているが、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂがカバーパネル２に支持されるようにタッチパネル用電極部材が構成されていてもよい。
実施の形態１のタッチパネル用電極部材３において、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂは、透明絶縁基板５に支持されているが、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂがカバーパネル２に支持されるようにタッチパネル用電極部材が構成されていてもよい。
【0063】
図１０に、本発明の実施の形態４に係るタッチパネル用電極部材５１の構成を示す。
タッチパネル用電極部材５１は、表面５１Ａと裏面５１Ｂを有しており、裏面５１Ｂ側に表示モジュール８が配置された状態で使用される。タッチパネル用電極部材５１の表面５１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル用電極部材５１の観察者にとっては視認側となる。
タッチパネル用電極部材５１は、表面５１Ａと裏面５１Ｂを有しており、裏面５１Ｂ側に表示モジュール８が配置された状態で使用される。タッチパネル用電極部材５１の表面５１Ａは、タッチ検出面であり、タッチパネル用電極部材５１の観察者にとっては視認側となる。
【0064】
図１０に示すように、タッチパネル用電極部材５１は、カバーパネル２と、カバーパネル２の視認側とは反対側の面２Ｂ上に形成された第１電極層６Ａと、第１電極層６Ａ上に形成された透明絶縁部材７Ａと、透明絶縁部材７Ａ上に形成された第２電極層６Ｂと、第２電極層６Ｂ上に形成された透明絶縁部材７Ｂとを有している。また、カバーパネル２の視認側の面２Ａは外部に開放されている。カバーパネル２は、第１電極層６Ａを支持する基板として機能しており、カバーパネル２として、例えば、ガラス基板等が用いられる。このように、実施の形態４のタッチパネル用電極部材５１は、カバーパネル２を有しており、タッチパネルとして使用されることができる。
【0065】
このように、透明絶縁基板５を有さずに、カバーパネル２上に第１電極層６Ａが形成されている場合であっても、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３のように、透明絶縁基板５の一方の面側に第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂの双方が配置されている場合と同様にして、タッチ操作の検出感度を向上させ且つ視認性を向上させるとともに、タッチパネル用電極部材５１を画像表示装置９に使用した際のモアレの発生を抑制することができる。
【0066】
なお、実施の形態４の態様は、実施の形態１に適用されるが、実施の形態２に対しても同様に適用されることができる。
【0067】
以下、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３を構成する各部材について説明する。なお、実施の形態２のタッチパネル用電極部材３４、実施の形態３のタッチパネル用電極部材４２、実施の形態４のタッチパネル用電極部材５１を構成する各部材についても、実施の形態１のタッチパネル用電極部材３を構成する各部材に準ずるものとする。
【0068】
＜透明絶縁部材＞
透明絶縁部材７Ａ、７Ｂおよび４３は、透明で電気絶縁性を有し、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂとを絶縁することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、絶縁層また後述する透明絶縁基板が用いられる。絶縁層を構成する材料として、例えば、二酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミ等の無機膜、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等を使用することができる。絶縁層としては、有機膜であることが好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。透明絶縁部材の厚みは、例えば、０.０５μｍ～７００μｍが好ましく、０．１μｍ～１００．０μｍがより好ましい。特に透明絶縁部材が有機膜の絶縁層の場合、厚みは、１．０μｍ～１０．０μｍが好ましく、１．０μｍ～３．０μｍであることがより好ましい。
透明絶縁部材７Ａ、７Ｂおよび４３は、透明で電気絶縁性を有し、第１電極層６Ａと第２電極層６Ｂとを絶縁することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、絶縁層また後述する透明絶縁基板が用いられる。絶縁層を構成する材料として、例えば、二酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミ等の無機膜、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等を使用することができる。絶縁層としては、有機膜であることが好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。透明絶縁部材の厚みは、例えば、０.０５μｍ～７００μｍが好ましく、０．１μｍ～１００．０μｍがより好ましい。特に透明絶縁部材が有機膜の絶縁層の場合、厚みは、１．０μｍ～１０．０μｍが好ましく、１．０μｍ～３．０μｍであることがより好ましい。
【0069】
＜透明絶縁基板＞
透明絶縁基板５は、透明で電気絶縁性を有し、第１電極層６Ａおよび第２電極層６Ｂを支持することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、樹脂基板またはガラス基板等が用いられる。より具体的に、透明絶縁基板５を構成する材料として、例えば、ガラス、強化ガラス、無アルカリガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：polyethylene terephthalate）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：polyethylene naphthalate）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ：cyclo-olefin polymer）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ：cyclic olefin copolymer）、ポリカーボネート（ＰＣ：polycarbonate）、アクリル樹脂、ポリエチレン（ＰＥ：polyethylene）、ポリプロピレン（ＰＰ：polypropylene）、ポリスチレン（ＰＳ：polystylene）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ：polyvinyl chloride）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ：polyvinylidene chloride）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ：cellulose triacetate）等を使用することができる。透明絶縁基板５の厚みは、例えば、２０μｍ～１１００μｍが好ましく、２０μｍ～５００μｍがより好ましい。特に、ＰＥＴのような有機樹脂基板の場合は、厚み２０μｍ～２００μｍであることが好ましく、３０μｍ～１００μｍであることがより好ましい。
透明絶縁基板５は、透明で電気絶縁性を有し、第１電極層６Ａおよび第２電極層６Ｂを支持することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、樹脂基板またはガラス基板等が用いられる。より具体的に、透明絶縁基板５を構成する材料として、例えば、ガラス、強化ガラス、無アルカリガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：polyethylene terephthalate）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：polyethylene naphthalate）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ：cyclo-olefin polymer）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ：cyclic olefin copolymer）、ポリカーボネート（ＰＣ：polycarbonate）、アクリル樹脂、ポリエチレン（ＰＥ：polyethylene）、ポリプロピレン（ＰＰ：polypropylene）、ポリスチレン（ＰＳ：polystylene）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ：polyvinyl chloride）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ：polyvinylidene chloride）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ：cellulose triacetate）等を使用することができる。透明絶縁基板５の厚みは、例えば、２０μｍ～１１００μｍが好ましく、２０μｍ～５００μｍがより好ましい。特に、ＰＥＴのような有機樹脂基板の場合は、厚み２０μｍ～２００μｍであることが好ましく、３０μｍ～１００μｍであることがより好ましい。
【0070】
透明絶縁基板５の全光線透過率は、４０％～１００％であることが好ましい。全光透過率は、例えば、ＪＩＳ Ｋ ７３７５：２００８に規定される「プラスチック--全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
【0071】
透明絶縁基板５の好適態様の１つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理および紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも１つの処理が施された処理済基板が挙げられる。上述の処理が施されることにより、処理された透明絶縁基板５の表面にＯＨ基等の親水性基が導入される。これにより、透明絶縁基板５と、第２電極層６Ｂとの密着性が向上する。また、上述の処理の中でも、第２電極層６Ｂとの密着性がより向上する点で、大気圧プラズマ処理が好ましい。
また、透明絶縁基板５を、透明絶縁部材４３として使用することもできる。その場合に、透明絶縁部材４３としては、樹脂基板であることが好ましい。
また、透明絶縁基板５を、透明絶縁部材４３として使用することもできる。その場合に、透明絶縁部材４３としては、樹脂基板であることが好ましい。
【0072】
＜下塗り層＞
透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの密着性を向上させるために、透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの間に下塗り層を配置することもできる。この下塗り層は、高分子を含んでおり、透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの密着性がより向上する。
透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの密着性を向上させるために、透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの間に下塗り層を配置することもできる。この下塗り層は、高分子を含んでおり、透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの密着性がより向上する。
【0073】
下塗り層の形成方法は特に限定されるものではないが、例えば、高分子を含む下塗り層形成用組成物を基板上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。また、高分子を含む下塗り層形成用組成物として、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、無機または高分子の微粒子を含むアクリル・スチレン系ラテックス等を使用してもよい。
【0074】
なお、必要に応じて、タッチパネル用電極部材３は、透明絶縁基板５と第２電極層６Ｂとの間に、他の層として、上述の下塗り層以外に、屈折率調整層を備えていてもよい。屈折率調整層として、例えば、屈折率を調整する酸化ジルコニウム等の金属酸化物の粒子が添加された有機層を使用できる。
【0075】
＜金属細線＞
第１電極層６Ａの複数の第１帯状電極１１および複数の第１ダミー電極１５、第２電極層６Ｂの複数の第２帯状電極２１および複数の第２ダミー電極２５を形成する金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、タッチパネル用電極部材３における視認性を確保するために、１．０μｍ～１０．０μｍの範囲内に設定された線幅を有することが望ましい。金属細線ＭＷ１およびＭＷ２が、このような線幅を有していれば、低抵抗の第１帯状電極１１および第２帯状電極２１を比較的容易に形成することができる。なお、金属細線ＭＷ１、ＭＷ２の線幅として、光学顕微鏡（キーエンス製デジタルマイクロスコープＶＨＸ－７０００）を用いて測定した値を用いる。
第１電極層６Ａの複数の第１帯状電極１１および複数の第１ダミー電極１５、第２電極層６Ｂの複数の第２帯状電極２１および複数の第２ダミー電極２５を形成する金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、タッチパネル用電極部材３における視認性を確保するために、１．０μｍ～１０．０μｍの範囲内に設定された線幅を有することが望ましい。金属細線ＭＷ１およびＭＷ２が、このような線幅を有していれば、低抵抗の第１帯状電極１１および第２帯状電極２１を比較的容易に形成することができる。なお、金属細線ＭＷ１、ＭＷ２の線幅として、光学顕微鏡（キーエンス製デジタルマイクロスコープＶＨＸ－７０００）を用いて測定した値を用いる。
【0076】
金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の厚みは、特に限定されるものではないが、０．０１μｍ～１０．００μｍが好ましく、２．００μｍ以下であることがより好ましく、０．０２μｍ～１．００μｍであることが特に好ましく、０．０２μｍ～０．６０μｍであることが最も好ましい。これにより、第１帯状電極１１および第２帯状電極２１の耐久性と、第１帯状電極１１、第１ダミー電極１５、第２帯状電極２１および第２ダミー電極２５の視認性の向上を比較的容易に実現することができる。
【0077】
金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、金属または合金を形成材料とし、例えば、銅、アルミニウムまたは銀から形成することができる。金属細線ＭＷ１およびＭＷ２には、銅が含まれることが好ましいが、銅以外の金属、例えば、金、銀等が含まれていてもよい。また、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、メッシュパターンの形成に好適な、金属銀およびゼラチンまたはアクリル・スチレン系ラテックス等の高分子バインダーが含有されたものでもよい。その他の好ましいものとして、アルミニウム、銀、モリブデン、チタンの金属およびその合金である。また、これらの積層構造であってもよく、例えば、モリブデン／銅／モリブデン、モリブデン／アルミニウム／モリブデン等の積層構造の金属細線が使用できる。
【0078】
さらに、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、例えば、金属酸化物粒子、銀ペーストおよびは銅ペースト等の金属ペースト、並びに銀ナノワイヤおよび銅ナノワイヤ等の金属ナノワイヤ粒子を含むものであってもよい。
金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の視認性を向上させるために、少なくとも金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の視認側に黒化層を形成してもよい。黒化層としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属硫化物等が使用され、代表的には、酸窒化銅、窒化銅、酸化銅、酸化モリブデン等が使用できる。
金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の視認性を向上させるために、少なくとも金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の視認側に黒化層を形成してもよい。黒化層としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属硫化物等が使用され、代表的には、酸窒化銅、窒化銅、酸化銅、酸化モリブデン等が使用できる。
【0079】
次に、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。これらの金属細線の形成方法として、例えば、スパッタ法、めっき法、銀塩法、および印刷法等が適宜利用可能である。
スパッタ法による金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。まず、スパッタにより、銅箔層を形成し、フォトリソグラフィー法により銅箔層から銅配線を形成することにより、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２を形成することができる。なお、スパッタの代わりに、いわゆる蒸着により銅箔層を形成することもできる。銅箔層は、スパッタ銅箔または蒸着銅箔以外にも、電解銅箔が利用可能である。より具体的には、特開２０１４－２９６１４号公報に記載の銅配線を形成する工程を利用することができる。
スパッタ法による金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。まず、スパッタにより、銅箔層を形成し、フォトリソグラフィー法により銅箔層から銅配線を形成することにより、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２を形成することができる。なお、スパッタの代わりに、いわゆる蒸着により銅箔層を形成することもできる。銅箔層は、スパッタ銅箔または蒸着銅箔以外にも、電解銅箔が利用可能である。より具体的には、特開２０１４－２９６１４号公報に記載の銅配線を形成する工程を利用することができる。
【0080】
めっき法による金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。例えば、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、無電解めっき下地層に無電解めっきを施すことにより下地層上に形成される金属めっき膜を用いて構成することができる。この場合、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、少なくとも金属微粒子を含有する触媒インクを基材上にパターン状に形成した後に、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することにより形成される。より具体的には、特開２０１４－１５９６２０号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を利用することができる。
【0081】
また、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２は、少なくとも金属触媒前駆体と相互作用し得る官能基を有する樹脂組成物を基材上にパターン状に形成した後、触媒または触媒前駆体を付与し、基材を無電解めっき浴に浸漬し、金属めっき膜を形成することにより形成される。より具体的には、特開２０１２－１４４７６１号公報に記載の金属被膜基材の製造方法を応用することができる。
【0082】
銀塩法による金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。まず、ハロゲン化銀が含まれる銀塩乳剤層に、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２となる露光パターンを用いて露光処理を施し、その後現像処理を行うことで、金属細線ＭＷ１およびＭＷ２を形成することができる。より具体的には、特開２０１２－６３７７号公報、特開２０１４－１１２５１２号公報、特開２０１４－２０９３３２号公報、特開２０１５－２２３９７号公報、特開２０１６－１９２２００号公報および国際公開第２０１６／１５７５８５号に記載の金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の製造方法を利用することができる。
【0083】
印刷法による金属細線ＭＷ１およびＭＷ２の形成方法について説明する。まず、導電性粉末を含有する導電性ペーストを金属細線ＭＷ１およびＭＷ２と同じパターンとなるように基板に塗布し、その後、加熱処理を施すことにより金属細線ＭＷ１およびＭＷ２を形成することができる。導電性ペーストを用いたパターン形成は、例えば、インクジェット法またはスクリーン印刷法によりなされる。導電性ペーストとしては、より具体的には、特開２０１１－２８９８５号公報に記載の導電性ペーストを利用することができる。
【0084】
＜カバーパネル＞
カバーパネル２の材質としては、強化ガラス、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ：polymethyl methacrylate）等を使用することができ、カバーパネル２の厚みは０．１ｍｍ～１．５ｍｍが好ましい。
＜接着剤＞
カバーパネル２とタッチパネル用電極部材３とを互いに接着させる接着剤４としては、光学透明粘着シート（ＯＣＡ：Optical Clear Adhesive）または光学透明粘着樹脂（ＯＣＲ：Optical Clear Resin）を使用することができ、好ましい膜厚は、１０μｍ以上２００μｍ以下である。光学透明粘着シートとしては、例えば、３Ｍ社製の８１４６シリーズの使用が可能である。
カバーパネル２の材質としては、強化ガラス、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ：polymethyl methacrylate）等を使用することができ、カバーパネル２の厚みは０．１ｍｍ～１．５ｍｍが好ましい。
＜接着剤＞
カバーパネル２とタッチパネル用電極部材３とを互いに接着させる接着剤４としては、光学透明粘着シート（ＯＣＡ：Optical Clear Adhesive）または光学透明粘着樹脂（ＯＣＲ：Optical Clear Resin）を使用することができ、好ましい膜厚は、１０μｍ以上２００μｍ以下である。光学透明粘着シートとしては、例えば、３Ｍ社製の８１４６シリーズの使用が可能である。
【0085】
ここで、一例として、スパッタ法により金属細線ＭＷ１、ＭＷ２を形成してタッチパネル用電極部材３を作製する方法を具体的に説明する。
透明絶縁基板５として、厚み１００．０μｍのＰＥＴフィルムを準備した。
透明絶縁基板５として、厚み１００．０μｍのＰＥＴフィルムを準備した。
【0086】
次に、ＰＥＴフィルム上にアクリル樹脂で下塗り層を形成した。下塗り層の厚みは１０．０μｍであった。
【0087】
次に、下塗り層上にパターニングされた第２電極層６Ｂを構成した。まず、下塗り層上に、モリブデンを厚み２０ｎｍ、銅を厚み３００ｎｍ、モリブデンを２０ｎｍとなるよう、順次スパッタにて成膜して金属層を得た。
【0088】
次に、上記金属層上にレジスト組成物を塗布し、プリベークし、その後、パターン露光してアルカリ現像した。その後、ポストベークして、第２帯状電極２１、第２パッド２２、第２周辺配線２３、第２外部接続端子２４および第２ダミー電極２５に対応するパターンを有するレジスト膜を形成した。次に、リン酸二水素アンモニウム１０質量％、酢酸アンモニウム１０質量％、過酸化水素６質量％、および、残部が水で調合されたエッチング液（ｐＨ（水素イオン指数）５．２３）を用いて、上記金属層をエッチングし、その後、レジスト膜を剥離液で剥離した。これにより、図４に示すパターンを有するパターニングされた第２電極層６Ｂを形成した。形成された第２電極層６Ｂにおいて、第２メッシュパターンＭＰ２の第２単位セルＣ２の菱形の鋭角は６０度であり、１辺の長さは３５０．０μｍであった。第２帯状電極２１の電極幅Ｗ２は、２．４３ｍｍであった。また、第２帯状電極２１および第２ダミー電極２５の金属細線ＭＷ２の線幅は３．０μｍ、厚みは０．３４μｍであった。
【0089】
次に、第２電極層６Ｂを覆うように、アクリル樹脂からなる厚み３．０μｍの透明絶縁部材７Ｂを形成した。次に、透明絶縁部材７Ｂ上にスパッタ法を用いて、第２電極層６Ｂと同様に、モリブデン／銅／モリブデンからなる金属層を形成した。次に、レジスト塗布、パターン露光、現像、エッチング、および、レジスト剥離の工程を行うことにより、第１帯状電極１１、第１パッド１２、第１周辺配線１３、第１外部接続端子１４および第１ダミー電極１５を有し、図３に示すパターンを有するパターニングされた第１電極層６Ａを形成した。形成された第１電極層６Ａにおいて、第１メッシュパターンＭＰ１の第１単位セルＣ１の菱形の鋭角は６０度であり、１辺の長さは３５０．０μｍであった。第１帯状電極１１の電極幅Ｗ１は、１．４０ｍｍであった。また、第１帯状電極１１および第１ダミー電極１５の金属細線ＭＷ１の線幅は３．０μｍ、厚みは０．３４μｍであった。
【0090】
このようにして、タッチパネル用電極部材３を得た。
タッチパネル用電極部材３の第１電極層６Ａを保護する目的で、第１電極層６Ａを覆うように、アクリル樹脂からなる厚み３．０μｍの透明絶縁部材７Ａを形成し、透明絶縁部材７Ａと、加飾層を有する厚み０．５ｍｍの強化ガラスとを、ＯＣＡを介して互いに貼り合わせて、タッチパネルを形成した。得られたタッチパネルは、タッチ感度および視認性共に良好な特性を示した。
タッチパネル用電極部材３の第１電極層６Ａを保護する目的で、第１電極層６Ａを覆うように、アクリル樹脂からなる厚み３．０μｍの透明絶縁部材７Ａを形成し、透明絶縁部材７Ａと、加飾層を有する厚み０．５ｍｍの強化ガラスとを、ＯＣＡを介して互いに貼り合わせて、タッチパネルを形成した。得られたタッチパネルは、タッチ感度および視認性共に良好な特性を示した。
【符号の説明】
【0091】
１，４１ タッチパネル、２ カバーパネル、３，３４，５１ タッチパネル用電極部材、１Ａ，４１Ａ，５１Ａ 表面、１Ｂ，４１Ｂ，５１Ｂ 裏面、４，４Ａ 接着剤、５ 透明絶縁基板、２Ａ，２Ｂ，４３Ａ，４３Ｂ 面、６Ａ 第１電極層、６Ｂ 第２電極層、７Ａ，７Ｂ，４３ 透明絶縁部材、８ 表示モジュール、９ 画像表示装置、１１ 第１帯状電極、１２ 第１パッド、１３ 第１周辺配線、１４ 第１外部接続端子、１５ 第１ダミー電極、２１，３２ 第２帯状電極、２２ 第２パッド、２３ 第２周辺配線、２４ 第２外部接続端子、２５，３３ 第２ダミー電極、Ａ１，Ａ２ 交差領域、Ｃ１ 第１単位セル、Ｃ１２ ２倍ピッチ第１単位セル、Ｃ２ 第２単位セル、Ｃ２２ ２倍ピッチ第２単位セル、Ｃ２３ ３倍ピッチ第２単位セル、Ｄ１ 第１の方向、Ｄ２ 第２の方向、ＤＷ１ 第１ダミー電極線、ＤＷ２ 第２ダミー電極線、ＥＷ１ 第１電極線、ＥＷ２ 第２電極線、Ｇ１ 断線部、Ｇ２～Ｇ５ ギャップ、ＭＰ１ 第１メッシュパターン、ＭＰ２ 第２メッシュパターン、ＭＰ３ 第３メッシュパターン、ＭＷ１，ＭＷ２ 金属細線、ＮＷ１ 第１非接続線、ＮＷ２ 第２非接続線、Ｒ 領域、Ｓ１ 透過領域、Ｓ２ 周辺領域、Ｗ１ 第１電極幅、Ｗ２ 第２電極幅。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
